[發(fā)明專利]一種介質(zhì)陶瓷材料及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201780034479.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109415265B | 公開(公告)日: | 2021-09-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曾俊;陸正武;袁亮亮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 大富科技(安徽)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C04B35/04 | 分類號(hào): | C04B35/04;C04B35/622;H01B3/12 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 李慶波 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 介質(zhì) 陶瓷材料 及其 制備 方法 | ||
1.一種介質(zhì)陶瓷材料,其特征在于,所述介質(zhì)陶瓷材料包含二氧化鈦以及氧化亞鈷;
所述介質(zhì)陶瓷材料包含質(zhì)量百分比不低于75%的[2MgO+(1+x)SiO2],質(zhì)量百分比不超過(guò)24%的二氧化鈦,以及質(zhì)量百分比不超過(guò)1%的氧化亞鈷,其中,所述氧化鎂MgO和所述二氧化硅SiO2的摩爾比為2:(1+x),0≤x≤0.2。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的材料,其特征在于,所述[2MgO+(1+x)SiO2]的質(zhì)量百分比范圍為75%-95%,所述二氧化鈦的質(zhì)量百分比范圍為4.5%-24%,所述氧化亞鈷的質(zhì)量百分比范圍為0.5%-1%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的材料,其特征在于,所述介質(zhì)陶瓷材料的介電常數(shù)εr值為6.7~11,品質(zhì)因數(shù)Q值為100000~240000GHz,諧振頻率溫度系數(shù)τf值為-65~3ppm/℃。
4.一種介質(zhì)陶瓷材料的制備方法,其特征在于,所述方法包括:
對(duì)純度為99.9%以上的氧化鎂和二氧化硅的起始原料進(jìn)行第一次高能球磨而獲得納米粉料;
對(duì)所述納米粉料進(jìn)行加熱煅燒,形成前軀體粉料;
將二氧化鈦和氧化亞鈷添加至所述前驅(qū)體粉料中,并進(jìn)行第二次高能球磨,形成陶瓷粉體;
對(duì)所述陶瓷粉體進(jìn)行加熱燒結(jié),進(jìn)而獲得所述介質(zhì)陶瓷材料;
[2MgO+(1+x)SiO2]在所述介質(zhì)陶瓷材料中的質(zhì)量百分比不低于75%,二氧化鈦在所述介質(zhì)陶瓷材料中的質(zhì)量百分比不超過(guò)24%,以及氧化亞鈷在所述介質(zhì)陶瓷材料中的質(zhì)量百分比不超過(guò)1%,其中,所述氧化鎂MgO和所述二氧化硅SiO2的摩爾比為2:(1+x),0≤x≤0.2。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述[2MgO+(1+x)SiO2]在所述介質(zhì)陶瓷材料中的質(zhì)量百分比范圍為75%-95%,所述二氧化鈦在所述介質(zhì)陶瓷材料中的質(zhì)量百分比范圍為4.5%-24%,所述氧化亞鈷在所述介質(zhì)陶瓷材料中的質(zhì)量百分比范圍為0.5%-1%。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述介質(zhì)陶瓷材料的介電常數(shù)εr值為6.7~11,品質(zhì)因數(shù)Q值為100000~240000GHz,諧振頻率溫度系數(shù)τf值為-65~3ppm/℃。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述納米粉料的煅燒溫度為850~1000℃,煅燒時(shí)間為2~4小時(shí)。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述陶瓷粉體的燒結(jié)溫度為1075~1200℃,燒結(jié)時(shí)間為2~4小時(shí)。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,在進(jìn)行所述第一次高能球磨時(shí),球料比為5~8:1,轉(zhuǎn)速為550~800轉(zhuǎn)/分鐘,球磨時(shí)間為5~20小時(shí)。
10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,在進(jìn)行所述第二次高能球磨時(shí),球料比為6~10:1,轉(zhuǎn)速為600~900轉(zhuǎn)/分鐘,球磨時(shí)間為5~9小時(shí)。
11.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述對(duì)純度為99.9%以上的氧化鎂和二氧化硅的起始原料進(jìn)行第一次高能球磨而獲得納米粉料之前,包括:
在所述起始原料中加入球磨介質(zhì)和去離子水,并進(jìn)行機(jī)械混合,混合完畢后進(jìn)行干燥處理,其中,所述起始原料、所述球磨介質(zhì)以及所述去離子水的重量比為1:1.5:2,所述起始原料、所述球磨介質(zhì)以及所述去離子水占球磨罐容積60%~80%,轉(zhuǎn)速為300~400轉(zhuǎn)/分鐘,混合時(shí)間為4~5小時(shí)。
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