[發明專利]用于裝配帶有不同粘結密度的用于吸收制品的彈性層壓體的方法和設備

有效

• 申請號: 201780044095.9
• 申請日: 2017-08-11
• 公開（公告）號: CN109475436B
• 公開（公告）日: 2021-08-27
• 發明（設計）人: T.D.倫澤;U.P.達拉爾;U.施耐德;T.J.斯塔特;J.米勒;M.阿塞韋多
• 申請（專利權）人: 寶潔公司
• 主分類號: A61F13/15
• 分類號: A61F13/15;B29C65/78;B29C65/00;B29C69/00;B29C65/08;B32B37/14;B32B5/02;A61F13/49
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 葛青;宋莉

1.一種用于裝配彈性層壓體的方法，所述方法包括以下步驟：

提供第一基底(206)和第二基底(230)，所述第一基底(206)和所述第二基底(230)各自包括第一表面(208,232)和相對的第二表面(210,234)、第一縱向邊緣(218,236)和第二縱向邊緣(220,238)，所述第二縱向邊緣與所述第一縱向邊緣(218,236)分開以限定沿橫向的寬度；

提供第一彈性膜(226)和第二彈性膜(228)，所述第一彈性膜(226)和所述第二彈性膜(228)中的每一者包括未拉伸的第一邊緣區域(226a,228a)和未拉伸的第二邊緣區域(226b,228b)，所述未拉伸的第二邊緣區域(226b,228b)沿所述橫向與所述未拉伸的第一邊緣區域(226a,228a)由拉伸的中心區域(226c,228c)分開；

將所述第一彈性膜(226)的所述拉伸的中心區域(226c)定位成與所述第一基底(206)的所述第二表面(210)接觸；

將所述第二彈性膜(228)的所述拉伸的中心區域(228c)定位成與所述第一基底(206)的所述第二表面(210)接觸，并且其中所述第二彈性膜(228)的所述未拉伸的第二邊緣區域(228b)沿橫向與所述第一彈性膜(226)的所述未拉伸的第一邊緣區域(226a)分開；

通過沿縱向推進所述第二基底(230)以將所述第二基底(230)的所述第一表面(232)定位成與所述第一彈性膜和所述第二彈性膜(226,228)的所述拉伸的中心區域(226c,228c)接觸來形成彈性層壓體(200)，其中所述彈性層壓體200包括第一粘結區域(Br3)和第二粘結區域(Br)，其中所述第一粘結區域(Br3)被限定在所述第一彈性膜(226)的所述拉伸的中心區域(226c)直接與所述第一基底(206)的所述第二表面(210)和所述第二基底(230)的所述第一表面(232)接觸之處，并且其中所述第二粘結區域(Br)被完全定位在所述第一粘結區域之外；

向所述彈性層壓體(200)施加第一多個超聲粘結部以限定所述第一粘結區域(Br3)中的第一粘結密度；

向所述彈性層壓體(200)施加第二多個超聲粘結部以限定所述第二粘結區域(Br)中的第二粘結密度，其中所述第一粘結密度不等于所述第二粘結密度，或者，其中所述第一粘結密度等于所述第二粘結密度并且其中所述第一多個超聲粘結部中的至少一個超聲粘結部的形狀不同于所述第二多個超聲粘結部中的至少一個超聲粘結部的形狀；以及

沿所述縱向在所述第一彈性膜(226)和所述第二彈性膜(228)之間將所述彈性層壓體(200)切割成第一彈性層壓體(202)和第二彈性層壓體(204)；

其中所述形成彈性層壓體(200)的步驟進一步包括將所述第一基底(206)定位成直接與所述第二基底(230)接觸，并且其中所述第二粘結區域(Br)被限定在所述第一基底(206)直接與所述第二基底(230)接觸之處。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一粘結密度由第一粘結頻率限定，并且所述第二粘結密度由第二粘結頻率限定。

3.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一粘結密度由第一合計粘結覆蓋率限定，并且所述第二粘結密度由第二合計粘結覆蓋率限定。

4.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中所述第一粘結密度小于所述第二粘結密度。

5.根據權利要求1所述的方法，所述方法還包括如下步驟：折疊所述第一基底(206)的第一部分以將所述第一基底(206)的第一縱向邊緣(218)定位在所述第一彈性膜(226)的所述第二邊緣區域(226b)和所述第一基底(206)的所述第二表面(210)之間，并且其中所述第一基底(206)的所述第一部分延伸到所述第二粘結區域(Br)中。

6.根據權利要求1所述的方法，所述方法還包括提供第一加強層(212)的步驟，所述加強層位于以下項之間并直接與它們接觸：所述第一彈性膜(226)的所述未拉伸的第一邊緣區域(226a)、所述第二彈性膜(228)的所述未拉伸的第二邊緣區域(228b)和所述第一基底(206)的所述第二表面(210)或所述第二基底(230)的所述第一表面(232)。