[發(fā)明專利]牙科爐

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780042317.3
• 申請(qǐng)日: 2017-07-06
• 公開（公告）號(hào): CN109414311A
• 公開（公告）日: 2019-03-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 托馬斯·巴霍爾澤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 維他牙科產(chǎn)品有限公司
• 主分類號(hào): A61C13/20
• 分類號(hào): A61C13/20;F27B17/02
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 張敬強(qiáng);李平

1.一種用于燒制牙科陶瓷化合物的牙科爐，其包括：

用于接收待燒制的陶瓷元件(32)的燒制室(10)；以及

用于加熱或燒制陶瓷元件(32)的加熱裝置，

其特征在于，加熱裝置包括用于產(chǎn)生0.8-5μm范圍內(nèi)的紅外輻射的至少一個(gè)快速響應(yīng)的加熱元件(20)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的牙科爐，其特征在于，快速響應(yīng)的加熱元件(20)被設(shè)置為用于產(chǎn)生紅外輻射。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的牙科爐，其特征在于，至少一個(gè)快速響應(yīng)的加熱元件(20)被設(shè)置為用于燒制室。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的牙科爐，其特征在于，加熱元件從冷態(tài)直至達(dá)到輻射峰值的加熱在小于10秒內(nèi)發(fā)生，優(yōu)選在小于5秒內(nèi)發(fā)生。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的牙科爐，其特征在于，至少一個(gè)快速響應(yīng)的加熱元件并且優(yōu)選相關(guān)聯(lián)的室被構(gòu)造為細(xì)長主體或彎曲主體。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的牙科爐，其特征在于，在燒制室中設(shè)置有至少一個(gè)反射元件(36)，以用于朝向陶瓷元件(32)引導(dǎo)由至少一個(gè)快速響應(yīng)的加熱元件(20)發(fā)射的輻射。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的牙科爐，其特征在于，至少一個(gè)快速響應(yīng)的加熱元件(20)被反射元件(36)部分地圍繞。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的牙科爐，其特征在于，反射元件(36)在截面中觀察是拋物線形的。

9.根據(jù)權(quán)利要求6至8中任一項(xiàng)所述的牙科爐，其特征在于，反射元件(36)被構(gòu)造為細(xì)長主體、特別是部分圓柱形的主體，其優(yōu)選延伸跨過相關(guān)聯(lián)的加熱元件(20)的整個(gè)加熱長度。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的牙科爐，其特征在于，至少一個(gè)反射元件(36)設(shè)置在限定燒制室(10)的室壁(12，14，16)的內(nèi)表面上。

11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的牙科爐，其特征在于，限定燒制室(10)的室壁(12，14，16)包括隔熱件。

12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的牙科爐，其特征在于，在燒制室中設(shè)置有用于接收陶瓷元件(32)的接收元件(26)，其中接收元件(26)包括特別是吸收紅外輻射的輻射吸收材料，使得接收元件(26)用作附加的加熱元件。

13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的牙科爐，其特征在于，接收元件(26)與室壁(12)分隔開，特別是設(shè)置在距室壁一定距離處。

14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述的牙科爐，其特征在于，在燒制室(10)中待燒制的陶瓷元件附近設(shè)置有溫度測(cè)量裝置(34)。