[發明專利]用于勘探樣本的X射線熒光(XRF)分析的方法和系統

在審

• 申請號: 201780040940.5
• 申請日: 2017-06-30
• 公開（公告）號: CN109416329A
• 公開（公告）日: 2019-03-01
• 發明（設計）人: M·林特恩
• 申請（專利權）人: 聯邦科學和工業研究組織
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 張豐豪

1.一種用于制備含有無法由X射線熒光(XRF)直接檢測出的金屬或準金屬的勘探樣本以便由XRF檢測器進行分析的方法，所述方法包括：

將所述勘探樣本、消解介質以及消解組合物或消解片劑混合，所述消解組合物或消解片劑含有堿性化合物和金屬浸出劑，所述金屬浸出劑的量能夠使所述勘探樣本中的所述金屬溶解在所述消解介質中，以產生含有溶解金屬的消解混合物；以及

使所述消解混合物與收集器裝置接觸，所述收集器裝置包括吸附材料，所述吸附材料能夠集中來自所述消解混合物的溶解金屬，其中所述吸附材料被配置成與所述XRF檢測器的分析窗口相關聯，以有助于所述XRF檢測器確定所述勘探樣本中的金屬量。

2.一種用于制備含有無法由XRF直接檢測出的金屬或準金屬的勘探樣本以便由XRF檢測器進行分析的系統，所述系統包括：

消解組合物或消解片劑，所述消解組合物或消解片劑含有堿性化合物和金屬浸出劑，所述金屬浸出劑的量能夠使來自所述樣本的所述金屬溶解在消解介質中；

器皿，所述器皿用于接納所述勘探樣本、消解組合物或消解片劑，以及消解介質，所述器皿具有用于所述器皿的封閉件，以允許搖動所述器皿并且由此產生消解混合物，所述消解混合物包括溶解在所述消解介質中的溶解金屬和所述消解組合物或所述消解片劑；以及

收集器裝置，所述收集器裝置包括吸附材料，所述吸附材料能夠集中來自所述消解混合物的溶解金屬，其中所述吸附材料被配置成與所述XRF檢測器的分析窗口相關聯，以有助于所述XRF檢測器確定所述勘探樣本中的金屬量。

3.一種用于對含有無法由XRF直接檢測出的金屬或準金屬的勘探樣本進行金屬分析的系統，所述系統包括：

消解組合物或消解片劑，所述消解組合物或消解片劑含有堿性化合物和金屬浸出劑，所述金屬浸出劑的量能夠使來自所述勘探樣本的所述金屬溶解在消解介質中；

收集器裝置，所述收集器裝置包括吸附材料，所述吸附材料能夠集中來自所述消解混合物的溶解金屬，其中所述吸附材料被配置成與所述XRF檢測器的分析窗口相關聯，以有助于所述XRF檢測器確定所述勘探樣本中的金屬量；以及

XRF檢測器，所述XRF檢測器被布置成檢測所述收集器裝置上的吸附金屬。

4.如權利要求3所述的系統，所述系統還包括用于控制所述XRF檢測器的控制裝置。

5.如權利要求4所述的系統，其中所述控制裝置包括用于存儲數據和操作軟件的存儲器、提供用戶接口的控制器，以及用于數據的輸出的外部端口。

6.如權利要求3至5中任一項所述的系統，其中所述檢測器是便攜式X射線熒光(pXRF)檢測器。

7.一種分析含有無法由XRF直接檢測出的金屬或準金屬的勘探樣本的方法，所述方法包括以下步驟：

提供消解混合物，所述消解混合物包括所述勘探樣本、消解介質以及消解組合物或消解片劑，所述消解組合物或消解片劑含有堿性化合物和金屬浸出劑，所述金屬浸出劑的量能夠使來自所述勘探樣本的所述金屬溶解在所述消解介質中；

使所述消解混合物與收集器裝置接觸，所述收集器裝置包括吸附材料，所述吸附材料能夠集中來自所述消解混合物的溶解金屬，其中所述吸附材料被配置成與所述XRF檢測器的分析窗口相關聯，以有助于XRF檢測器確定所述勘探樣本中的金屬量；

將其上具有吸附金屬的所述收集器裝置與XRF檢測器相關聯；以及

利用所述XRF檢測器來測量所述收集器裝置上的吸附金屬的濃度。

8.如權利要求1所述的方法或如權利要求7所述的方法，其中所述接觸步驟執行少于24h。

9.一種用于確定含有無法由XRF直接檢測出的金屬或準金屬的勘探樣本中的金屬的收集器裝置，所述收集器裝置包括吸附材料，所述吸附材料能夠從通過消解所述勘探樣本而產生的消解混合物中集中溶解金屬，其中所述吸附材料被配置成與所述XRF檢測器的分析窗口相關聯，以有助于所述XRF檢測器確定所述勘探樣本中的金屬量。