[發明專利]透鏡用模具的制造方法及透鏡用模具有效
| 申請號: | 201780014173.0 | 申請日: | 2017-02-23 |
| 公開(公告)號: | CN108699721B | 公開(公告)日: | 2021-02-19 |
| 發明(設計)人: | 山田美穗;箕浦潔;中原隆裕 | 申請(專利權)人: | 夏普株式會社 |
| 主分類號: | C25D11/12 | 分類號: | C25D11/12;B29C33/38;B29C59/02;C25D11/04;C25D11/06;C25D11/16;C25D11/24;G02B1/118;G02B3/00;B29L11/00 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334 | 代理人: | 汪飛亞;習冬梅 |
| 地址: | 日本國大*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 透鏡 模具 制造 方法 | ||
1.一種透鏡用模具的制造方法,該透鏡用模具于表面具有至少一個反轉后的光學曲面,其特征在于包含如下工序:
(a)準備表面具有多個反轉后的光學曲面以及所述多個反轉后的光學曲面之間的平面部的、圓柱狀或圓筒狀的鋁基材;
(b)通過對所述鋁基材的表面進行陽極氧化,形成具有多個微細的凹部的多孔氧化鋁層;以及
(c)在所述工序(b)后,通過使所述多孔氧化鋁層與蝕刻液接觸,使所述多孔氧化鋁層的所述多個微細的凹部擴大,
還包含工序(d),該工序(d)在所述工序(c)后,從所述鋁基材切割出包含所述多個反轉后的光學曲面中的至少一個反轉后的光學曲面的部分,
還包含工序(b1),該工序(b1)在所述工序(b)之前,對形成于所述鋁基材的表面的所述多個反轉后的光學曲面實施機械加工或電解加工,
從所述鋁基材的所述表面的法線方向觀察時,所述多個反轉后的光學曲面的二維大小為1mm以上,所述多個反轉后的光學曲面彼此不接觸。
2.根據權利要求1所述的透鏡用模具的制造方法,其特征在于:
在所述工序(a)中,周期性地形成所述多個反轉后的光學曲面。
3.根據權利要求1所述的透鏡用模具的制造方法,其特征在于:
所述多個反轉后的光學曲面的鄰接間距為1mm以上。
4.根據權利要求1所述的透鏡用模具的制造方法,其特征在于:
所述工序(b)是在使所述鋁基材的表面與電解液接觸的狀態下,對與所述鋁基材的表面電連接的陽極、和設置于所述電解液內的陰極之間施加電壓,由此,形成具有微細的凹部的多孔氧化鋁層的工序,其包含如下工序,
使所述電壓上升至目標值;以及
在使所述電壓上升至所述目標值之前,使所述電壓上升至低于所述目標值的第一峰值,然后,使所述電壓下降至低于所述第一峰值的值。
5.根據權利要求4所述的透鏡用模具的制造方法,其特征在于:
在使所述電壓下降至低于所述第一峰值的值的工序中,使所述電壓實質上下降至零。
6.根據權利要求1所述的透鏡用模具的制造方法,其特征在于:
還包含工序(e),該工序(e)在所述工序(c)后,對所述多孔氧化鋁層的表面進行脫模處理。
7.根據權利要求1所述的透鏡用模具的制造方法,其特征在于:
其還包含工序(b2),該工序(b2)在所述工序(b)之前,在比電阻值為1MΩ·cm以下的水或水溶液中,將所述鋁基材的表面作為陰極,對所述表面與相向電極之間進行通電處理。
8.一種透鏡用模具的制造方法,該透鏡用模具于表面具有至少一個反轉后的光學曲面,其特征在于包含如下工序:
(a)準備模具基材,所述模具基材具有圓柱狀或圓筒狀的鋁基材和支撐所述鋁基材且表面具有多個反轉后光學曲面以及所述多個反轉后的光學曲面之間的平面部的鋁層;
(b)通過對所述鋁層的表面進行陽極氧化,形成具有多個微細的凹部的多孔氧化鋁層;以及
(c)在所述工序(b)后,通過使所述多孔氧化鋁層與蝕刻液接觸,使所述多孔氧化鋁層的所述多個微細的凹部擴大,
還包含工序(d),該工序(d)在所述工序(c)后,從所述模具基材切割出包含所述多個反轉后的光學曲面中的至少一個反轉后的光學曲面的部分,
所述工序(a)包含:
工序(a1),準備所述鋁基材;
工序(a2),在所述鋁基材的表面形成多個曲面部;以及
工序(a3),在所述工序(a2)中所形成的所述多個曲面部上層疊鋁,由此,形成表面具有所述多個反轉后的光學曲面的所述鋁層,
工序(a4),在所述工序(a3)之前,對形成于所述鋁基材的表面的所述多個曲面部實施機械加工或電解加工,
從所述模具基材的所述表面的法線方向觀察時,所述多個反轉后的光學曲面的二維大小為1mm以上,所述多個反轉后的光學曲面彼此不接觸。
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