[發明專利]真空處理系統和用于真空處理一個或多個基板的方法

在審

• 申請號: 201780043570.0
• 申請日: 2017-09-18
• 公開（公告）號: CN109819663A
• 公開（公告）日: 2019-05-28
• 發明（設計）人: 史蒂文·波普;拉爾夫·林登伯格
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

一種用于沿著基板運輸方向真空處理一個或多個基板的真空處理系統，所述真空處理系統包括第一基板搬運腔室；分隔件，所述分隔件將所述第一基板搬運腔室劃分成包括第一軌道的第一子腔室和包括第二軌道的第二子腔室，所述第二子腔室相對于所述基板運輸方向布置在所述第一子腔室的下游；其中所述分隔件在所述第一基板搬運腔室的整個長度上延伸；進一步包括第二基板搬運腔室，所述第二基板搬運腔室相對于所述基板運輸方向布置在所述第一子腔室的下游和所述第二子腔室的上游。一種用于操作該真空處理系統來真空處理一個或多個基板的方法，所述方法包括在所述第一子腔室中使所述一個或多個基板脫氣，在所述第二基板搬運腔室中運輸所述一個或多個基板，在所述第二子腔室中處理所述一個或多個基板。

技術領域

本公開內容的實施方式涉及用于真空處理一個或多個基板的真空處理系統，以及用于操作該真空處理系統來真空處理一個或多個基板的方法。本公開內容的實施方式更特別地涉及真空涂覆系統以及用于操作該真空涂覆系統來真空涂覆一個或多個基板的方法。本公開內容的實施方式涉及真空涂覆系統以及用于一個或多個基板的真空涂覆的方法，例如，在顯示器制造中，更特別地是在OLED顯示器制造中。

背景技術

用于在基板上的層沉積的技術包括例如濺射沉積、熱沉積和化學氣相沉積。濺射沉積工藝可用以將材料層沉積在基板上，諸如導電材料或者絕緣材料的層。經涂覆的材料可以用于若干應用中并且用于若干技術領域中。例如，一種應用是在微電子的領域中，諸如用于產生半導體裝置。另外，用于顯示器的基板經常通過物理氣相沉積，例如濺射沉積工藝，或化學氣相沉積(CVD)進行涂覆。另外應用包括絕緣面板、具有TFT的基板、濾色器等等。

為了改善沉積在基板上的層的質量，例如純度和/或同質性，基板應該滿足關于其純度水平的高要求。

鑒于上文，克服了本領域中至少一些問題的系統和方法是有益的。本公開內容特別旨在提供用于真空處理一個或多個基板的系統和方法，特別是提供克服了本領域中至少一些問題的用于涂覆一個或多個基板的系統和方法。

發明內容

鑒于上文，提供一種用于真空處理一個或多個基板的真空處理系統，一種操作用于真空處理一個或多個基板的此真空處理系統的方法，一種真空涂覆系統以及用于在此真空涂覆系統中涂覆一個或多個基板的方法。本公開內容的其他方面、優勢和特征自權利要求、描述和附圖顯而易見。

根據本公開內容的一方面，提供一種用于沿著基板運輸方向真空處理一個或多個基板的真空處理系統。此真空處理系統包括第一基板搬運腔室和將第一基板搬運腔室劃分成第一子腔室和第二子腔室的分隔件。第一子腔室包括第一軌道并且經構造以用于傳送和/或處理一個或多個基板。第二子腔室包括第二軌道并且經構造以用于傳送和/或處理一個或多個基板。另外，第二子腔室相對于基板運輸方向布置在第一子腔室的下游。另外，分隔件在第一基板搬運腔室的整個長度上延伸。真空處理系統進一步包括第二基板搬運腔室。第二基板搬運腔室經過布置而相對于基板運輸方向在第一子腔室的下游并且相對于基板運輸方向在第二子腔室的上游。

根據本公開內容的另一方面，在本文中描述根據實施方式的真空處理系統。特別地，第二基板搬運腔室包括用于將一個或多個基板從第一軌道運輸到第二軌道的切換軌道模塊。

根據本發明的另一方面，提供一種用于沿著基板運輸方向真空處理一個或多個基板的真空處理系統。此真空處理系統包括第一基板搬運腔室和將第一基板搬運腔室劃分成第一子腔室和第二子腔室的分隔件。第一子腔室包括第一軌道。第二子腔室包括第二軌道。另外，第二子腔室相對于基板運輸方向布置在第一子腔室的下游。另外，分隔件在第一基板搬運腔室的整個長度上延伸。真空處理系統進一步包括第二基板搬運腔室。第二基板搬運腔室經過布置而相對于基板運輸方向在第一子腔室的下游并且相對于基板運輸方向在第二子腔室的上游。