[發(fā)明專利]具有硅襯底的高速光發(fā)射機在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780019883.2 | 申請日: | 2017-02-08 |
| 公開(公告)號: | CN108885320A | 公開(公告)日: | 2018-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李國良;斯蒂芬·B·克拉蘇利克;S·德賽 | 申請(專利權(quán))人: | 斯考皮歐技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02B6/42 | 分類號: | G02B6/42;G02B6/12 |
| 代理公司: | 北京博思佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11415 | 代理人: | 林祥 |
| 地址: | 美國新*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)射機 多路復(fù)用器 激光器 調(diào)制器 光輸出 硅襯底 速率傳輸 變型 高速光 調(diào)制 芯片 | ||
400Gb/s發(fā)射機集成在硅襯底上。發(fā)射機使用四個增益芯片、十六個激光器、四個調(diào)制器以及四個多路復(fù)用器,其中四個調(diào)制器用以按25Gb/s對十六個激光器進行調(diào)制,四個多路復(fù)用器用以產(chǎn)生四個光輸出。每個光輸出可以100Gb/s的速率傳輸,以產(chǎn)生400Gb/s發(fā)射機。還描述了其他變型。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請要求2016年2月8日提交的名稱為“具有硅襯底的高速光發(fā)射機”的美國臨時申請No.62/292,633、2016年2月8日提交的名稱為“用于連接半導(dǎo)體波導(dǎo)的步進光橋”的美國臨時申請No.62/292,675和2016年2月8日提交的名稱為“用于硅光子學(xué)中的III-V芯片的寬帶后視鏡”的美國臨時申請No.62/292,636的優(yōu)先權(quán),其公開內(nèi)容通過引用并入本文中用于所有目的。
以下三個美國專利申請同時提交,并且這些申請的全部公開內(nèi)容通過引用并入本申請中用于所有目的:
2017年2月7日提交的名稱為“具有硅襯底的高速光發(fā)射機”的申請15/426,823;
2017年2月7日提交的名稱為“用于連接半導(dǎo)體波導(dǎo)的步進光橋”的申請15/426,366;和
2017年2月7日提交的名稱為“用于硅光子學(xué)中的III-V芯片的寬帶后視鏡”的申請15/426,375。
背景技術(shù)
硅集成電路(“IC”)已經(jīng)主導(dǎo)了電子技術(shù)的發(fā)展,并且多年來已經(jīng)開發(fā)出許多基于硅處理的技術(shù)。他們的不斷改進導(dǎo)致了納米級特征尺寸,納米級特征尺寸對于制造金屬氧化物半導(dǎo)體CMOS電路非常重要。另一方面,硅不是直接帶隙材料。盡管已經(jīng)開發(fā)了包括III-V半導(dǎo)體材料的直接帶隙材料,但是本領(lǐng)域仍需要與利用硅襯底的光子IC相關(guān)的改進方法和系統(tǒng)。本申請涉及光發(fā)射機和光波導(dǎo)。更具體地,但不限于,硅中的光學(xué)激光器和/或光學(xué)波導(dǎo)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明公開了針對400Gb/s發(fā)射機的實施方式。示例實施方式包括:
·示例1:單個光輸出,具有16個不同波長,每個波長以25Gb/s(1x 16λx 25G)傳輸。
·示例2:四個光輸出,每個光輸出具有4個不同的波長,每個波長以25Gb/s(4x 4λx 25G)傳輸。
·示例3:單個光輸出,具有8個不同波長,每個波長以50Gb/s(1x 8λx 50G)傳輸。
·示例4:單個光輸出,具有4個不同波長,每個波長以100Gb/s(1x 4λx 100G)傳輸。
在一些實施方式中,示例1、示例2、示例3和示例4中的每一個都具有用于激光器的四個芯片和/或用于調(diào)制器的四個芯片。在一些實施方式中,每個芯片的多個波導(dǎo)用于減少發(fā)射機中使用的芯片的數(shù)量。
在一些實施方式中,半導(dǎo)體芯片包括第一脊和第二脊;第一脊被配置為在半導(dǎo)體芯片中引導(dǎo)第一光模(optical mode);第二脊被配置為在半導(dǎo)體芯片中引導(dǎo)第二光模。在一些實施方式中,第一光模由第一激光器產(chǎn)生;第二光模由第二激光器產(chǎn)生;和/或半導(dǎo)體芯片是增益芯片或調(diào)制器芯片。
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