[發明專利]振動滾磨方法和振動滾磨系統在審
| 申請號: | 201780020198.1 | 申請日: | 2017-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN109070306A | 公開(公告)日: | 2018-12-21 |
| 發明(設計)人: | 棚橋茂;荻原直幸 | 申請(專利權)人: | 新東工業株式會社 |
| 主分類號: | B24B31/06 | 分類號: | B24B31/06;B24B31/12 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 李洋;青煒 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 研磨 治具 滾磨 研磨槽 旋轉軸線 研磨介質 中心旋轉 底面 分離距離 內支承 粒徑 流動 | ||
1.一種振動滾磨方法,使用振動滾磨系統,該振動滾磨系統具備:在其內部具有底面的研磨槽;以及能夠對工件進行保持并能夠以旋轉軸線為中心旋轉的研磨用治具,
其中,所述振動滾磨方法包含:
在所述研磨用治具的最下部從所述底面分離的狀態下在所述研磨槽內支承所述研磨用治具,且研磨用治具的最下部與所述底面的分離距離d為研磨介質的粒徑以上的工序;
使所述研磨介質在所述研磨槽內流動的工序;以及
在所述研磨用治具的最下部從所述底面分離的狀態下使所述研磨用治具以所述旋轉軸線為中心旋轉的工序。
2.根據權利要求1所述的振動滾磨方法,其中,
從沿著與所述旋轉軸線正交且通過所述底面的中心的平面的剖面觀察,在所述研磨槽內流動的所述研磨介質的表面的以所述底面為基準的最大高度設為H1,最小高度設為H2時,
所述分離距離d為(H1+H2)/4以下。
3.根據權利要求1或2所述的振動滾磨方法,其中,
所述工件具有扁平形狀。
4.根據權利要求3所述的振動滾磨方法,其中,
所述研磨用治具具備:
第一防護部件和第二防護部件,它們具有外形形狀比工件大的圓盤狀并配置為隔著收納空間相互對置;以及
固定部件,其以使所述工件的整體位于所述收納空間內的方式在所述收納空間內固定所述工件,
在所述第一防護部件和所述第二防護部件分別形成有與所述收納空間相通的窗部,
所述研磨介質能夠穿過所述第一防護部件的外緣與所述第二防護部件的外緣之間的開口以及所述窗部,在所述收納空間的內外通過。
5.根據權利要求1~4中任一項所述的振動滾磨方法,其中,
在所述研磨槽內使研磨介質流動的工序中,使研磨介質以在所述研磨槽內描繪圓弧狀的軌跡的方式流動,
在使所述研磨用治具以所述旋轉軸線中心旋轉的工序中,使所述研磨用治具沿與所述研磨介質的流動方向相同的方向旋轉。
6.根據權利要求1~4中任一項所述的振動滾磨方法,其中,
在所述研磨槽內使研磨介質流動的工序中,使研磨介質以在所述研磨槽內描繪圓弧狀的軌跡的方式流動,
使所述研磨用治具以所述旋轉軸線為中心旋轉的工序包含:使所述研磨用治具沿與所述研磨介質的流動方向相同的方向旋轉的工序;和使所述研磨用治具沿與所述研磨介質的流動方向相反的方向旋轉的工序。
7.一種振動滾磨系統,其中,具備:
研磨槽;
保持工件的研磨用治具;
在所述研磨槽內支承所述研磨用治具并能夠改變所述研磨用治具的高度方向的位置的定位部;以及
使所述研磨用治具以旋轉軸線為中心旋轉的轉動部。
8.根據權利要求7所述的振動滾磨系統,其中,
還具備使所述研磨用治具沿水平方向移動的移動部,
所述定位部、所述轉動部以及所述移動部一體地設置。
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