[發明專利]相位差膜在審
| 申請號: | 201780040410.0 | 申請日: | 2017-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN109416426A | 公開(公告)日: | 2019-03-01 |
| 發明(設計)人: | 幡中伸行;葛西辰昌;松野健次;白石貴志 | 申請(專利權)人: | 住友化學株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/30 | 分類號: | G02B5/30;C09K19/38;G02F1/13363;G09F9/00;G09F9/30;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/02 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 楊宏軍;唐崢 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 相位差層 式( 2 ) 相位差膜 光學特性 式( 1 ) 波長 抑制性 漏光 式中 | ||
1.相位差膜,其具有至少2層相位差層,具有第一相位差層和第二相位差層,其中,
第一相位差層具有式(1)、式(3)及式(4)表示的光學特性,
第二相位差層具有式(2)、式(3)及式(4)表示的光學特性,
所述相位差膜具有式(2)、式(3)及式(4)表示的光學特性,
200nm<Re(550)<320nm (1)
100nm<Re(550)<160nm (2)
Re(450)/Re(550)≤1.00 (3)
1.00≤Re(650)/Re(550) (4)
式中,Re(450)表示波長450nm處的面內相位差值,Re(550)表示波長550nm處的面內相位差值,Re(650)表示波長650nm處的面內相位差值。
2.如權利要求1所述的相位差膜,所述相位差膜還具有式(5)表示的第三相位差層,
nx≈ny<nz (5)
nx表示相位差層形成的折射率橢球中的與膜平面平行的方向的主折射率,ny表示相位差層形成的折射率橢球中的與膜平面平行、且與所述nx方向正交的方向的折射率,nz表示相位差層形成的折射率橢球中的與膜平面垂直的方向的折射率。
3.如權利要求1或2所述的相位差膜,其具有式(6)及(7)表示的光學特性,
-2.0≤a*≤0.5 (6)
-0.5≤b*≤5.0 (7)
式中,a*及b*表示L*a*b*色度系統中的色度坐標。
4.如權利要求1~3中任一項所述的相位差膜,其中,第一相位差層是通過使1種以上聚合性液晶聚合而形成的涂覆層。
5.如權利要求1~4中任一項所述的相位差膜,其中,第二相位差層是通過使1種以上聚合性液晶聚合而形成的涂覆層。
6.如權利要求1~5中任一項所述的相位差膜,其中,第一相位差層的厚度為5μm以下。
7.如權利要求1~6中任一項所述的相位差膜,其中,第二相位差層的厚度為5μm以下。
8.如權利要求1~7中任一項所述的相位差膜,其中,第一相位差層及第二相位差層的厚度分別為5μm以下。
9.如權利要求1~8中任一項所述的相位差膜,其中,以隔著取向膜或不隔著取向膜的方式在基材上形成有第一相位差層,以隔著取向膜或不隔著取向膜的方式在所述第一相位差層上形成有第二相位差層。
10.如權利要求1~9中任一項所述的相位差膜,其中,以隔著取向膜或不隔著取向膜的方式在基材上形成有第二相位差層,以隔著取向膜或不隔著取向膜的方式在所述第二相位差層上形成有第一相位差層。
11.如權利要求1~9中任一項所述的相位差膜,其中,以隔著取向膜或不隔著取向膜的方式在基材的一個面上形成有第一相位差層,以隔著取向膜或不隔著取向膜的方式在基材的另一個面上形成有第二相位差層。
12.如權利要求1~9中任一項所述的相位差膜,其中,基材具有第一相位差層的光學特性,以隔著取向膜或不隔著取向膜的方式在所述基材上形成有第二相位差層。
13.如權利要求1~9中任一項所述的相位差膜,其中,基材具有第二相位差層的光學特性,以隔著取向膜或不隔著取向膜的方式在所述基材上形成有第一相位差層。
14.如權利要求1~9中任一項所述的相位差膜,其中,第一相位差層與第二相位差層的光軸所成的角度實質上為60°。
15.如權利要求7~12中任一項所述的相位差膜,其中,在第一相位差層與第二相位差層之間具有保護層。
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