[發(fā)明專利]用于測(cè)量元素濃度的手持式分析儀和方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201780023159.7 | 申請(qǐng)日: | 2017-04-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109661570A | 公開(公告)日: | 2019-04-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 瓦倫丁·蓋龐特瑟夫;伊萬·庫(kù)拉特夫;羅曼·比約科夫;葉卡捷琳娜·范迪雅娜;謝爾蓋·帕什科;奧列格·莫拉瓦特斯基;安德烈·萊斯尼科夫;娜杰日達(dá)·科雅珍科;德米特里·奧利諾夫 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | IPG光子公司;激光出口有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/71 | 分類號(hào): | G01N21/71;G01J3/443 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 趙偉 |
| 地址: | 美國(guó)馬*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 等離子體 電離 手持式分析儀 脈沖 碳鋼 測(cè)量 元素濃度測(cè)量 多電荷離子 高脈沖能量 光脈沖序列 脈沖激光源 脈沖重復(fù)率 雙電荷離子 參數(shù)提供 測(cè)量元素 光譜分析 激光產(chǎn)生 激光功率 脈沖能量 輸出信號(hào) 信號(hào)波長(zhǎng) 樣品表面 中性原子 單電荷 短脈沖 檢測(cè) 束斑 誘導(dǎo) 激發(fā) 配置 分析 | ||
1.一種通過利用手持式分析儀測(cè)量元素濃度的方法,包括:
激勵(lì)脈沖激光,從而以0.1至50kHz的脈沖重復(fù)率輸出脈沖序列,每個(gè)脈沖具有0.01至1.5ns的持續(xù)時(shí)間以及在50和1000μJ之間的脈沖能量;
將激光束聚焦到待分析的樣品上,從而產(chǎn)生在所需波長(zhǎng)范圍內(nèi)輻射特征光譜的高溫、高電離的等離子體;
用經(jīng)聚焦的激光束掃描所述樣品的區(qū)域,以便通過單個(gè)脈沖在所述區(qū)域內(nèi)的每個(gè)位置產(chǎn)生所述等離子體,從而連續(xù)地將所述激光束聚焦在所述樣品上;以及
在光譜儀中收集等離子體輻射,從而產(chǎn)生信號(hào)輸出;以及
處理所述信號(hào)輸出,從而測(cè)量存在于樣品中的元素的濃度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,經(jīng)聚焦的激光束基本上是衍射受限的,在1.5-1.6nm波長(zhǎng)范圍發(fā)射的,并且在所述樣品的表面上具有在5至60μm范圍內(nèi)的束斑。
3.根據(jù)前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法,其中,所述至少一個(gè)光譜儀具有在1至200皮米范圍內(nèi)的分辨率以及在170和800nm之間的期望波長(zhǎng)范圍。
4.根據(jù)前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法,其中,采用雙電荷離子線CIII以約0.01%的檢測(cè)限來測(cè)量碳鋼中的碳濃度,而以在0.01%以下的檢測(cè)限來測(cè)量典型存在于所述碳鋼中的其他元素的濃度,所述其他元素包括Si、Mn、Cr、Ni、Mo、Ti、V、Cu和Al。
根據(jù)前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法,還包括確定鋼等級(jí)。
5.根據(jù)前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法,還包括顯示元素濃度的測(cè)量結(jié)果。
6.根據(jù)前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法,還包括在掃描時(shí)對(duì)經(jīng)聚焦的激光束進(jìn)行自動(dòng)聚焦。
7.一種元素濃度測(cè)量的手持式分析儀,包括:
脈沖激光源,被配置為以0.1至50kHz的脈沖重復(fù)率輸出具有信號(hào)波長(zhǎng)的信號(hào)光脈沖的序列,其中,所述光信號(hào)脈沖均具有0.01至1.5ns的持續(xù)時(shí)間以及在50至1000uJ之間的脈沖能量;
聚焦透鏡(或透鏡組合),每個(gè)脈沖入射到所述聚焦透鏡(或透鏡組合)上,并且所述聚焦透鏡(或透鏡組合)可沿著傳播路徑可控制地移位,以將信號(hào)光脈沖聚焦成樣品處的焦斑,從而激光誘導(dǎo)輻射特征光譜的高溫高電離等離子體(等離子體),其中,所述焦斑在5到60μm范圍內(nèi)變化;
掃描儀,被配置為用經(jīng)聚焦光束掃掠所述樣品的表面,以便通過單個(gè)脈沖在每個(gè)照射的表面位置處產(chǎn)生所述等離子體;
至少一個(gè)光譜儀,被配置為從所述等離子體接收光,產(chǎn)生描述光譜的信息并產(chǎn)生信號(hào)輸出;以及
處理器,用于處理所述信號(hào)輸出,從而測(cè)量存在于樣品中的元素的濃度。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的手持式分析儀,其中,所述激光源包括被動(dòng)調(diào)Q激光器,包括:
摻鐿(Yb)固態(tài)增益介質(zhì),輸出基波波長(zhǎng)的泵浦光,并設(shè)置有在基波波長(zhǎng)下具有高反射性的輸入鏡;
輸出耦合器,在基波波長(zhǎng)下具有高反射性,并與所述輸入鏡針對(duì)基波光限定激光腔;
可飽和吸收器,被配置為產(chǎn)生泵浦光脈沖,并位于所述輸入鏡和所述輸出耦合器之間的所述激光腔中;以及
光學(xué)參量振蕩器(OPO),位于所述可飽和吸收器旁,并被配置有諧振器,所述諧振器限定在所述輸出耦合器和在所述基波波長(zhǎng)下透明的第二鏡之間,所述OPO具有被布置在所述諧振器內(nèi)的非線性晶體以將所述基波光頻率轉(zhuǎn)換為信號(hào)波長(zhǎng)長(zhǎng)于所述基波波長(zhǎng)的信號(hào)光,其中,所述第二鏡在所述信號(hào)波長(zhǎng)下是高反射性的,而所述輸出耦合器在所述信號(hào)波長(zhǎng)下是部分透明的。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的手持式分析儀,還包括泵浦源,所述泵浦源以范圍在940和950nm之間的子泵浦波長(zhǎng)來泵浦所述摻Y(jié)b固態(tài)增益介質(zhì),所述摻Y(jié)b固態(tài)介質(zhì)包括Yb:YAG晶體,所述Yb:YAG晶體工作在1020-1050nm范圍內(nèi)的基波波長(zhǎng)下,所述光學(xué)吸收器是Cr:YAG晶體,并且所述非線性晶體是產(chǎn)生范圍在1500-1600nm之間的信號(hào)波長(zhǎng)的非臨界匹配的KTP、KTA、RTP或RTA。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





