[發明專利]罩構件、照相機及罩構件的制造方法

在審

• 申請號: 201780010389.X
• 申請日: 2017-10-26
• 公開（公告）號: CN108603948A
• 公開（公告）日: 2018-09-28
• 發明（設計）人: 內山博一;足立博史;松田佳久;山田智清
• 申請（專利權）人: 松下知識產權經營株式會社
• 主分類號: G02B1/18
• 分類號: G02B1/18;G03B11/00;B05D7/24;B32B27/30
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 吳倩

1.一種罩構件，其是照相機用的罩構件，其具備：

基材、和

形成于所述基材上的層疊薄膜層，

所述基材由樹脂構成，

所述層疊薄膜層具有由硅氧烷系丙烯酸樹脂、含有二氧化硅的丙烯酸樹脂或硅烷系丙烯酸樹脂構成的密合層、由硅烷系丙烯酸樹脂構成的親水層、及用于將所述密合層與所述親水層粘結的粘合劑即由樹脂構成的中間層，

所述密合層、所述中間層及所述親水層中所述密合層被配置于最靠近所述基材的位置。

2.根據權利要求1所述的罩構件，其中，

所述硅氧烷系丙烯酸樹脂在聚硅氧烷的一個末端具有丙烯酸樹脂。

3.根據權利要求1或2所述的罩構件，其中，

構成所述中間層的所述樹脂進一步包含無定形二氧化硅及聚硅酸鹽化合物中的至少一者。

4.根據權利要求3所述的罩構件，其中，

構成所述中間層的所述樹脂包含四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、聚硅酸乙酯、聚硅酸丁酯、甲基溶纖劑原硅酸酯、原硅酸正丙酯、及硅酸四甲酯中的至少1者。

5.根據權利要求1～4的任一項所述的罩構件，其中，

所述中間層具有親水性。

6.根據權利要求1～5的任一項所述的罩構件，其中，

所述親水層具有聚合物刷。

7.根據權利要求6所述的罩構件，其中，

所述聚合物刷具有硅烷醇基。

8.根據權利要求1～7的任一項所述的罩構件，其中，

所述中間層及所述親水層的膜厚的合計為60nm以上且180nm以下。

9.根據權利要求1～8的任一項所述的罩構件，其中，

所述密合層或所述中間層包含光吸收劑。

10.根據權利要求9所述的罩構件，其中，

所述光吸收劑包含UV吸收劑。

11.根據權利要求10所述的罩構件，其中，

所述UV吸收劑為二苯甲酮系或苯并三唑系的UV吸收劑。

12.根據權利要求9～11的任一項所述的罩構件，其中，

所述密合層或所述中間層進一步包含受阻胺系的光穩定劑。

13.根據權利要求9～12的任一項所述的罩構件，其中，

所述光吸收劑被包含于所述中間層中。

14.根據權利要求1～13的任一項所述的罩構件，其中，

構成所述基材的所述樹脂為聚碳酸酯樹脂或丙烯酸樹脂。

15.根據權利要求1～14的任一項所述的罩構件，其中，

所述基材的厚度為0.5mm以上且10mm以下。

16.根據權利要求1～15的任一項所述的罩構件，其中，

所述基材的形狀為大致半球穹頂形狀、大致圓筒形狀、大致箱型形狀或板狀。

17.根據權利要求16所述的罩構件，其中，

所述罩構件的形狀為所述大致半球穹頂形狀，所述大致半球穹頂形狀的底部的所述中間層及所述親水層的膜厚的合計與頂部的所述合計相比為1.2倍以上且2.0倍以下。

18.根據權利要求16所述的罩構件，其中，

所述罩構件的形狀為所述大致半球穹頂形狀，所述大致半球穹頂形狀的頂部的所述中間層及所述親水層的膜厚的合計與底部的所述合計相比為1.2倍以上且2.0倍以下。