[發明專利]改進的D二聚物化驗校準

有效

• 申請號: 201780037215.2
• 申請日: 2017-06-14
• 公開（公告）號: CN109313204B
• 公開（公告）日: 2022-01-21
• 發明（設計）人: N.戈特沙爾克;F.雅格胡貝爾;M-H.湯
• 申請（專利權）人: 豪夫邁·羅氏有限公司
• 主分類號: G01N33/86
• 分類號: G01N33/86
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 劉書航;申屠偉進

1.一種提供用于光學D二聚物化驗的校準曲線的方法，包括：

a）提供具有預定的D二聚物濃度的校準器儲備溶液，

b）提供至少兩個校準器樣本，其中，從所述校準器儲備溶液得到所述至少兩個校準器樣本，其中，通過稀釋從所述校準器儲備溶液得到所有的或者除了一個之外所有的校準器樣本，

c）確定所述D二聚物化驗中的b）的所述校準器樣本的光學性質的值，

d）將所分配的濃度值分配給b）的至少一個校準器樣本，其中，分配給至少一個校準器樣本的所述所分配的濃度值與所述校準器樣本的所計算的濃度值偏離，其中所述所計算的濃度值是通過在從校準器儲備溶液得到校準器樣本的同時考慮所施加的稀釋因子而歸屬于校準器樣本的濃度值；并且其中通過將利用步驟c）中所使用的方法獲得的校準曲線與針對所述校準器儲備溶液而利用不同方法獲得的、在不同設備上獲得的或在不同設備型號上獲得的參考校準曲線進行比較來獲得所述所分配的濃度值，以及

e）基于c）的所述光學性質的值、d）的一個或多個所分配的濃度值、以及用于未對其分配所分配的濃度值的校準器樣本的所計算的濃度值來建立校準曲線。

2.如權利要求1所述的方法，其中，提供至少三個校準器樣本。

3.如權利要求1所述的方法，其中，提供至少四個校準器樣本。

4.如權利要求1所述的方法，其中，提供至少五個校準器樣本。

5.如權利要求1至4中的任何一項所述的方法，其中，所分配的濃度值被分配給至少兩個校準器樣本。

6.如權利要求1至4中的任何一項所述的方法，其中，所分配的濃度值被分配給至少三個校準器樣本。

7.如權利要求1至4中的任何一項所述的方法，其中，所分配的濃度值被分配給至少四個校準器樣本。

8.如權利要求1至4中的任何一項所述的方法，其中，所述光學性質是濁度和/或光學密度。

9.如權利要求1至4中的任何一項所述的方法，其中，所述D二聚物化驗包括：將所述校準器樣本與專門識別D二聚物的檢測試劑接觸。

10.如權利要求1至4中的任何一項所述的方法，其中，所述校準曲線是非線性的校準曲線。

11.一種用于確定樣本中的D二聚物濃度的方法，包括：

a）將所述樣本與專門結合到D二聚物的檢測試劑接觸，

b）確定a）的樣本和檢測試劑混合物的光學性質的值，

c）根據權利要求1至10中的任何一項提供校準曲線，

d）基于b）中所確定的樣本和檢測試劑混合物的所述光學性質的值以及c）的所述校準曲線來確定所述樣本中的D二聚物濃度。

12.如權利要求11所述的方法，其中，所述校準器儲備溶液和/或所述至少一個所分配的濃度值被分派給一個或多個反應劑批量。

13.如權利要求11所述的方法，其中，所述校準器儲備溶液和/或所述至少一個所分配的濃度值被分派給所述檢測試劑的批量。

14.一種用于確定樣本中的D二聚物濃度的套件，所述套件包括：校準器儲備溶液，其具有預定濃度的D二聚物；以及機器可讀的數據載體，所述數據載體在數據處理設備上根據權利要求1到10中的任何一項所述的方法建立校準曲線當中被使用，所述數據載體包括用于通過稀釋而從校準器儲備溶液得到的校準器樣本的至少一個所分配的濃度值，其中通過將利用所述套件獲得的校準曲線與針對所述校準器儲備溶液而利用不同的方法獲得的參考校準曲線進行比較來獲得所述所分配的濃度值。

15.如權利要求14所述的套件，進一步包括檢測試劑，其專門識別D二聚物。