[發明專利]具有高剛度基材的反射光學元件

在審

• 申請號: 201780018178.0
• 申請日: 2017-03-16
• 公開（公告）號: CN108780161A
• 公開（公告）日: 2018-11-09
• 發明（設計）人: J·S·薩瑟蘭;L·G·萬博爾特;K·S·伍達得
• 申請（專利權）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: G02B1/02
• 分類號: G02B1/02;G02B5/08
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 高宏偉;樂洪詠

1.一種光學元件，其包含：

基底基材，所述基底基材包含非氧化物陶瓷；以及

石墨層，所述石墨層與所述基底基材直接或間接接觸。

2.如權利要求1所述的光學元件，其特征在于，所述非氧化物陶瓷包含碳化物。

3.如權利要求2所述的光學元件，其特征在于，所述碳化物包含碳化硼或碳化硅。

4.如權利要求1或2所述的光學元件，其特征在于，所述非氧化物陶瓷具有至少4.0×10⁸lb_f-in/lb_m的比剛度。

5.如權利要求1～4中任一項所述的光學元件，其特征在于，所述石墨層包含金剛石車削表面。

6.如權利要求1～5中任一項所述的光學元件，其特征在于，所述石墨層包含小于的rms表面粗糙度。

7.如權利要求1～6中任一項所述的光學元件，其特征在于，還包含金屬化層。

8.如權利要求7所述的光學元件，其特征在于，所述金屬化層與所述石墨層直接接觸。

9.如權利要求7所述的光學元件，其特征在于，所述金屬化層包含Si。

10.如權利要求1～9中任一項所述的光學元件，其特征在于，還包含焊料層。

11.如權利要求10所述的光學元件，其特征在于，所述焊料層包含Ti或稀土元素。

12.如權利要求10或11所述的光學元件，其特征在于，所述焊料層具有低于225℃的熔點。

13.如權利要求10～12中任一項所述的光學元件，其特征在于，所述焊料層與所述基底基材直接接觸。

14.如權利要求10～13中任一項所述的光學元件，其特征在于，還包含與所述石墨層直接接觸的第一金屬化層。

15.如權利要求14所述的光學元件，其特征在于，所述焊料層與所述第一金屬化層直接接觸。

16.如權利要求14或15所述的光學元件，其特征在于，還包含與所述基底基材直接接觸的第二金屬化層。

17.如權利要求16所述的光學元件，其特征在于，所述焊料層與所述第二金屬化層直接接觸。

18.如權利要求1～17中任一項所述的光學元件，其特征在于，還包含與所述石墨層直接接觸的金屬層。

19.如權利要求18所述的光學元件，其特征在于，所述金屬層具有金剛石車削表面。

20.如權利要求1～19中任一項所述的光學元件，其特征在于，還包含位于所述石墨層與所述基底基材之間的有機粘合劑層。

21.如權利要求1～20中任一項所述的光學元件，其特征在于，還包含位于所述石墨層上的反射層。

22.一種制造光學元件的方法，所述方法包括：

將精整層組裝件接合至基底基材組裝件，所述精整層組裝件包含石墨層，所述基底基材組裝件包含基底基材，所述基底基材包含非氧化物陶瓷。

23.如權利要求22所述的方法，其特征在于，所述非氧化物陶瓷是碳化物。