[發明專利]用于流體樣品分析的設備有效
| 申請號: | 201780032012.4 | 申請日: | 2017-05-16 |
| 公開(公告)號: | CN109195706B | 公開(公告)日: | 2021-12-10 |
| 發明(設計)人: | A·范雷內恩;M·H·范羅斯馬倫;H·S·范達默 | 申請(專利權)人: | 西門子醫療系統荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | B01L3/00 | 分類號: | B01L3/00;G01N21/01;G01N33/52 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 陳嵐 |
| 地址: | 荷蘭*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 流體 樣品 分析 設備 | ||
1.一種用于流體樣品分析的設備(10),包括:
- 頂部部分(20);
- 基部部分(30);
其中,所述頂部部分被配置為被定位為鄰近所述基部部分,以便在所述頂部部分與所述基部部分之間限定流體接收區域(100);
其中,所述頂部部分具有貫通開口(24),以便使得能夠與所述流體接收區域流體連通;
其中,所述基部部分包括流體接收表面(34)和從所述流體接收表面的至少部分延伸的輻射窗口(36);
其中,當所述頂部部分被定位為鄰近所述基部部分時,所述設備被配置為使得在不使用中間膜的情況下,通過所述開口供應的流體樣品在所述流體接收區域中的所述流體接收表面上側向移動;
其中,所述設備還包括輻射接收區(40),所述輻射接收區至少部分地反射輻射的至少一個波長,所述輻射接收區被定位為使得當所述頂部部分被定位為鄰近所述基部部分時所述流體接收區域的至少部分位于所述輻射接收區與所述流體接收表面之間。
2.根據權利要求1所述的設備,其中,所述開口(24)的中心限定基本垂直于所述頂部部分(20)的底表面(22)的第一軸(50);并且其中,所述輻射接收區(40)的中心限定了基本垂直于所述頂部部分(20)的所述底表面(22)的第二軸(60);并且其中,當所述頂部部分被定位為鄰近所述基部部分(30)時,所述第一軸與所述第二軸分開的距離(70)大于所述第一軸與所述開口的內邊緣(90)分開的距離(80)。
3.根據權利要求1-2中的任一項所述的設備,其中,所述頂部部分(20)的底表面(22)的區限定所述輻射接收區(40)。
4.根據權利要求1所述的設備,其中,所述流體接收區域(100)被配置為使得流體樣品的側向移動至少部分是由毛細管力引發的。
5.根據權利要求1所述的設備,其中,所述流體接收區域(100)被配置為使得在不使用主動泵的情況下,流體樣品的側向移動至少部分是由抽吸動作引發的。
6.根據權利要求1所述的設備,其中,樣品容器(110)被提供在所述頂部部分(20)的底表面(22)上和/或被提供在所述基部部分(30)的頂表面(32)上,使得所述流體接收區域是由所述頂部部分的所述底表面、所述基部部分的所述頂表面和所述樣品容器限定的基本平行的邊側體積。
7.根據權利要求1所述的設備,其中,所述開口(24)是圓形的。
8.根據權利要求1所述的設備,其中,所述開口(24)的寬度大于長度。
9.根據權利要求1所述的設備,其中,所述開口(24)的橫截面面積與樣品遞送設備的橫截面面積基本匹配。
10.根據權利要求1所述的設備,其中,所述流體接收表面(34)具有面積,并且所述開口(24)的橫截面面積基本小于所述流體接收表面的面積。
11.一種用于流體樣品分析的系統(200),包括:
- 輻射源(210);
- 根據權利要求1-9中的任一項所述的用于流體樣品分析的設備(10);
- 輻射探測器(220);以及
- 處理單元(230);
其中,所述輻射源被配置為提供輻射;
其中,所述輻射探測器被配置為探測從所述輻射接收區反射的輻射;并且
其中,所述處理單元被配置為基于根據從所述輻射接收區反射的所述輻射而導出的反射率值來確定在所述設備內流體樣品的存在。
12.根據權利要求11所述的系統,其中,所述反射率值是基于當樣品尚未被供應到所述設備時的輻射強度和當樣品已經被供應到所述設備時探測到的輻射強度來確定的。
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