[發明專利]使用經遺傳修飾的真菌細胞來進行經改善的從半乳糖醛酸的內消旋半乳糖二酸產生

有效

• 申請號: 201780044567.0
• 申請日: 2017-05-19
• 公開（公告）號: CN109477078B
• 公開（公告）日: 2023-07-25
• 發明（設計）人: J·奎瓦寧;P·理查德;Y-M·J·王
• 申請（專利權）人: 芬蘭國家技術研究中心股份公司
• 主分類號: C12N9/04
• 分類號: C12N9/04;C12P7/44;C12P7/58;C12Q1/26
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 傅宇昌

1.用于產生內消旋半乳糖二酸的方法，所述方法包括：

使經遺傳修飾從而表達D-半乳糖醛酸脫氫酶、經遺傳修飾從而具有降低的D-半乳糖醛酸還原酶活性并且通過缺失編碼JGI蛋白ID號39114、1090836和/或1121140的基因來進行修飾從而減少內消旋半乳糖二酸分解代謝的黑曲霉(Aspergillus?niger)真菌細胞與包含半乳糖醛酸的生物材料相接觸，和

回收所得的內消旋半乳糖二酸。

2.已經經遺傳修飾從而表達糖醛酸脫氫酶、經遺傳修飾從而具有降低的D-半乳糖醛酸還原酶活性并且能夠將D-半乳糖醛酸轉化成內消旋半乳糖二酸的黑曲霉真菌細胞，其中所述真菌細胞已通過缺失編碼JGI蛋白ID號39114、1090836和/或1121140的基因來進行進一步修飾從而減少內消旋半乳糖二酸分解代謝。

3.用于處理包含半乳糖醛酸的生物材料的方法，所述方法包括使經遺傳修飾從而表達糖醛酸脫氫酶、經遺傳修飾從而具有降低的D-半乳糖醛酸還原酶活性并且通過缺失編碼JGI蛋白ID號39114、1090836和/或1121140的基因來進行修飾從而減少內消旋半乳糖二酸分解代謝的黑曲霉真菌細胞與所述生物材料在合適的培養條件下相接觸。

4.權利要求1或3的方法，其中所述真菌細胞天然地能夠降解果膠。

5.權利要求1或3的方法，其中所述糖醛酸脫氫酶是異源糖醛酸脫氫酶。

6.權利要求5的方法，其中所述異源糖醛酸脫氫酶源自假單胞菌屬(Pseudomonas)或土壤桿菌屬(Agrobacterium)。

7.權利要求1或3的方法，其中編碼D-半乳糖醛酸還原酶的多核苷酸已被缺失。

8.權利要求1或3的方法，其中已經通過缺失編碼2-酮-3-脫氧-L-半乳糖酸醛縮酶的多核苷酸來進一步遺傳修飾所述真菌細胞。

9.權利要求2的真菌細胞，其中所述真菌細胞天然地能夠降解果膠。

10.權利要求2的真菌細胞，其中所述糖醛酸脫氫酶是異源糖醛酸脫氫酶。

11.權利要求10的真菌細胞，其中所述異源糖醛酸脫氫酶源自假單胞菌屬(Pseudomonas)或土壤桿菌屬(Agrobacterium)。

12.權利要求2的真菌細胞，其中編碼D-半乳糖醛酸還原酶的多核苷酸已被缺失。

13.權利要求2的真菌細胞，其中已經通過缺失編碼2-酮-3-脫氧-L-半乳糖酸醛縮酶的多核苷酸來進一步遺傳修飾所述真菌細胞。