[發明專利]非水性鎢相容性金屬氮化物選擇性蝕刻劑和清潔劑

有效

• 申請號: 201780019489.9
• 申請日: 2017-03-23
• 公開（公告）號: CN109642159B
• 公開（公告）日: 2022-02-15
• 發明（設計）人: C-p·S·許;S·C-y·邱;C-h·W·韋;M·Y·吳
• 申請（專利權）人: 安萬托特性材料有限公司
• 主分類號: C09K13/08
• 分類號: C09K13/08;C11D7/50
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳文平;黃海波

1.一種用于微電子應用的非水性清潔組合物，包含0.01％至5.0％重量的氟化物活化劑、0.01％至20.00％重量的至少一種氧化劑、80.00％至99.90％重量的無水有機溶劑，其中所述清潔組合物的pH等于或小于5.5，其中所述氧化劑是硝酸，所述無水有機溶劑是環丁砜，并且所述氟化物活化劑是氟化氫(HF)或氟硼酸(HBF₄)。

2.根據權利要求1所述的非水性清潔組合物，其中所述清潔組合物還具有蝕刻能力。

3.根據權利要求1所述的非水性清潔組合物，其中所述清潔組合物與鎢和低κ電介質基材相容。

4.根據權利要求1所述的非水性清潔組合物，其包含0.05％至1.00％重量的氟化物活化劑、0.01％至5.00％重量的至少一種氧化劑、和85.00％至99.90％重量的無水有機溶劑。

5.根據權利要求1所述的非水性清潔組合物，其包含0.10％至0.50％重量的氟化物活化劑、0.01％至2.00％重量的至少一種氧化劑、和90.00％至99.00重量％的無水有機溶劑。

6.根據權利要求1所述的非水性清潔組合物，其還包含共溶劑。

7.根據權利要求1所述的非水性清潔組合物，其還包含一種或多種選自以下的成分：pH調節劑、胺、酸、腐蝕控制劑和表面活性劑。