[發明專利]發射紅光的磷光體及相關裝置有效
| 申請號: | 201780034265.5 | 申請日: | 2017-05-25 |
| 公開(公告)號: | CN109219646B | 公開(公告)日: | 2023-03-07 |
| 發明(設計)人: | W·W·比爾斯;J·何;F·杜;J·E·墨菲;W·E·科恩;C·D·尼爾森;C·S·林克 | 申請(專利權)人: | 通用電氣公司 |
| 主分類號: | C09K11/61 | 分類號: | C09K11/61 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 楊學春;侯穎媖 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發射 紅光 磷光體 相關 裝置 | ||
1.一種制備磷光體的方法,其包括:
獲得式Ax[MFy]:Mn4+的磷光體前體的顆粒,其中A為鋰(Li)、鈉(Na)、鉀(K)、銣(Rb)或銫(Cs)中的一種或多種,其中M為硅(Si)、鍺(Ge)、錫(Sn)、鈦(Ti)、鋯(Zr)、鋁(Al)、鎵(Ga)、銦(In)、鈧(Sc)、鉿(Hf)、釔(Y)、鑭(La)、鈮(Nb)、鉭(Ta)、鉍(Bi)或釓(Gd)中的一種或多種,其中x具有[MFy]的離子的電荷絕對值的值,并且其中y具有至少五且不大于七的值;
通過濕磨所述顆粒來減小所述磷光體前體顆粒的尺寸,其中減小所述顆粒的尺寸包括在溶解了飽和K2SiF6的HF溶液中研磨所述顆粒;以及在此之后
通過使所述顆粒與含氟氧化劑接觸來使經濕磨的顆粒退火,從而提供錳摻雜的復合氟化物磷光體。
2.根據權利要求1所述的方法,其中使所述經濕磨的顆粒在至少100攝氏度的溫度下退火。
3.根據權利要求1所述的方法,其中研磨所述顆粒將所述磷光體前體的尺寸減小至中值不大于二十二微米的粒度分布。
4.根據權利要求1所述的方法,其中研磨所述顆粒將所述磷光體前體的尺寸減小至中值不大于十五微米的粒度分布。
5.一種錳摻雜的復合氟化物磷光體,其通過根據權利要求1所述的方法制備。
6.一種照明儀器,其包括:
半導體光源;和
錳摻雜的復合氟化物磷光體,其通過根據權利要求1所述的方法制備。
7.一種背光裝置,其包括:
半導體光源;和
錳摻雜的復合氟化物磷光體,其通過根據權利要求1所述的方法制備。
8.一種制備磷光體的方法,其包括:
獲得K2SiF6:Mn4+磷光體前體的顆粒;
通過濕磨所述顆粒來減小所述磷光體前體顆粒的尺寸,其中減小所述顆粒的尺寸包括在溶解了飽和K2SiF6的HF溶液中研磨所述顆粒;以及在此之后
通過使所述顆粒與含氟氧化劑接觸來使經濕磨的顆粒退火,從而提供錳摻雜的復合氟化物磷光體。
9.根據權利要求8所述的方法,其中獲得所述顆粒包括通過以下合成所述顆粒:混合包含鉀源、硅源和錳源的溶液,從混合的溶液中沉淀所述顆粒,并且過濾所述顆粒和所述溶液的剩余部分。
10.根據權利要求8所述的方法,其中使所述經濕磨的顆粒在至少100攝氏度的溫度下退火。
11.根據權利要求8所述的方法,其中研磨所述顆粒將所述磷光體前體的尺寸減小至中值不大于二十二微米的粒度分布。
12.一種錳摻雜的復合氟化物磷光體,其通過根據權利要求8所述的方法制備。
13.一種照明儀器,其包括:
半導體光源;和
錳摻雜的復合氟化物磷光體,其通過根據權利要求8所述的方法制備。
14.一種背光裝置,其包括:
半導體光源;和
錳摻雜的復合氟化物磷光體,其通過根據權利要求8所述的方法制備。
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