[發明專利]投影透鏡有效
| 申請號: | 201780031679.2 | 申請日: | 2017-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN109154679B | 公開(公告)日: | 2021-05-14 |
| 發明(設計)人: | 中野喜博;高原浩滋;寺本美雪 | 申請(專利權)人: | 柯尼卡美能達株式會社 |
| 主分類號: | G02B1/115 | 分類號: | G02B1/115;G02B13/16;G03B21/14 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 李洋;楊林森 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 投影 透鏡 | ||
投影透鏡(LN)具有透鏡基板(10)和形成在透鏡基板(10)的表面的至少由八層構成的防反射膜(20)。從空氣側起數,防反射膜(20)的第一層(21)的材料為MgF2,第二層(22)、第四層(24)、第六層(26)以及第八層(28)的折射率為2.0~2.3,第三層(23)、第五層(25)以及第七層(27)的材料為SiO2,在設計主波長λ0=550nm的情況下的、相對于透鏡基板(10)的折射率ns的第一層(21)~第八層(28)的1/4波長光學膜厚Q1~Q8滿足預先決定的式(1)~式(8)。
技術領域
本發明涉及投影透鏡。
背景技術
近年來,具有伴隨著投影透鏡所投影的影像的高像素化而要求的成像性能提高,結構透鏡的枚數增加的趨勢。關于該趨勢,例如在針對折射率1.52的透鏡基板的表面形成以往的四層防反射膜的透鏡15枚結構的投影透鏡的情況下,在投影透鏡整體中,可見光波長范圍平均產生約5%的光的反射損失。并且,在透鏡30枚結構的投影透鏡的情況下,產生約10%的光的反射損失,有投影到被投影面的影像的亮度大幅度地降低之虞。因此,為了與結構透鏡枚數的增加對應地抑制投影透鏡的整體系統透射率的降低,針對透鏡基板,需要更低反射率、光的損失少的防反射膜。在專利文獻1中公開了與該課題的解決相關的現有技術的一個例子。
對于專利文獻1所記載的防反射膜而言,從基板側起數,在第一層形成與基板相比折射率小的材料,在第二、四、六、八層形成高折射率材料,在第三、五、七、九層形成低折射率材料,將各層的光學膜厚分別獨立地設定為與設計波長有關的規定值。由此,防止從紫外區域到紅外區域的廣泛的波長帶域中的反射。
專利文獻1:日本特開2002-267803號公報
然而,在專利文獻1所記載的現有技術中,即使是可見光波長范圍(例如420nm~690nm)的最大反射率最低的實施方式,也約為0.5%,比較高。由此,并不足以針對最近的影像的高像素化而應用于投影透鏡成為課題。
發明內容
本發明是鑒于上述的點而完成的,其目的在于提供能夠有效地抑制整體系統透射率的降低,并且能夠應對結構透鏡枚數的增加的投影透鏡。
為了解決上述的課題,本發明的特征在于,在將影像投影至被投影面的投影透鏡中,具有:透鏡基板;以及形成在上述透鏡基板的表面的至少由八層構成的防反射膜,從空氣側起數,上述防反射膜的第一層的材料為MgF2,第二層、第四層、第六層以及第八層的折射率為2.0~2.3,第三層、第五層以及第七層的材料為SiO2,在設計主波長λ0=550nm的情況下的、相對于上述透鏡基板的折射率ns的上述第一層~上述第八層的1/4波長光學膜厚Q1~Q8滿足下述式(1)~式(8),
式(1)Q1=0.05×ns+A1(0.79≤A1≤0.91)
式(2)Q2=0.09×ns+A2(1.64≤A2≤1.79)
式(3)Q3=0.10×ns+A3(1.65≤A3≤1.90)
式(4)Q4=-0.31×ns+A4(1.01≤A4≤1.23)
式(5)Q5=A5(0.10≤A5≤0.35)
式(6)Q6=0.79×ns+A6(-1.64≤A6≤0.01)
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