[發(fā)明專(zhuān)利]離子交換膜及其制造方法以及包含該膜的儲(chǔ)能裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780014559.1
• 申請(qǐng)日: 2017-03-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109071851A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-12-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金娜玲;李瞳熏;廉承輯
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 可隆工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): C08J5/22
• 分類(lèi)號(hào): C08J5/22;H01M8/18
• 代理公司: 北京海智友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11455
• 代理人: 吳京順

1.一種離子交換膜，包括：

多孔性支承體，具有多個(gè)孔隙；

離子導(dǎo)電體，填充于所述多孔性支承體的孔隙；以及

二氧化硅涂層，位于所述多孔性支承體的表面，且含有二氧化硅和離子導(dǎo)電體。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子交換膜，其中，

所述多孔性支承體的孔隙中還含有與所述離子導(dǎo)電體混合的二氧化硅。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的離子交換膜，其中，

相對(duì)于所述二氧化硅涂層中含有的二氧化硅100重量份，所述多孔性支承體的孔隙中含有的二氧化硅為10重量份以下。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子交換膜，其中，

所述二氧化硅涂層的表面具有由多個(gè)溝槽規(guī)則或不規(guī)則地形成的圖案。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子交換膜，其中，

所述二氧化硅涂層的表面上形成有微細(xì)的凹凸而具有表面粗糙度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子交換膜，其中，

所述二氧化硅涂層的表面包括利用氟氣進(jìn)行處理后的表面。

7.一種離子交換膜，包括：

多孔性支承體，具有多個(gè)孔隙；以及

離子導(dǎo)電體，填充于所述多孔性支承體的孔隙，并在所述多孔性支承體的表面形成離子導(dǎo)電體涂層，

在所述離子交換膜中，

所述離子導(dǎo)電體涂層的表面具有由多個(gè)溝槽規(guī)則或不規(guī)則地形成的圖案。

8.一種離子交換膜，包括：

多孔性支承體，具有多個(gè)孔隙；以及

離子導(dǎo)電體，填充于所述多孔性支承體的孔隙，并在所述多孔性支承體的表面形成離子導(dǎo)電體涂層，

在所述離子交換膜中，

在所述離子導(dǎo)電體涂層的表面上形成微細(xì)的凹凸而具有表面粗糙度。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的離子交換膜，其中，

所述微細(xì)的凹凸的尺寸為所述離子導(dǎo)電體涂層的總厚度的0.1至20長(zhǎng)度％。

10.一種離子交換膜，包括：

多孔性支承體，具有多個(gè)孔隙；以及

離子導(dǎo)電體，填充于所述多孔性支承體的孔隙，并在所述多孔性支承體的表面形成離子導(dǎo)電體涂層，

在所述離子交換膜中，

所述離子導(dǎo)電體涂層包括利用氟氣進(jìn)行處理后的表面。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的離子交換膜，其中，

所述離子導(dǎo)電體是在主鏈中含有苯環(huán)且在所述苯環(huán)上附有離子交換基團(tuán)的烴類(lèi)聚合物，

所述離子導(dǎo)電體涂層的利用氟氣進(jìn)行處理后的表面是通過(guò)所述氟氣處理而氟在所述離子導(dǎo)電體的所述苯環(huán)上被取代。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的離子交換膜，其中，

所述離子導(dǎo)電體涂層的利用氟氣進(jìn)行處理后的表面上還含有氟類(lèi)離子導(dǎo)電體涂層。

13.根據(jù)權(quán)利要求1、權(quán)利要求7、權(quán)利要求8及權(quán)利要求10中任一項(xiàng)所述的離子交換膜，其中，

所述多孔性支承體是烴類(lèi)多孔性支承體，

所述離子導(dǎo)電體是烴類(lèi)離子導(dǎo)電體。

14.一種離子交換膜的制造方法，包括如下步驟：

將二氧化硅分散液和離子導(dǎo)電體混合而制造二氧化硅-離子導(dǎo)電體混合物；以及

在具有多個(gè)孔隙的多孔性支承體表面涂覆所述二氧化硅-離子導(dǎo)電體混合物，從而形成二氧化硅涂層。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的離子交換膜的制造方法，其中，

在形成二氧化硅涂層的步驟中，所述二氧化硅-離子導(dǎo)電體混合物填充于所述多孔性支承體的孔隙并在所述多孔性支承體的表面形成所述二氧化硅涂層。