[發明專利]對焦位置檢測裝置及對焦位置檢測方法有效
| 申請號: | 201780017400.5 | 申請日: | 2017-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN108780209B | 公開(公告)日: | 2021-01-26 |
| 發明(設計)人: | 田中康一;張貽彤;藤川哲也 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | G02B7/36 | 分類號: | G02B7/36;G03B7/093;G03B13/36;G03B15/00;H04N5/232 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 高迪 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 對焦 位置 檢測 裝置 方法 | ||
1.一種對焦位置檢測裝置,其具備:
對比度評價值計算機構,根據一邊沿著光軸方向在搜索范圍內移動聚焦透鏡一邊以所設定的曝光時間對被攝體進行多次拍攝來獲得的多個圖像數據計算各個對比度評價值;及
對焦位置計算機構,根據多次拍攝時的各個聚焦位置與通過所述對比度評價值計算機構計算出的對比度評價值計算對焦位置,
該對焦位置檢測裝置的特征在于,具備:
檢測機構,檢測大氣波動;及
曝光時間設定機構,將所述檢測機構檢測到所述大氣波動時的曝光時間設定得比未檢測所述大氣波動時的曝光時間長。
2.根據權利要求1所述的對焦位置檢測裝置,其具備:
標準對比度評價值計算機構,根據一邊針對第1搜索范圍沿著光軸方向移動所述聚焦透鏡一邊以未檢測所述大氣波動時的曝光時間對所述被攝體進行多次拍攝來獲得的多個圖像數據計算各個對比度評價值;
第1對焦位置計算機構,根據基于所述標準對比度評價值計算機構的所述多次拍攝時的各個聚焦位置與通過所述標準對比度評價值計算機構計算出的對比度評價值計算第1對焦位置;
波動對比度評價值計算機構,所述檢測機構檢測到所述大氣波動時,根據一邊針對包含所述第1對焦位置且比所述第1搜索范圍狹窄的第2搜索范圍,沿著光軸方向移動所述聚焦透鏡一邊以檢測到所述大氣波動時的曝光時間對所述被攝體進行多次拍攝來獲得的多個圖像數據計算各個對比度評價值;及
第2對焦位置計算機構,根據基于所述波動對比度評價值計算機構的所述多次拍攝時的各個聚焦位置與通過所述波動對比度評價值計算機構計算出的對比度評價值計算對焦位置。
3.根據權利要求2所述的對焦位置檢測裝置,其中,
使所述波動對比度評價值計算機構中的搜索寬度比所述標準對比度評價值計算機構中的搜索寬度短。
4.一種對焦位置檢測裝置,其特征在于,具備:
第1對比度評價值計算機構,根據一邊針對第1搜索范圍沿著光軸方向移動聚焦透鏡一邊以所設定的曝光時間對被攝體進行多次拍攝來獲得的多個圖像數據計算各個對比度評價值;
第1對焦位置計算機構,根據所述第1對比度評價值計算機構中的所述多次拍攝時的各個聚焦位置與所述計算出的對比度評價值計算第1對焦位置;
驅動機構,向所述第1對焦位置驅動所述聚焦透鏡;
第2對比度評價值計算機構,根據在所述第1對焦位置以所述所設定的曝光時間對所述被攝體進行多次拍攝來獲得的多個圖像數據計算各個對比度評價值;
時間變動檢測機構,檢測在所述第2對比度評價值計算機構中計算出的多個所述對比度評價值的時間變動;
判斷機構,根據所述時間變動的檢測結果判斷所述對比度評價值中有無大氣波動的影響;
曝光時間設定機構,判斷為存在所述大氣波動的影響時,將曝光時間設定得比所述所設定的曝光時間長;
第3對比度評價值計算機構,判斷為存在所述大氣波動的影響時,根據一邊針對包含所述第1對焦位置且比所述第1搜索范圍狹窄的第2搜索范圍,沿著光軸方向移動所述聚焦透鏡一邊以通過所述曝光時間設定機構設定的曝光時間對所述被攝體進行多次拍攝來獲得的多個圖像數據計算各個對比度評價值;及
第2對焦位置計算機構,根據所述第3對比度評價值計算機構中的所述多次拍攝時的各個聚焦位置與所述計算出的對比度評價值計算第2對焦位置。
5.根據權利要求2至4中任一項所述的對焦位置檢測裝置,其中,
將所述第2搜索范圍的中心位置設為所述第1對焦位置。
6.根據權利要求4所述的對焦位置檢測裝置,其中,
使所述第3對比度評價值計算機構中的搜索寬度比所述第2對比度評價值計算機構中的搜索寬度短。
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