[發明專利]用于離子源的汽化器有效
| 申請號： | 201780038355.1 | 申請日： | 2017-05-23 |
| 公開（公告）號： | CN109417005B | 公開（公告）日： | 2020-11-06 |
| 發明（設計）人： | 奎格·R·錢尼;大衛·P·斯波德萊 | 申請（專利權）人： | 瓦里安半導體設備公司 |
| 主分類號： | H01J27/02 | 分類號： | H01J27/02;H01J37/08 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人： | 楊貝貝;臧建明 |
| 地址： | 美國麻薩諸塞州格洛斯特郡*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 離子源 汽化器 | ||
1.一種汽化器，其特征在于，包括：
坩堝，在所述坩堝中能夠設置摻雜劑材料，所述坩堝具有穿過所述坩堝的側壁的開孔；
外殼體，環繞所述坩堝；
蒸汽通道，設置在所述外殼體與所述坩堝之間，其中所述開孔與所述蒸汽通道連通；
氣體噴嘴，附裝到所述外殼體的一端且與所述蒸汽通道連通；以及
襯墊，所述襯墊設置在所述坩堝與所述外殼體之間以將所述坩堝與所述外殼體隔開。
2.根據權利要求1所述的汽化器，其特征在于，包括嵌置在所述外殼體中的熱源。
3.根據權利要求1所述的汽化器，其特征在于，所述開孔設置在使得所述坩堝中的液體無法到達所述開孔的位置處。
4.根據權利要求1所述的汽化器，其特征在于，蒸汽在從所述坩堝穿過所述開孔而進入所述蒸汽通道并到達所述氣體噴嘴的路徑中行進，且其中隨著所述蒸汽沿著從所述開孔到所述氣體噴嘴的所述路徑流動，溫度升高。
5.根據權利要求1所述的汽化器，其特征在于，所述襯墊設置在所述氣體噴嘴與所述開孔之間，且所述襯墊包括使蒸汽能夠通過的開口。
6.根據權利要求1所述的汽化器，其特征在于，所述坩堝與所述外殼體熱隔絕。
7.根據權利要求6所述的汽化器，其特征在于，在所述坩堝中形成的蒸汽是在位于所述坩堝的外表面與所述外殼體的內表面之間的所述蒸汽通道中行進。
8.根據權利要求7所述的汽化器，其特征在于，所述蒸汽通過所述開孔進入所述蒸汽通道中。
9.根據權利要求8所述的汽化器，其特征在于，所述開孔設置在高度等于或大于所述摻雜劑材料的高度的位置處。
10.一種汽化器，其特征在于，包括：
坩堝，在所述坩堝中能夠設置摻雜劑材料，所述坩堝是圓柱形的，在兩端密封且具有穿過所述坩堝的側壁的開孔；
外殼體，環繞所述坩堝，其中所述外殼體的本體是圓柱形的；
蒸汽通道，設置在所述坩堝與所述外殼體之間，其中所述開孔與所述蒸汽通道連通；
其中所述外殼體包括第一端及與所述第一端相對的第二端，氣體噴嘴附裝到所述外殼體的所述第一端且與所述蒸汽通道連通；以及
襯墊，所述襯墊設置在所述坩堝與所述外殼體之間以將所述坩堝與所述外殼體隔開。
11.根據權利要求10所述的汽化器，其特征在于，所述汽化器在離子源中被取向成使得所述第一端低于所述第二端，且其中所述開孔設置在所述第二端附近。
12.根據權利要求10所述的汽化器，其特征在于，所述汽化器在離子源中被取向成使得所述第一端高于所述第二端，且其中所述開孔設置在所述第一端附近。
13.根據權利要求12所述的汽化器，其特征在于，所述襯墊設置在所述氣體噴嘴與所述開孔之間，且所述襯墊包括使蒸汽能夠通過的開口。
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