[發(fā)明專利]離子傳感器以及離子濃度測定方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780013812.1 | 申請日: | 2017-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN108780060B | 公開(公告)日: | 2021-11-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 川原田洋;稻葉優(yōu)文;穆赫德·蘇克里·沙伊利·法利納·賓蒂;楢村卓朗;五十嵐圭為;新谷幸弘;小河晃太朗 | 申請(專利權(quán))人: | 學(xué)校法人早稻田大學(xué);橫河電機(jī)株式會社 |
| 主分類號: | G01N27/414 | 分類號: | G01N27/414;G01N27/30;G01N27/416 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 常海濤;孫微 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 離子 傳感器 以及 濃度 測定 方法 | ||
1.一種離子傳感器,其基于參比電極及工作電極的輸出來測定被測定液的離子濃度,其特征在于,具備:
場效應(yīng)晶體管,其作為所述工作電極發(fā)揮作用;
容器,其容納所述場效應(yīng)晶體管及所述被測定液,并且被固定為預(yù)定的電位而作為所述參比電極發(fā)揮作用,
所述容器具有在將所述場效應(yīng)晶體管浸漬在所容納的所述被測定液中時(shí),使所述場效應(yīng)晶體管與所述被測定液的液面、所述容器的側(cè)面及底面分開的容積;
由絕緣部件構(gòu)成的支撐臺,其固定在使所述場效應(yīng)晶體管與所述容器分開的位置處,并且配置在所述容器內(nèi)的底面上;以及
驅(qū)動電路,其在所述場效應(yīng)晶體管的源電極與漏電極之間產(chǎn)生電位差。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子傳感器,其特征在于,
所述場效應(yīng)晶體管中,在基板的一個(gè)主面上形成有金剛石薄膜,并且在所述金剛石薄膜上形成有所述源電極和所述漏電極。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的離子傳感器,其特征在于,
在所述場效應(yīng)晶體管的源電極及漏電極的表面上形成有保護(hù)膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的離子傳感器,其特征在于,
所述金剛石薄膜的表面附近被p型半導(dǎo)體化。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的離子傳感器,其特征在于,
作為起到所述工作電極作用的場效應(yīng)晶體管,使用離子感應(yīng)性場效應(yīng)晶體管。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的離子傳感器,其特征在于,
構(gòu)成所述離子感應(yīng)性場效應(yīng)晶體管的基板為硅基板。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的離子傳感器,其特征在于,
在所述硅基板的溝道側(cè)的主面上形成有所述金剛石薄膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的離子傳感器,其特征在于,
所述容器的內(nèi)壁面由導(dǎo)電性材料所涂敷。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的離子傳感器,其特征在于,
所述導(dǎo)電性材料由金屬、碳、導(dǎo)電性金剛石、導(dǎo)電性類金剛石碳中的至少一者構(gòu)成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的離子傳感器,其特征在于,
所述容器由絕緣性容器以及導(dǎo)電膜構(gòu)成,其中所述導(dǎo)電膜由涂敷于絕緣性容器的內(nèi)壁面的導(dǎo)電性材料構(gòu)成。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子傳感器,其特征在于,
還具備導(dǎo)電性金剛石電極,
所述參比電極電位被所述導(dǎo)電性金剛石電極固定。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的離子傳感器,其特征在于,
所述導(dǎo)電性金剛石電極的表面發(fā)生氟終端化。
13.一種離子濃度測定方法,其使用了權(quán)利要求1或2所述的離子傳感器,其特征在于,
將所述場效應(yīng)晶體管浸漬于容納在所述容器內(nèi)的所述被測定液中,
將所述場效應(yīng)晶體管的溝道區(qū)域經(jīng)由所述被測定液而與所述容器電化學(xué)連接,并且使用所述驅(qū)動電路,在使所述場效應(yīng)晶體管的源極區(qū)域與漏極區(qū)域之間產(chǎn)生電位差的狀態(tài)下,在所述源極區(qū)域與所述漏極區(qū)域之間產(chǎn)生電流,
基于所述電流來測定所述被測定液中的離子濃度。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的離子濃度測定方法,其特征在于,
將施加于所述漏極區(qū)域的電壓設(shè)為0V。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于學(xué)校法人早稻田大學(xué);橫河電機(jī)株式會社,未經(jīng)學(xué)校法人早稻田大學(xué);橫河電機(jī)株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201780013812.1/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 圖片顯示方法以及裝置以及移動終端
- ENB以及UEUL發(fā)送以及接收的方法
- X射線探測方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書架
- 護(hù)耳器以及口罩以及眼鏡





