[發(fā)明專利]表面檢查系統(tǒng)和表面檢查方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201780033485.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-05-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109313133B | 公開(公告)日: | 2021-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | M·理查德;F·皮勞德 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 鮑勃斯脫梅克斯股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/57 | 分類號(hào): | G01N21/57;G01N21/86;G01N21/89;G01N21/88 |
| 代理公司: | 北京德崇智捷知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11467 | 代理人: | 紀(jì)楠 |
| 地址: | 瑞士*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 表面 檢查 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種表面檢查系統(tǒng)(10),所述表面檢查系統(tǒng)(10)配置為確定出現(xiàn)在檢查區(qū)域(20)的板材元件(4)的表面上的光澤部分的位置,所述表面檢查系統(tǒng)(10)包括:
暗場(chǎng)照明器(14),其定位并配置為作為暗場(chǎng)照明照射板材元件的表面,和明場(chǎng)照明器(16),其定位并配置為作為明場(chǎng)照明照射板材元件的表面;
相機(jī)(12),其配置為獲取出現(xiàn)在檢查區(qū)域的板材元件的表面的圖像,
其中設(shè)置暗場(chǎng)照明器(14)和明場(chǎng)照明器(16)的光強(qiáng)度,使得當(dāng)被照明的板材元件具有漫反射表面時(shí),在暗場(chǎng)照明期間反射到相機(jī)的光強(qiáng)度與在明場(chǎng)照明期間反射到相機(jī)的光強(qiáng)度相同;和
圖像評(píng)估單元(18),其配置為通過把在暗場(chǎng)照明條件期間由相機(jī)獲取的線圖像減去在明場(chǎng)照明條件期間由相機(jī)獲取的線圖像,來接收?qǐng)D像并確定光澤部分的位置,對(duì)于減法反之亦然。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面檢查系統(tǒng)(10),其中所述相機(jī)(12)是線陣相機(jī),其配置為用于獲取線圖像。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面檢查系統(tǒng)(10),其中所述暗場(chǎng)照明器(14)包括單列LED,沿著所述單列設(shè)有兩個(gè)相對(duì)布置的反射器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面檢查系統(tǒng)(10),其中所述明場(chǎng)照明器(16)包括多列LED,這些列平行布置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面檢查系統(tǒng)(10),其中所述暗場(chǎng)照明器(14)的光學(xué)平面相對(duì)于中間平面(M)成角度約45°,其中所述中間平面(M)垂直于觀看區(qū)域(20)的方向。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面檢查系統(tǒng)(10),其中所述明場(chǎng)照明器(16)的光學(xué)平面相對(duì)于中間平面(M)成角度約30°,其中所述中間平面(M)垂直于觀看區(qū)域(20)的方向。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面檢查系統(tǒng)(10),其中所述相機(jī)(12)的觀看平面相對(duì)于中間平面(M)成角度約20°,其中所述中間平面(M)垂直于觀看區(qū)域(20)的方向。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面檢查系統(tǒng)(10),其中所述相機(jī)(12)在待檢查的板材元件(4)的表面的分辨率在0.1至0.6mm的范圍。
9.一種識(shí)別正在移動(dòng)通過板材元件加工機(jī)的板材元件(4)的反射表面區(qū)域的方法,通過使用根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面檢查系統(tǒng)(10)進(jìn)行所述識(shí)別,所述方法包括:
在明場(chǎng)照明條件下獲取在觀看區(qū)域(20)里的所述板材元件(4)的表面的線圖像(l16);以及
在暗場(chǎng)照明條件下獲取在所述觀看區(qū)域(20)里的所述板材元件(4)的相同表面的線圖像(l14);以及
然后通過一個(gè)減去另一個(gè)比較兩張所述線圖像(l14, l16);
當(dāng)兩張所述線圖像(l14, l16)之間的差異(Sn)高于預(yù)定閾值,則將所述表面區(qū)域識(shí)別為反射表面。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其中比較兩張所述線圖像(l14, l16)的強(qiáng)度。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其中逐個(gè)像素比較兩張所述線圖像(l14, l16)。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,所述方法進(jìn)一步包括:
基于在暗場(chǎng)照明下獲取的線圖像創(chuàng)建第一重構(gòu)圖像,以及基于在明場(chǎng)照明條件下獲取的線圖像創(chuàng)建第二重構(gòu)圖像;以及
通過比較所述第一重構(gòu)圖像和所述第二重構(gòu)圖像來識(shí)別反射表面。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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