[發明專利]用于提供用于內漏檢測圖像的系統在審
| 申請號: | 201780041855.0 | 申請日: | 2017-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN109414236A | 公開(公告)日: | 2019-03-01 |
| 發明(設計)人: | R·普羅克紹;P·B·諾埃爾;D·明策爾;J·丹格爾邁爾 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號: | A61B6/00 | 分類號: | A61B6/00;A61F2/07;A61B6/03 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;劉炳勝 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 支架移植物 造影劑 內漏檢測 計算機斷層攝影圖像 內漏 計算機斷層攝影 圖像 輻射劑量 投影數據 重建圖像 位置處 主動脈 檢測 注射 掃描 采集 重建 改進 | ||
1.一種用于在己經在人(5)的主動脈(3)內在支架移植物位置(4)處放置支架移植物(2)之后提供用于檢測內漏的圖像的系統,所述系統(1)包括:
-譜計算機斷層攝影投影數據采集單元(6),其用于在第一造影劑己經在第一時間被注射并且第二造影劑己經在第二時間被注射到所述人(5)體內后,在第三時間采集示出所述支架移植物位置(4)的譜計算機斷層攝影投影數據,其中,所述譜計算機斷層攝影投影數據對應于至少三個不同的能量譜,以及
-重建單元(10),其用于基于所采集的譜計算機斷層攝影投影數據來重建示出在所述支架移植物位置(4)處的所述第一造影劑的第一計算機斷層攝影圖像,示出在所述支架移植物位置(4)處的所述第二造影劑的第二計算機斷層攝影圖像,以及示出在沒有所述第一造影劑和所述第二造影劑的情況下在所述支架移植物位置(4)處的所述支架移植物和所述人(5)的組織的第三計算機斷層攝影圖像。
2.根據權利要求1所述的系統,其中,所述系統還包括:
-造影劑跟蹤單元(8),其用于在探測位置處跟蹤所述人(5)體內的所述第一造影劑,所述探測位置在所述支架移植物位置(4)處或附近,以及
-時間確定單元(9),其用于基于對所述第一造影劑的跟蹤來確定所述第二時間和/或所述第三時間。
3.根據權利要求2所述的系統,其中,所述時間確定單元(9)適于確定所述第一造影劑在所述探測位置處達到其峰值的峰值時間,并且適于基于所確定的峰值時間來確定所述第二時間和/或所述第三時間。
4.根據權利要求3所述的系統,其中,所述時間確定單元(9)適于確定所述第二時間,使得所述第二時間對應于以下項的差:a)所述第三時間與b)所述峰值時間與所述第一時間之間的差。
5.根據權利要求1所述的系統,其中,所述系統還包括內漏檢測單元(11),所述內漏檢測單元用于基于所述第一計算機斷層攝影圖像和/或所述第二計算機斷層攝影圖像和/或所述第三計算機斷層攝影圖像來檢測所述內漏。
6.根據權利要求5所述的系統,其中,所述內漏檢測單元(11)適于基于a)所述第一計算機斷層攝影圖像和/或所述第二計算機斷層攝影圖像與b)第三計算圖像來自動檢測所述內漏。
7.根據權利要求6所述的系統,其中,所述內漏檢測單元(11)適于:
-在所述第三計算機斷層攝影圖像中在所述支架移植物位置(4)處檢測所述支架移植物(2),
-通過使用在所述第三計算機斷層攝影圖像中對所述支架移植物(2)的所述檢測來確定在所述第一計算機斷層攝影圖像和/或所述第二計算機斷層攝影圖像中的所述支架移植物位置(4)處,所述第一造影劑和/或所述第二造影劑是否在所述支架移植物(2)之外,并且
-如果已經確定所述第一造影劑和/或所述第二造影劑在所述支架移植物(2)之外,則檢測到所述內漏。
8.根據權利要求5所述的系統,其中,所述內漏檢測單元(11)還適于基于所述第一計算機斷層攝影圖像和/所述或第二計算機斷層攝影圖像和/或所述第三計算機斷層攝影圖像來將檢測到的內漏分類為預定義組的內漏類別中的至少一種內漏類別。
9.根據權利要求8所述的系統,其中,所述內漏檢測單元(11)還適于基于相對于在所述第三計算機斷層攝影圖像中檢測到的所述支架移植物(2)的在所述第一計算機斷層攝影圖像中的所述第一造影劑的位置和/或在所述第二計算機斷層攝影圖像中的所述第二造影劑的位置來將檢測到的內漏分類為預定義組的內漏類別中的至少一種內漏類別。
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