[發明專利]光導引設備

在審

• 申請號: 201780043316.0
• 申請日: 2017-05-12
• 公開（公告）號: CN109477630A
• 公開（公告）日: 2019-03-15
• 發明（設計）人: 科迪·彼得森;賈斯廷·文特;A·胡斯卡;克林特·亞當斯
• 申請（專利權）人: 羅茵尼公司
• 主分類號: F21V13/00
• 分類號: F21V13/00
• 代理公司: 北京市磐華律師事務所 11336
• 代理人: 董巍;孔維青

1.一種設備，其包括：

覆蓋層，其包括在其中的空隙；

背襯層，其抵靠所述覆蓋層的第一側布置；以及

透射層，其抵靠所述覆蓋層的與所述第一側相反的第二側布置，使得腔室在所述透射層與所述背襯層之間的所述空隙內形成，所述透射層包括具有第一光透射率水平的第一區和具有第二光透射率水平的第二區，所述第二光透射率水平大于所述第一光透射率水平，并且所述透射層被定向，使得所述第一區和所述第二區中的每一者的至少一部分與所述空隙重疊，

其中光源位于在所述透射層的所述第一區與所述背襯層之間的所述腔室中。

2.根據權利要求1所述的設備，其中面向所述空隙的所述透射層的所述第一區的表面的至少一部分是至少部分地反射的。

3.根據權利要求1所述的設備，其中面向所述空隙的所述透射層的所述第二區的至少一部分包括光修正材料。

4.根據權利要求1所述的設備，其中面向所述空隙的所述透射層的所述第二區包括穿過其的孔口。

5.根據權利要求1所述的設備，其中所述光源電連接到布置在所述背襯層上的電路跡線。

6.根據權利要求1所述的設備，其中所述透射層是與所述光源電連接的電路襯底。

7.根據權利要求1所述的設備，其中所述腔室的內表面是至少部分地反射的。

8.根據權利要求1所述的設備，其中所述腔室至少部分地填充有光修正材料。

9.根據權利要求1所述的設備，其還包括覆蓋所述腔室的至少一部分并且具有半透明部分的蓋，所述蓋與所述透射層相鄰地布置，使得穿過所述透射層的所述第二區的光發射到外部環境中。

10.根據權利要求1所述的設備，其中所述空隙的內側壁是連續的，以便限定沒有拐角的周界形狀。

11.根據權利要求1所述的設備，其中所述腔室的底板包括紋理化表面或光修正材料中的至少一者。

12.一種設備，其包括：

腔室；

光源，其位于所述腔室中；

襯底，其抵靠所述腔室布置，所述襯底包括具有第一光透射率水平的第一區域和具有第二光透射率水平的第二區域，所述第二光透射率水平大于所述第一水平，所述襯底的所述第一區域和所述光源在相對于所述設備的第一位置上對準，光經由位于相對于所述設備的第二位置處的所述襯底的所述第二區域離開所述腔室，并且所述第二位置從所述第一位置橫向移位；以及

蓋，其覆蓋所述襯底的至少所述第二區域，所述蓋包括允許來自所述光源的光穿過而到達外部環境的半透明部分，

其中所述襯底的所述第一區域在所述光源上方延伸，使得所述光源不直接照射所述蓋。

13.根據權利要求12所述的設備，其中所述腔室包括光漫射區域，其中來自所述光源的所述光被執行下列操作中的至少一個：被漫射或反射，所述光漫射區域與所述第二位置對準。

14.根據權利要求12所述的設備，其中所述襯底的所述第一區域包括面向所述光源的反射表面。

15.根據權利要求12所述的設備，其中所述襯底的所述第二區域包括光修正材料。

16.根據權利要求12所述的設備，其中所述襯底的所述第二區域具有與所述第二位置對準的孔口，所述第二位置從所述第一位置橫向移位。

17.根據權利要求12所述的設備，其中所述襯底是覆蓋層，

其中所述設備還包括設置在與所述覆蓋層相對的所述腔室的一側上的電路襯底，并且

其中所述光源電連接到所述電路襯底。