[發(fā)明專利]吸收性物品以及吸收性物品的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780037047.7
• 申請日: 2017-06-16
• 公開（公告）號: CN109310536B
• 公開（公告）日: 2020-07-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 植田隆宏;林俊久;野田祐樹
• 申請（專利權(quán)）人: 尤妮佳股份有限公司
• 主分類號: A61F13/15
• 分類號: A61F13/15;A61F13/51;A61L15/20;A61L15/46
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務(wù)所 11038
• 代理人: 嚴鵬

1.一種吸收性物品，所述吸收性物品包括透液性片、非透液性片和所述透液性片以及非透液性片之間的吸收芯，其特征在于，

所述吸收芯包含具有羧基的高分子吸收劑，

所述吸收性物品在所述吸收芯與所述非透液性片之間具有配置有陽離子性抗菌劑的陽離子性抗菌劑配置片，

所述吸收性物品還在所述吸收芯與所述陽離子性抗菌劑配置片之間包含追加片，

所述追加片包含纖維素類纖維。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸收性物品，其中，

所述陽離子性抗菌劑作為陽離子性抗菌劑溶液配置于所述陽離子性抗菌劑配置片。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的吸收性物品，其中，

所述吸收芯還包含纖維素類纖維。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸收性物品，其中，

所述吸收芯以所述吸收芯的厚度方向的中心面為邊界劃分為上方區(qū)域以及下方區(qū)域，所述高分子吸收劑在所述上方區(qū)域內(nèi)的比率高于所述高分子吸收劑在所述下方區(qū)域內(nèi)的比率。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸收性物品，其中，

所述追加片的片密度低于所述陽離子性抗菌劑配置片的片密度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸收性物品，其中，

所述追加片具有疏水性。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸收性物品，其中，

在所述吸收芯與所述陽離子性抗菌劑配置片之間具有非透液性材料層。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸收性物品，其中，

在所述透液性片的肌膚抵接面與所述吸收芯的所穿衣服側(cè)面之間未配置陽離子性抗菌劑。

9.一種吸收性物品的制造方法，所述吸收性物品具有厚度方向，包含依次包括第1片、第2片和高分子吸收劑含有層的層疊構(gòu)造，所述第1片包含陽離子性抗菌劑以及纖維，所述第2片包含纖維素類纖維，所述高分子吸收劑含有層包含具有羧基的高分子吸收劑，其特征在于，

所述吸收性物品的制造方法包含如下步驟：

抗菌劑涂抹區(qū)域形成步驟，在第1片的一部分涂抹包含所述陽離子性抗菌劑的陽離子性抗菌劑水溶液，形成抗菌劑涂抹區(qū)域；以及

層疊構(gòu)造形成步驟，在所述抗菌劑涂抹區(qū)域形成步驟之后形成所述層疊構(gòu)造，

所述吸收性物品是權(quán)利要求1～8中任一項所述的吸收性物品，

第1片、第2片和所述高分子吸收劑含有層分別是陽離子性抗菌劑配置片、所述追加片以及所述吸收芯。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，

所述層疊構(gòu)造形成步驟包含：

第1層疊構(gòu)造形成步驟，通過層疊第1片和第2片，形成第1層疊構(gòu)造；以及

第2層疊構(gòu)造形成步驟，通過層疊第1層疊構(gòu)造和所述高分子吸收劑含有層，形成第2層疊構(gòu)造。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，

在第1層疊構(gòu)造形成步驟中，以第1片的涂抹有所述陽離子性抗菌劑水溶液的面與第2片面對的方式層疊第1片和第2片。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，

在第1層疊構(gòu)造形成步驟中，以第1片的涂抹有所述陽離子性抗菌劑的面的相反側(cè)的面與第2片面對的方式層疊第1片和第2片。

13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的方法，其中，

在所述抗菌劑涂抹區(qū)域形成步驟之后且在第1層疊構(gòu)造形成步驟之前包含粘接劑層形成步驟，該粘接劑層形成步驟將粘接劑以沿所述厚度方向與所述抗菌劑涂抹區(qū)域的至少一部分重疊的方式涂抹于第1片的與第2片面對的面或第2片的與第1片面對的面，從而形成粘接劑層。