[發(fā)明專利]用于縮短納米壓印光刻的填充時(shí)間的壓印抗蝕劑和基材預(yù)處理

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780021958.0
• 申請(qǐng)日: 2017-03-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108885394B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-02-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉衛(wèi)軍;蒂莫西·布賴恩·斯塔霍維亞克;詹姆斯·P·德?lián)P;尼亞茲·科斯納蒂諾夫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/00
• 分類號(hào): G03F7/00;B29C59/02;B82Y10/00
• 代理公司: 北京魏?jiǎn)W(xué)律師事務(wù)所 11398
• 代理人: 魏?jiǎn)W(xué)

1.一種納米壓印光刻法，其特征在于，其包括：

將預(yù)處理組合物配置在基材上以在所述基材上形成液體預(yù)處理涂層，其中所述預(yù)處理組合物包括第一聚合性組分；

將壓印抗蝕劑的離散部分配置在所述液體預(yù)處理涂層上，所述壓印抗蝕劑的各離散部分覆蓋所述基材的目標(biāo)區(qū)域，其中所述壓印抗蝕劑為聚合性組合物并且包括氟化表面活性劑和氟化聚合性組分中的至少一者；

隨著所述壓印抗蝕劑的各離散部分展開(kāi)超出其目標(biāo)區(qū)域，在所述基材上形成復(fù)合聚合性涂層，其中所述復(fù)合聚合性涂層包括所述預(yù)處理組合物和所述壓印抗蝕劑的混合物；

將所述復(fù)合聚合性涂層與納米壓印光刻模板的表面接觸；并且

使所述復(fù)合聚合性涂層聚合以在所述基材上產(chǎn)生復(fù)合聚合物層，

其中所述預(yù)處理組合物與空氣之間的界面能超過(guò)所述壓印抗蝕劑與空氣之間的界面能至少1mN/m且25mN/m以下，并且所述壓印抗蝕劑在所述納米壓印光刻模板的表面上的接觸角小于15°。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米壓印光刻法，其中所述壓印抗蝕劑包括：

0wt％～80wt％的一種或多種單官能丙烯酸酯和20wt％～98wt％的一種或多種雙官能或多官能丙烯酸酯，所述一種或多種單官能丙烯酸酯和/或所述一種或多種雙官能或多官能丙烯酸酯任選地包括氟化聚合性組分；

1wt％～10wt％的一種或多種光引發(fā)劑；和

1wt％～10wt％的一種或多種表面活性劑，所述一種或多種表面活性劑任選地包括氟化表面活性劑；

所述壓印抗蝕劑中的所有成分之和為100wt％。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的納米壓印光刻法，其中所述壓印抗蝕劑包括90wt％～98wt％的一種或多種雙官能或多官能丙烯酸酯并且基本上不包括單官能丙烯酸酯，或者其中所述壓印抗蝕劑包括一種或多種所述單官能丙烯酸酯和20wt％～75wt％的一種或多種雙官能或多官能丙烯酸酯。

4.根據(jù)上述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的納米壓印光刻法，其中所述壓印抗蝕劑包括氟化聚合性組分并且不包括氟化表面活性劑。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的納米壓印光刻法，其中所述氟化聚合性組分為氟化丙烯酸酯。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的納米壓印光刻法，其中所述氟化丙烯酸酯具有以下結(jié)構(gòu)之一：

其中，R為氟化烷基或氟化芳基。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的納米壓印光刻法，其中R為全氟烷基或全氟芳基。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的納米壓印光刻法，其中所述氟化丙烯酸酯包括以下中的至少一者：

1H,1H,6H,6H-全氟-1,6-己二醇二丙烯酸酯，

1H,1H-全氟-正辛基丙烯酸酯，

1H,1H-全氟-正癸基丙烯酸酯，

丙烯酸五氟苯酯，

1,1,1,3,3,3-六氟異丙基丙烯酸酯，

1H,1H,3H-六氟丁基丙烯酸酯，

1H,1H,2H,2H-十七氟癸基丙烯酸酯，

1H,1H,5H-八氟戊基丙烯酸酯，

2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-十二氟庚基丙烯酸酯，

3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12-二十一氟十二烷基丙烯酸酯，

2,2,3,3,4,4,4-七氟丁基丙烯酸酯，

2,2,3,3,3-五氟丙基丙烯酸酯，

3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-十三氟辛基丙烯酸酯，和

2,2-雙(三氟甲基)-1,3-丙二醇二丙烯酸酯。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的納米壓印光刻法，其中所述壓印抗蝕劑包括氟化表面活性劑和氟化聚合性組分。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的納米壓印光刻法，其中所述壓印抗蝕劑包括1wt％～10wt％的所述氟化聚合性組分，1wt％～10wt％的所述氟化表面活性劑，或者包括二者。