[發(fā)明專利]電子元件、包含半導(dǎo)體元件的結(jié)構(gòu)體及電子元件的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201780030573.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-04-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109155259B | 公開(公告)日: | 2023-02-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 堀田吉?jiǎng)t;山下廣祐 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 富士膠片株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L21/60 | 分類號(hào): | H01L21/60;H01R11/01 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 王亞愛 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電子元件 包含 半導(dǎo)體 元件 結(jié)構(gòu) 制造 方法 | ||
1.一種電子元件,其特征在于,
具有半導(dǎo)體芯片及各向異性導(dǎo)電性部件,
所述半導(dǎo)體芯片具備設(shè)置有多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的元件區(qū)域,
所述各向異性導(dǎo)電性部件為如下部件,其具備:絕緣性基材,由無機(jī)材料構(gòu)成;及由導(dǎo)電材料構(gòu)成的多個(gè)導(dǎo)通路,該多個(gè)導(dǎo)通路向所述絕緣性基材的厚度方向貫通,并以相互電絕緣的狀態(tài)設(shè)置,
所述各向異性導(dǎo)電性部件以光能夠在所述元件區(qū)域的至少兩個(gè)所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的區(qū)域中透射的方式配置在所述半導(dǎo)體芯片上,
所述各向異性導(dǎo)電性部件在所述元件區(qū)域的整個(gè)區(qū)域中配置有所述絕緣性基材,在所述元件區(qū)域的至少兩個(gè)所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的區(qū)域中,不存在所述絕緣性基材中的所述導(dǎo)通路。
2.一種包含半導(dǎo)體元件的結(jié)構(gòu)體,其特征在于,具有:
多個(gè)半導(dǎo)體芯片,具備設(shè)置有多個(gè)第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第一元件區(qū)域;
半導(dǎo)體晶片,具備多個(gè)設(shè)置有多個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第二元件區(qū)域;及
多個(gè)各向異性導(dǎo)電性部件,
所述各向異性導(dǎo)電性部件為如下部件,其具備:絕緣性基材,由無機(jī)材料構(gòu)成;及由導(dǎo)電材料構(gòu)成的多個(gè)導(dǎo)通路,該多個(gè)導(dǎo)通路向所述絕緣性基材的厚度方向貫通,并以相互電絕緣的狀態(tài)設(shè)置,
所述半導(dǎo)體芯片的所述第一元件區(qū)域與所述半導(dǎo)體晶片的所述第二元件區(qū)域經(jīng)由所述各向異性導(dǎo)電性部件接合,且所述各向異性導(dǎo)電性部件以光能夠在所述第一元件區(qū)域及所述第二元件區(qū)域的至少兩個(gè)所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的區(qū)域中透射的方式配置,
所述各向異性導(dǎo)電性部件在所述第一元件區(qū)域及所述第二元件區(qū)域的整個(gè)區(qū)域配置有所述絕緣性基材,在所述第一元件區(qū)域及所述第二元件區(qū)域的至少兩個(gè)所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的區(qū)域中,不存在所述絕緣性基材中的所述導(dǎo)通路。
3.一種電子元件的制造方法,其特征在于,
針對(duì)具備多個(gè)設(shè)置有多個(gè)第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第一元件區(qū)域的第一半導(dǎo)體晶片、將使表征各向異性導(dǎo)電性的區(qū)域形成為規(guī)定的圖案狀的各向異性導(dǎo)電性部件設(shè)置在支撐體上的各向異性導(dǎo)電材料、及具備設(shè)置有多個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第二元件區(qū)域的第二半導(dǎo)體晶片,具有如下工序:
將所述各向異性導(dǎo)電材料的所述各向異性導(dǎo)電性部件接合于所述第一半導(dǎo)體晶片的所述第一元件區(qū)域,以使光能夠在所述第一元件區(qū)域的至少兩個(gè)所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的區(qū)域中透射的工序;
移除所述各向異性導(dǎo)電材料的所述支撐體的工序;
關(guān)于所述第一半導(dǎo)體晶片,按每個(gè)所述第一元件區(qū)域進(jìn)行單片化,獲得多個(gè)半導(dǎo)體芯片的工序;以及
使用所述半導(dǎo)體芯片的所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記及所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行所述半導(dǎo)體芯片與所述第二元件區(qū)域的位置對(duì)準(zhǔn),并經(jīng)由所述各向異性導(dǎo)電性部件將所述半導(dǎo)體芯片接合于所述第二元件區(qū)域的工序;以及
所述各向異性導(dǎo)電性部件為如下部件,其具備:絕緣性基材,由無機(jī)材料構(gòu)成;及由導(dǎo)電材料構(gòu)成的多個(gè)導(dǎo)通路,該多個(gè)導(dǎo)通路向所述絕緣性基材的厚度方向貫通,并以相互電絕緣的狀態(tài)設(shè)置,
所述各向異性導(dǎo)電性部件在所述第一元件區(qū)域以及所述第二元件區(qū)域的整個(gè)區(qū)域配置有所述絕緣性基材,在所述第一元件區(qū)域以及所述第二元件區(qū)域的至少兩個(gè)所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的區(qū)域中,不存在所述絕緣性基材中的所述導(dǎo)通路。
4.一種電子元件的制造方法,其特征在于,
在具備設(shè)置有多個(gè)第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第一元件區(qū)域的、多個(gè)半導(dǎo)體芯片及具備多個(gè)第二元件區(qū)域的第二半導(dǎo)體晶片中,具有如下工序:
使用所述半導(dǎo)體芯片的所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記及第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行所述半導(dǎo)體芯片與所述第二元件區(qū)域的位置對(duì)準(zhǔn),并經(jīng)由各向異性導(dǎo)電性部件將所述半導(dǎo)體芯片接合于所述第二元件區(qū)域的工序;以及
所述第二元件區(qū)域具備多個(gè)所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,且設(shè)置有使表征各向異性導(dǎo)電性的區(qū)域形成為規(guī)定的圖案狀以使光能夠在至少兩個(gè)所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的區(qū)域中透射的所述各向異性導(dǎo)電性部件,
所述各向異性導(dǎo)電性部件為如下部件,其具備:絕緣性基材,由無機(jī)材料構(gòu)成;及由導(dǎo)電材料構(gòu)成的多個(gè)導(dǎo)通路,該多個(gè)導(dǎo)通路向所述絕緣性基材的厚度方向貫通,并以相互電絕緣的狀態(tài)設(shè)置,
所述各向異性導(dǎo)電性部件在所述第一元件區(qū)域以及所述第二元件區(qū)域的整個(gè)區(qū)域配置有所述絕緣性基材,在所述第一元件區(qū)域以及所述第二元件區(qū)域的至少兩個(gè)所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的區(qū)域中,不存在所述絕緣性基材中的所述導(dǎo)通路。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





