[發明專利]輻射成像裝置、輻射成像系統、輻射成像方法和程序有效
| 申請號: | 201780025187.2 | 申請日: | 2017-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN109069089B | 公開(公告)日: | 2022-10-28 |
| 發明(設計)人: | 田村敏和 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | A61B6/00 | 分類號: | A61B6/00 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 周博俊 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 輻射 成像 裝置 系統 方法 程序 | ||
一種輻射成像系統,包括:檢測單元,被配置為檢測來自輻射源的輻射照射的劑量;第一處理單元,被配置為當基于對檢測結果進行第一處理而獲得的劑量信息超過閾值時輸出第一停止信號;第二處理單元,被配置為當基于對已經歷第一處理的信號進行第二處理而獲得的劑量信息超過閾值時輸出第二停止信號;以及控制單元,被配置為控制輻射源,以便基于第一停止信號或第二停止信號停止輻射照射。
技術領域
本發明涉及輻射成像裝置、輻射成像系統、輻射成像方法和程序。
背景技術
包括矩陣基板的輻射成像裝置已經投入實踐,作為用于醫學圖像診斷和非破壞性檢查的輻射成像裝置,其中矩陣基板包括通過組合諸如TFT(薄膜晶體管)之類的開關和諸如光電轉換元件之類的轉換元件而獲得的像素陣列。作為多功能輻射成像裝置的示例,PTL1公開了其中模擬信號從諸如光定時器之類的輻射接收部分輸入到輻射生成裝置的劑量控制單元的布置,作為用于執行輻射的劑量控制的輻射成像系統,并且執行劑量控制,使得當模擬信號的積分值超過預定閾值時,劑量控制單元停止輻射的照射。
引文列表
專利文獻
PTL 1:日本專利No.4217505
發明內容
技術問題
但是,當以模擬信號的形式從輻射成像裝置向輻射生成裝置輸出劑量信息時,模擬信號易受噪聲的影響。因此,例如,輻射捕獲系統存在如下問題:當來自輻射源的照射劑量低時,由于噪聲等的影響,用于停止輻射的照射的劑量控制的精度降級。
考慮到上述問題而做出了本發明,并且本發明提供了能夠執行控制以使用多種信號停止輻射的照射的輻射成像技術。
對問題的解決方案
根據本發明的一方面的輻射成像系統包括:
檢測單元,被配置為檢測來自輻射源的輻射照射的劑量;
第一處理單元,被配置為當基于對檢測結果的第一處理獲得的劑量信息超過閾值時輸出第一停止信號;
第二處理單元,被配置為當基于對已經歷第一處理的信號的第二處理獲得的劑量信息超過閾值時輸出第二停止信號;以及
控制單元,被配置為控制輻射源,以便基于第一停止信號或第二停止信號停止輻射照射。
根據本發明的另一方面的輻射成像裝置包括:
檢測單元,被配置為檢測來自輻射源的輻射照射的劑量;以及
信號處理單元,包括被配置為當基于對檢測結果的第一處理而獲得的劑量信息超過閾值時輸出停止信號的處理單元,以及被配置為輸出通過對已被處理單元進行第一處理的信號進行第二處理而獲得的信號的轉換處理單元。
根據本發明的再一方面的輻射成像方法包括:
使檢測單元檢測來自輻射源的輻射照射的劑量的步驟;
當基于對檢測結果進行第一處理而獲得的劑量信息超過閾值時輸出第一停止信號的步驟;
當基于對已經歷第一處理的信號進行第二處理而獲得的劑量信息超過閾值時輸出第二停止信號的步驟;以及
控制輻射源以便基于第一停止信號或第二停止信號停止輻射照射的步驟。
本發明的又一方面涉及一種計算機可讀存儲介質,存儲用于使計算機執行輻射成像方法中的每個步驟的程序,所述輻射成像方法包括:
使檢測單元檢測來自輻射源的輻射照射的劑量的步驟;
當基于對檢測結果進行第一處理而獲得的劑量信息超過閾值時輸出第一停止信號的步驟;
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