[發(fā)明專利]用于惰性氣體殼體的氣體清潔裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201780016396.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-04-07 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108778465B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-08-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | T·布爾特曼;G·施普賴策;H·J·懷斯阿舍;C·呂貝科爾 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 布勞恩惰性氣體系統(tǒng)有限公司;布勞恩惰性氣體系統(tǒng)(上海)有限公司 |
| 主分類號(hào): | B01D53/04 | 分類號(hào): | B01D53/04;B01L1/04;B01D53/26;F24F3/16 |
| 代理公司: | 北京市路盛律師事務(wù)所 11326 | 代理人: | 馬飛;吳召玲 |
| 地址: | 德國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 惰性氣體 殼體 氣體 清潔 裝置 | ||
1.用于惰性氣體殼體的氣體清潔裝置,所述氣體清潔裝置具有基礎(chǔ)模塊(10)和至少一個(gè)擴(kuò)展模塊(60),
其中,在所述基礎(chǔ)模塊(10)中且在所述擴(kuò)展模塊(60)中分別布置至少一個(gè)反應(yīng)器(15.1、15.2)以便清潔來(lái)自所述惰性氣體殼體的氣體流,
且其中,所述基礎(chǔ)模塊(10)的至少一個(gè)反應(yīng)器(15.1、15.2)與所述擴(kuò)展模塊(60)的至少一個(gè)反應(yīng)器(15.1、15.2)經(jīng)由進(jìn)氣管路(11)和第一排氣管路(19)彼此并聯(lián)和/或串聯(lián);
所述基礎(chǔ)模塊(10)和所述擴(kuò)展模塊(60)的進(jìn)氣管路(11)和第一排氣管路(19)具有連接端(11.1、19.1),借助所述連接端能聯(lián)接所述基礎(chǔ)模塊(10)和所述擴(kuò)展模塊(60)的進(jìn)氣管路(11)和/或第一排氣管路(19),
和/或能聯(lián)接所述擴(kuò)展模塊(60)的進(jìn)氣管路(11)和/或第一排氣管路(19);
所述基礎(chǔ)模塊(10)和至少一個(gè)擴(kuò)展模塊(60)分別具有第二排氣管路(50),所述第二排氣管路連接在反應(yīng)器(15.1、15.2)上,且經(jīng)由所述第二排氣管路將在反應(yīng)器(15.1、15.2)中清潔出來(lái)的物質(zhì)從反應(yīng)器(15.1、15.2)中排走,
且所述基礎(chǔ)模塊(10)和所述擴(kuò)展模塊(60)的第二排氣管路(50)經(jīng)由接口(50.1)彼此連接,以便集中排走物質(zhì)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體清潔裝置,其特征在于,所述基礎(chǔ)模塊(10)和所述擴(kuò)展模塊(60)構(gòu)造成能單獨(dú)操作的殼體單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣體清潔裝置,其特征在于,所述基礎(chǔ)模塊(10)和/或所述擴(kuò)展模塊(60)具有框架(20),所述框架由豎向構(gòu)型(21)和水平構(gòu)型組成,
且其中,所述框架(20)的側(cè)面的至少一部分借助面板零件封閉或能封閉。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣體清潔裝置,其特征在于,所述基礎(chǔ)模塊(10)形成有順序連接側(cè),所述擴(kuò)展模塊(60)能以一個(gè)順序連接側(cè)安裝在所述基礎(chǔ)模塊的順序連接側(cè)上,
和/或所述擴(kuò)展模塊(60)在相對(duì)側(cè)上形成有順序連接側(cè),以便順序連接其他的擴(kuò)展模塊(60)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣體清潔裝置,其特征在于,從所述基礎(chǔ)模塊(10)和/或至少一個(gè)擴(kuò)展模塊(60)的進(jìn)氣管路(11)中引出支線管路(11.2),所述支線管路間接地或直接地引至反應(yīng)器(15.1、15.2)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體清潔裝置,其特征在于,在所述支線管路(11.2)和所述反應(yīng)器(15.1、15.2)之間布置過(guò)濾器(12)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣體清潔裝置,其特征在于,至少所述基礎(chǔ)模塊(10)和/或擴(kuò)展模塊(60)具有測(cè)量單元(13),所述測(cè)量單元具有氧氣傳感器(13.1)、體積流傳感器(13.2)和/或濕氣傳感器(13.3)、和/或溶劑傳感器,以便測(cè)量在流動(dòng)方向上在反應(yīng)器(15.1、15.2)之前的氣體流。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣體清潔裝置,其特征在于,所述基礎(chǔ)模塊(10)和/或至少一個(gè)擴(kuò)展模塊(60)具有兩個(gè)反應(yīng)器(15.1、15.2),
且借助調(diào)節(jié)單元能使兩個(gè)反應(yīng)器(15.1、15.2)中的一個(gè)與所述進(jìn)氣管路(11)和所述第一排氣管路(19)接通引導(dǎo)流動(dòng)的連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣體清潔裝置,其特征在于,為所述基礎(chǔ)模塊(10)和/或至少一個(gè)擴(kuò)展模塊(60)分配鼓風(fēng)機(jī)(17),以便使氣體流輸送經(jīng)過(guò)反應(yīng)器(15.1、15.2)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣體清潔裝置,其特征在于,所述反應(yīng)器(15.1、15.2)構(gòu)造在所述基礎(chǔ)模塊(10)中和/或構(gòu)造在至少一個(gè)擴(kuò)展模塊(60)中,以便從氣體流中至少部分地除去氧氣和/或水,或以便從氣體流中至少部分地除去溶劑。
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