[發(fā)明專利]衛(wèi)生出排單元

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780039686.7
• 申請日: 2017-09-15
• 公開（公告）號: CN109415891B
• 公開（公告）日: 2021-08-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: H·許爾勒;S-E·金
• 申請（專利權(quán)）人: 紐珀有限公司
• 主分類號: E03C1/084
• 分類號: E03C1/084
• 代理公司: 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 閆娜

1.一種衛(wèi)生出排單元，其中，在流動路徑(2)中設(shè)置在殼體(3)中的閥元件(4)能夠在打開位置和閉合位置之間切換，在使用位置中所述閉合位置設(shè)置在所述打開位置下方，其特征在于，閥元件(4)具有接觸面(6)，所述接觸面在所述打開位置中貼靠在殼體(3)的配合面(7)上并且在所述閉合位置中與配合面(7)間隔開，使得配合面(7)在所述閉合位置中能夠被在流動路徑(2)中的水潤濕；并且在閥元件(4)上構(gòu)成加載面(8)，所述加載面在所述打開位置中能夠被存在于流動路徑(2)中的壓力加載，使得接觸面(6)壓靠配合面(7)；構(gòu)成有能夠從殼體(3)的外部接近的操作元件(13)，借助所述操作元件能夠?qū)㈤y元件(4)從所述閉合位置中轉(zhuǎn)入所述打開位置中，所述流動路徑在所述閉合位置中比在所述打開位置中更強(qiáng)烈地被限制。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的衛(wèi)生出排單元(1)，其特征在于，加載面(8)構(gòu)成在閥元件(4)的背離接觸面(6)的一側(cè)上；和/或在閥元件(4)上構(gòu)成擠迫體(9)，所述擠迫體在所述打開位置中設(shè)置在能夠通過接觸面(6)和配合面(7)封閉的容納腔(10)中并且在所述閉合位置中至少部分地設(shè)置在容納腔(10)之外。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的衛(wèi)生出排單元(1)，其特征在于，擠迫體(9)在容納腔(10)中被引導(dǎo)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的衛(wèi)生出排單元(1)，其特征在于，擠迫體(9)在容納腔(10)中可移動地被引導(dǎo)。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的衛(wèi)生出排單元(1)，其特征在于，在擠迫體(9)和容納腔(10)的內(nèi)壁(11)之間構(gòu)成有至少一個(gè)卸壓通道(12)，經(jīng)由所述卸壓通道能夠從容納腔(10)中排出被擠出的水。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的衛(wèi)生出排單元(1)，其特征在于，卸壓通道(12)通入流動路徑(2)中。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6之一所述的衛(wèi)生出排單元(1)，其特征在于，所述操作元件(13)桿狀地構(gòu)成。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至6之一所述的衛(wèi)生出排單元(1)，其特征在于，操作元件(13)與閥元件(4)分開地構(gòu)成。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的衛(wèi)生出排單元(1)，其特征在于，操作元件(13)能夠獨(dú)立于所述閥元件運(yùn)動地構(gòu)成。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的衛(wèi)生出排單元(1)，其特征在于，借助操作元件(13)能夠覆蓋加載面(8)的一部分并且能夠相對于流動路徑(2)露出該部分。

11.根據(jù)權(quán)利要求1至6之一所述的衛(wèi)生出排單元(1)，其特征在于，操作元件(13)在殼體(3)中被引導(dǎo)。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的衛(wèi)生出排單元(1)，其特征在于，操作元件(13)在殼體(3)中可移動地被引導(dǎo)。

13.根據(jù)權(quán)利要求1至6之一所述的衛(wèi)生出排單元(1)，其特征在于，加載面(8)在所述打開位置中設(shè)置為在流動路徑(2)中連接在流動障礙物上游。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的衛(wèi)生出排單元(1)，其特征在于，所述流動障礙物通過閥元件(4)的閥座(15)形成或形成在該閥座上。

15.根據(jù)權(quán)利要求1至6之一所述的衛(wèi)生出排單元(1)，其特征在于，接觸面(6)構(gòu)成在環(huán)繞的邊沿(16)上，所述邊沿在所述閉合位置中與閥座(15)共同作用以便至少部分地閉合。

16.根據(jù)權(quán)利要求1至6之一所述的衛(wèi)生出排單元(1)，其特征在于，在流動路徑(2)中在閥元件(4)上游連接有流量調(diào)節(jié)器或流量限制器(18)。