[發明專利]高精準度蔽蔭掩模沉積系統及其方法

有效

• 申請號: 201780040228.5
• 申請日: 2017-05-17
• 公開（公告）號: CN109642313B
• 公開（公告）日: 2021-03-09
• 發明（設計）人: A·P·高希;F·瓦然;M·阿南丹;E·多諾霍;I·I·哈尤林;T·阿里;K·泰斯
• 申請（專利權）人: 埃馬金公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 顧晨昕

1.一種用于將第一材料沉積于襯底的沉積區域中的多個沉積位點上的系統，所述多個沉積位點布置成第一布置，其中所述系統包括：

源，其用于提供所述第一材料的第一多個汽化原子，所述第一多個汽化原子中的每一者沿傳播方向傳播，所述傳播方向以相對于垂直于由所述襯底界定的第一平面的第一方向的傳播角為特征，其中所述第一多個汽化原子具有跨越第一角范圍的第一傳播角范圍；

蔽蔭掩模，其包括布置成所述第一布置的多個孔隙；

掩?？ūP，其經配置用于僅圍繞其周邊支撐所述蔽蔭掩模，所述掩?？ūP包含使所述蔽蔭掩模向上偏置的向上斜度以減輕所述蔽蔭掩模的重力引致下垂；

精細支撐結構，其跨所述掩?？ūP中的開口延伸以支撐所述蔽蔭掩模且減小所述重力引致下垂；及

準直器，其包括具有基于使所述第一材料能夠在通過所述孔隙之后僅沉積于所述沉積位點上的可接受角范圍的高寬縱橫比的多個通道，所述準直器在所述源與所述蔽蔭掩模之間，其中所述準直器經配置以選擇性地通過包含在所述第一多個汽化原子中的第二多個汽化原子，其中所述第二多個汽化原子具有跨越第二角范圍的第二傳播角范圍，所述第二角范圍比所述第一角范圍更窄；且

其中所述高寬縱橫比界定小于或等于所述可接受角范圍的濾波角范圍。

2.根據權利要求1所述的系統，其中所述高寬縱橫比等于或大于3:1。

3.根據權利要求1所述的系統，其中所述第一材料是有機材料。

4.根據權利要求3所述的系統，其中所述第一材料是可操作以發射光的有機材料。

5.根據權利要求1所述的系統，其中所述沉積區域具有沿正交于所述第一方向的第二方向的第一長度，且其中所述源包含用于發射所述多個汽化原子的多個噴嘴，所述多個噴嘴布置成具有沿所述第二方向的第二長度的第二布置，所述第二長度大于或等于所述第一長度。

6.根據權利要求5所述的系統，其中所述源可沿第三方向相對于所述沉積區域移動，所述第一方向、所述第二方向及所述第三方向是相互正交的。

7.根據權利要求1所述的系統，其進一步包括可操作以施予所述襯底與所述準直器之間的相對運動的定位系統。

8.根據權利要求7所述的系統，其中所述源包含噴嘴的二維布置，所述噴嘴發射錐形汽化原子羽，且其中所述定位系統可操作以在平面內旋轉所述噴嘴的二維布置。

9.一種用于將第一材料沉積于在襯底上布置成第一布置的多個沉積位點上的方法，其中所述方法包括：

提供包含多個通道的準直器，所述多個通道中的每一通道具有基于使所述第一材料能夠在通過多個孔隙之后僅沉積于所述沉積位點上的可接受角范圍的高寬縱橫比，其中所述高寬縱橫比界定小于或等于所述可接受角范圍的濾波角范圍；

將具有布置成所述第一布置的所述多個孔隙的蔽蔭掩模安裝到掩模卡盤中，所述掩模卡盤經配置用于僅圍繞其周邊支撐所述蔽蔭掩模且所述掩?？ūP對所述蔽蔭掩模引致向上偏置以減輕所述蔽蔭掩模的重力引致下垂；

通過位于所述掩?？ūP的開口中的精細支撐結構支撐所述蔽蔭掩模以減小所述蔽蔭掩模的所述重力引致下垂；

在所述準直器處接收第一多個汽化原子，其中所述第一多個汽化原子以第一傳播角范圍為特征；

使第二多個汽化原子選擇性地通過所述準直器而到所述蔽蔭掩模，其中所述第二多個汽化原子以窄于所述第一傳播角范圍的第二傳播角范圍為特征，其中所述第二傳播角范圍由所述高寬縱橫比確定；以及

使所述第二多個汽化原子中的至少一些能夠通過所述多個孔隙而沉積于所述襯底上。

10.根據權利要求9所述的方法，其進一步包括：

在包含噴嘴的二維布置源處產生所述第一多個汽化原子，每一噴嘴發射錐形汽化原子羽；且

在平面內旋轉所述噴嘴的二維布置。

11.根據權利要求9所述的方法，其進一步包括提供所述掩?？ūP，使得其包含跨所述掩?？ūP中的所述開口延伸的支撐結構，其中所述支撐結構在所述蔽蔭掩模安裝在所述掩模卡盤中時支撐所述掩?？ūP。