[發明專利]用于片材元件加工機的質量控制站和用于質量控制站的照明單元在審
| 申請號: | 201780033484.1 | 申請日: | 2017-05-17 |
| 公開(公告)號: | CN109313140A | 公開(公告)日: | 2019-02-05 |
| 發明(設計)人: | M·理查德;F·皮勞德 | 申請(專利權)人: | 鮑勃斯脫梅克斯股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/89 | 分類號: | G01N21/89 |
| 代理公司: | 北京德崇智捷知識產權代理有限公司 11467 | 代理人: | 金星 |
| 地址: | 瑞士*** | 國省代碼: | 瑞士;CH |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 照明單元 質量控制 片材元件 加工機 攝像機 觀察區域 發光器 反射器 光引導 恒定的 捕獲 圖像 傳輸 | ||
1.一種用于片材元件加工機的質量控制站(2),具有至少一個攝像機(6),用于捕獲傳輸通過所述質量控制站(2)的片材元件(4)的圖像,并且還具有一個照明單元(5),所述照明單元(5)具有至少一個發光器(16)和兩個反射器(12、14),所述照明單元(5)用于將光引導到所述攝像機(6)的觀察區域上,使得盡管改變了介質厚度,但照明強度是恒定的。
2.根據權利要求1所述的質量控制站(2),其中,所述照明單元(5)包括承載所述發光器(16)的基座(10),所述發光器(16)沿所述照明單元(5)的長度延伸,所述兩個反射器(12、14)沿所述發光器(16)延伸并且布置成彼此面對,每個所述反射器(12、14)在橫截面中觀察時具有拋物線或非球面輪廓、特別是圓錐形輪廓。
3.根據權利要求1或2所述的質量控制站,其中,所述發光器(16)由彼此相鄰布置的多個LED形成。
4.根據前述權利要求中任一項所述的質量控制站,其中,所述發光器(16)布置成緊鄰所述基座(10)。
5.根據前述權利要求中任一項所述的質量控制站,其中,在所述照明單元(5)的光學平面(O5)與所述反射器(12、14)之間存在約20°的打開角度。
6.根據前述權利要求中任一項所述的質量控制站,還包括漫射器(18)。
7.根據前述權利要求中任一項所述的質量控制站,其中,所述兩個反射器(12、14)具有相同的輪廓。
8.根據前述權利要求中任一項所述的質量控制站,其中,所述照明單元(5)的長度大于200mm。
9.根據前述權利要求中任一項所述的質量控制站,其中,所述反射器(12、14)的光學平面(O5)相對于平面(P)以大約45°的角度(β)布置,平面(P)垂直于其中布置有觀察區域的平面(9)。
10.根據前述權利要求中任一項所述的質量控制站,其中,所述攝像機(6)的光學平面(O6)相對于平面(P)以大約20°的角度(α)布置,平面(P)垂直于其中布置有觀察區域的平面(9)。
11.根據前述權利要求中任一項所述的質量控制站,其中,所述發光器(16)布置成距所述觀察區域(7)60至120mm、特別是90mm。
12.一種照明單元(5),用于在前述權利要求中任一項所述的質量控制系統中使用。
13.一種用于質量控制站的照明單元(5),包括:一個底座(10),其承載沿著所述照明單元(5)的長度延伸的至少一個發光器(16)以及沿所述發光器(16)延伸并且布置成彼此面對的兩個反射器(12、14),每個所述反射器(12、14)在橫截面中觀察時具有圓錐形輪廓,所述照明單元(5)在對應于照明場的矩形區域上提供基本均勻的輻照分布,照明場在介質饋送方向上延伸一定距離,并且輻照的均勻分布存在于照明場上方的不同水平處,直到在照明場上方一定距離的水平面。
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