[發明專利]用于從入射電磁波形成近區中的至少一個聚焦波束的設備

有效

• 申請號: 201780022365.6
• 申請日: 2017-03-24
• 公開（公告）號: CN109073910B
• 公開（公告）日: 2021-05-14
• 發明（設計）人: A.鮑里斯金;L.布隆德
• 申請（專利權）人: 交互數字CE專利控股公司
• 主分類號: G02B27/56
• 分類號: G02B27/56;B82Y20/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 劉茵

1.一種包括介電材料層的設備，所述介電材料層嵌入有包括核心和外殼的雙層元件，所述外殼具有第一折射指數值，并且所述核心具有大于所述第一折射指數值的第二折射指數值，其中從根據所述設備上的入射電磁波的、傳播通過所述外殼的基部和所述核心的基部的部分的干涉而生成的波束的組合中獲得聚焦波束，并且其中所述核心包括相對于所述入射電磁波的到達方向定義的基部表面，所述基部表面包括相對的邊緣線，所述相對的邊緣線中的至少一個是其形狀和所述基部表面與所述核心的側向表面之間的關聯底角控制所述聚焦波束的形狀的線。

2.根據權利要求1所述的設備，其中所述核心具有從由柱、棱柱和椎組成的組中選擇的幾何形狀。

3.根據權利要求2所述的設備，其中所述幾何形狀是斜向的和/或截斷的和/或包括圓角頂表面。

4.根據權利要求1所述的設備，其中所述相對的邊緣線之間的距離具有至少λ₂/2的最小長度，其中λ₂是所述入射電磁波在所述核心的材料中的波長。

5.根據權利要求1所述的設備，所述相對的邊緣線中的至少一個具有至少λ₂的長度，其中λ₂是所述入射電磁波在所述核心的材料中的波長。

6.根據權利要求1所述的設備，其中所述介電材料層具有等于所述第二折射指數值的第三折射指數值。

7.根據權利要求1所述的設備，其中所述外殼包括相對于所述入射電磁波的到達方向定義的第一基部表面，以及與所述介電材料層連接的第一側向表面，并且其中所述基部表面的邊緣的所述邊緣線中的每一個與所述第一側向表面之間的最小距離等于至少λ₂/2，其中λ₂是所述入射電磁波在所述核心中的波長。

8.根據權利要求1所述的設備，其中所述外殼具有從由柱、棱柱和椎組成的組中選擇的幾何形狀。

9.根據權利要求1所述的設備，其中所述設備還包括形成鄰接所述介電材料層的基板的層。

10.根據權利要求9所述的設備，其中所述設備還包括形成覆板的層，所述介電材料層位于所述基板與所述覆板之間。

11.根據權利要求10所述的設備，其中所述基板和所述覆板由與所述介電材料層相同的介電材料制成。

12.根據權利要求1所述的設備，其中所述介電材料層是從由玻璃、塑料和聚合物材料組成的組中選擇的。

13.根據權利要求10所述的設備，其中所述覆板的材料是從由玻璃、塑料、聚合物材料、液體和氣體組成的組中選擇的。

14.根據權利要求1所述的設備，其中所述外殼是在所述介電材料層中形成的腔。

15.根據權利要求10所述的設備，其中所述外殼是在所述介電材料層中形成的腔，并且其中當所述覆板是氣體或液體時，所述腔填充有相同的氣體或液體。

16.根據權利要求1所述的設備，其中所述外殼的大小控制所述聚焦波束的形狀。