[發(fā)明專利]光源裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201780015232.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-03-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108779897A | 公開(公告)日: | 2018-11-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 春日井秀紀(jì);深草雅春;古賀稔浩;長崎純久;山中一彥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 松下知識(shí)產(chǎn)權(quán)經(jīng)營株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | F21K9/20 | 分類號(hào): | F21K9/20;F21K9/64;F21S41/16;F21S41/20;F21W102/13;F21W107/10;F21Y115/30 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 高穎 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 波長轉(zhuǎn)換區(qū)域 激勵(lì)光 半導(dǎo)體發(fā)光元件 波長轉(zhuǎn)換效率 波長轉(zhuǎn)換元件 光源裝置 主光線 入射 聚光光學(xué)系統(tǒng) 聚光 射出 照射 配置 | ||
1.一種光源裝置,具備:
半導(dǎo)體發(fā)光元件;
聚光光學(xué)系統(tǒng),對(duì)從所述半導(dǎo)體發(fā)光元件射出的激勵(lì)光進(jìn)行聚光;以及
波長轉(zhuǎn)換元件,具備波長轉(zhuǎn)換部,由所述激勵(lì)光照射,對(duì)所述激勵(lì)光的至少一部分進(jìn)行波長轉(zhuǎn)換,射出波長轉(zhuǎn)換后的光,
所述波長轉(zhuǎn)換元件,具備:
第一波長轉(zhuǎn)換區(qū)域,包括所述波長轉(zhuǎn)換部的一部分,所述激勵(lì)光之中的由所述聚光光學(xué)系統(tǒng)聚光的主光線入射到所述第一波長轉(zhuǎn)換區(qū)域;以及
第二波長轉(zhuǎn)換區(qū)域,包括所述波長轉(zhuǎn)換部的所述一部分以外的部分,被配置在所述第一波長轉(zhuǎn)換區(qū)域的周邊,所述主光線以外的所述激勵(lì)光入射到所述第二波長轉(zhuǎn)換區(qū)域,
所述第二波長轉(zhuǎn)換區(qū)域的波長轉(zhuǎn)換效率,比所述第一波長轉(zhuǎn)換區(qū)域的波長轉(zhuǎn)換效率低。
2.如權(quán)利要求1所述的光源裝置,
所述波長轉(zhuǎn)換部包括,以稀土元素激活的熒光材料,
所述熒光材料,吸收所述激勵(lì)光的至少一部分,將波長與所述激勵(lì)光不同的熒光作為所述波長轉(zhuǎn)換后的光射出。
3.如權(quán)利要求1或2所述的光源裝置,
所述波長轉(zhuǎn)換部包括,使所述主光線擴(kuò)散的擴(kuò)散材料。
4.如權(quán)利要求1至3的任一項(xiàng)所述的光源裝置,
所述第二波長轉(zhuǎn)換區(qū)域的所述波長轉(zhuǎn)換部的厚度,比所述第一波長轉(zhuǎn)換區(qū)域的所述波長轉(zhuǎn)換部的厚度薄。
5.如權(quán)利要求1至4的任一項(xiàng)所述的光源裝置,
所述波長轉(zhuǎn)換元件具備光衰減部,該光衰減部減少從所述第二波長轉(zhuǎn)換區(qū)域射出的光量。
6.如權(quán)利要求5所述的光源裝置,
所述光衰減部,使所述激勵(lì)光透過,并且,使從所述波長轉(zhuǎn)換部射出的波長轉(zhuǎn)換后的光反射。
7.如權(quán)利要求5所述的光源裝置,
所述光衰減部,將所述激勵(lì)光以及從所述波長轉(zhuǎn)換部射出的光的至少一方吸收,并轉(zhuǎn)換為熱。
8.如權(quán)利要求5至7的任一項(xiàng)所述的光源裝置,
在所述光衰減部的與所述第一波長轉(zhuǎn)換區(qū)域?qū)?yīng)的位置形成有開口部。
9.如權(quán)利要求8所述的光源裝置,
所述開口部的直徑為,所述波長轉(zhuǎn)換部的所述主光線入射的面的所述主光線的亮點(diǎn)直徑以上。
10.如權(quán)利要求1至9的任一項(xiàng)所述的光源裝置,
所述波長轉(zhuǎn)換元件具備,形成有凹部的支撐部件,
所述波長轉(zhuǎn)換部,被配置在所述凹部以及所述凹部的周邊。
11.如權(quán)利要求10所述的光源裝置,
所述波長轉(zhuǎn)換部之中的被配置在所述凹部的部分的表面凹陷。
12.如權(quán)利要求1至11的任一項(xiàng)所述的光源裝置,
所述聚光光學(xué)系統(tǒng)具備光學(xué)元件,該光學(xué)元件具有由光學(xué)上不連續(xù)的界面連接的多個(gè)區(qū)域,
所述主光線,從所述光學(xué)元件的所述多個(gè)區(qū)域入射到所述波長轉(zhuǎn)換部。
13.如權(quán)利要求1至12的任一項(xiàng)所述的光源裝置,
所述聚光光學(xué)系統(tǒng)具備,傳播所述主光線的光纖。
14.如權(quán)利要求1至13的任一項(xiàng)所述的光源裝置,
所述主光線從斜方向入射到所述波長轉(zhuǎn)換部的表面。
15.如權(quán)利要求14所述的光源裝置,
所述波長轉(zhuǎn)換元件,在所述第二波長轉(zhuǎn)換區(qū)域具備凸部,所述表面的所述主光線的反射光照射到所述凸部。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于松下知識(shí)產(chǎn)權(quán)經(jīng)營株式會(huì)社,未經(jīng)松下知識(shí)產(chǎn)權(quán)經(jīng)營株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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