[發(fā)明專利]質子治療設備及其規(guī)劃設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780036747.4
• 申請日: 2017-06-14
• 公開（公告）號: CN109310881B
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發(fā)明（設計）人: V·蘭加納坦;G·喬安托;M·巴拉蘇布拉馬尼安;B·佩魯馬爾;R·巴塔查爾吉
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 王英;劉炳勝

1.一種質子治療規(guī)劃設備，包括：

計算機(34)；以及

至少一個非瞬態(tài)存儲介質，其存儲能夠由所述計算機讀取和執(zhí)行以執(zhí)行包括以下項的質子治療規(guī)劃操作的指令：

根據具有至少限定范圍補償器形狀的參數(52)的質子治療計劃(50)來計算要通過在一體積上執(zhí)行質子治療而被遞送到所述體積的標稱劑量分布；

調整(66)所述質子治療計劃的所述參數，以減少所述標稱劑量分布(62)與根據具有通過所述調整的操作所調整的參數的質子治療計劃而計算的擾動劑量分布之間的差異，所述擾動劑量分布要通過在由誤差場景(64)修改的體積上執(zhí)行質子治療而被遞送到由所述誤差場景修改的體積，所述調整的操作針對誤差場景的集合(44)中的每個誤差場景而被重復；并且

存儲具有通過針對誤差場景的集合中的所有誤差場景重復的所述調整操作調整的所述質子治療計劃的所述參數的所述質子治療計劃。

2.根據權利要求1所述的質子治療規(guī)劃設備，其中，所述質子治療計劃的所述參數還定義由范圍調制器設備(16)實現(xiàn)的范圍帶。

3.根據權利要求1-2中的任一項所述的質子治療規(guī)劃設備，其中，所述質子治療規(guī)劃操作還包括：

在所述計算機(34)的顯示部件(36)上顯示根據通過所述調整的操作所調整的質子治療計劃而計算的所述擾動劑量分布的可視化，所述擾動劑量分布要通過在所述體積上執(zhí)行質子治療而被遞送到所述體積。

4.根據權利要求1-2中的任一項所述的質子治療規(guī)劃設備，其中，所述質子治療計劃的所述參數還定義質子射束孔徑橫截面。

5.根據權利要求1所述的質子治療規(guī)劃設備，其中，所述質子治療計劃操作還包括，在針對誤差場景的所述集合中的至少兩個不同誤差場景重復所述調整操作之后：

計算(72)所述標稱劑量分布(62)與要被遞送到由所述至少兩個不同誤差場景中的每個誤差場景修改的體積的每個擾動劑量分布之間的差異的聚合，所述每個擾動劑量分布是利用針對所述至少兩個不同誤差場景中的每個誤差場景重復的所述調整的操作(66)所調整的參數而計算得到的，其中，所述聚合中的每個差異由相應的加權因子加權。

6.根據權利要求5所述的質子治療規(guī)劃設備，其中，在所述差異的聚合超過閾值的條件下，針對所述至少兩個不同誤差場景中的至少一個誤差場景(74)重復所述調整操作。

7.根據權利要求5-6中的任一項所述的質子治療規(guī)劃設備，其中，所述標稱劑量分布與每個擾動劑量分布之間的差異被計算為逐體素或逐區(qū)域的差異的總和，并且對應于所述差異的所述加權因子被應用到所述逐體素或逐區(qū)域的差異并且是體素或區(qū)域位置的函數。

8.根據權利要求5-6中的任一項所述的質子治療規(guī)劃設備，其中，誤差場景所述集合(44)包括多個平移誤差場景，其中，由每個平移誤差場景修改的所述體積在一方向上被平移并且被平移以一距離，所述方向和距離均由所述平移誤差場景定義。

9.根據權利要求5-6中的任一項所述的質子治療規(guī)劃設備，其中，誤差場景的所述集合(44)包括特征體積誤差場景，其中，由所述特征體積誤差場景修改的所述體積具有包括至少部分地在所述體積內的器官或病變的特征的體積，所述體積被改變以由所述特征體積誤差場景定義的量。

10.根據權利要求9所述的質子治療規(guī)劃設備，其中，所述病變包括腫瘤。

11.根據權利要求5-6中的任一項所述的質子治療規(guī)劃設備，其中，誤差場景的所述集合(44)包括器官移動誤差場景，其中，由所述器官運動誤差場景修改的體積具有器官，所述器官至少部分地在所述體積內在一方向上移動并且移動一距離，所述方向和所述距離均由所述器官移動誤差場景定義。