[發明專利]用于制備雜芳基羧酸的方法

在審

• 申請號: 201780029784.2
• 申請日: 2017-03-21
• 公開（公告）號: CN109195961A
• 公開（公告）日: 2019-01-11
• 發明（設計）人: D·P·沃克;W·H·米勒
• 申請（專利權）人: 孟山都技術公司
• 主分類號: C07D333/38
• 分類號: C07D333/38;B01J27/08;B01J27/128
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 張蓉珺;林柏楠

1.一種用于制備式II的雜芳基羧酸的方法：

所述方法包括使式Ia的化合物：

與氧氣在催化劑組分存在下在包含液體介質的氧化反應區中接觸，其中：

R¹是C₁-C₆烷基；

A是可任選獨立地被一個或多個選自由以下組成的組的取代基取代的雜芳基：羥基、鹵素、芳基、C₁-C₄烷基、C₁-C₄烷氧基、C₁-C₄鹵代烷基、C₁-C₄鹵代烷氧基、氰基或-C(O)R^a，其中R^a是氫、羥基、C₁-C₄烷基、C₁-C₄烷氧基、C₁-C₄鹵代烷基、C₁-C₄鹵代烷氧基和C₁-C₄烷基氨基；

并且其中所述催化劑組分包含選自由以下組成的組的第一過渡金屬離子：鈷、銅、錳、鐵、鋅、鋯、鎳、鈀、鎘及其混合物。

2.如權利要求1所述的方法，其中A是單環5元雜芳基或芳基稠合5元雜芳基，并且所述式Ia的化合物是式Ia-i的化合物：

其中：

X是S、O、NC(O)OR^b或NC(O)R^b；R^b是C₁-C₆烷基或芳基；

W、Y和Z各自獨立地選自由N、C和C(H)組成的組；

R¹是C₁-C₆烷基；并且

R²是以下中的一者或多者：氫、鹵素、芳基、C₁-C₄烷基、C₁-C₄烷氧基、C₁-C₄鹵代烷基、C₁-C₄鹵代烷氧基、氰基或-C(O)R²¹，R²¹是氫、羥基、C₁-C₄烷基、C₁-C₄烷氧基、C₁-C₄鹵代烷基、C₁-C₄鹵代烷氧基或C₁-C₄烷基氨基；或R²是稠合于W和Y或Y和Z的芳基。

3.如權利要求1所述的方法，其中所述式Ia的化合物是式Ia-ii的乙?；绶曰衔铮?/p>

其中：

R²是以下中的一者或多者：氫、鹵素、芳基、C₁-C₄烷基、C₁-C₄烷氧基、C₁-C₄鹵代烷基、C₁-C₄鹵代烷氧基、氰基或-C(O)R²¹，其中R²¹是氫、羥基、C₁-C₄烷基、C₁-C₄烷氧基、C₁-C₄鹵代烷基、C₁-C₄鹵代烷氧基或C₁-C₄烷基氨基；或R²是稠合于噻吩環的兩個鄰近碳的芳基。