[發(fā)明專利]織構(gòu)化可透氣紡織品層壓體以及由其制備的服裝

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780009664.6
• 申請日: 2017-02-03
• 公開（公告）號: CN108602303B
• 公開（公告）日: 2021-02-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: J·E·特魯巴;M·赫特尼;B·沙爾德克
• 申請（專利權(quán)）人: W.L.戈?duì)柤巴使煞萦邢薰?/a>;W.L.戈?duì)栍邢薰?/a>
• 主分類號: B32B3/28
• 分類號: B32B3/28;B32B5/02;B32B5/16;B32B5/24;B32B5/30;B32B27/06;B32B27/12;B32B27/14;B32B27/18;B32B27/28;B32B27/32;B32B27/36;B32B27/40;B32B33/00
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 江磊;蔡文清

1.一種紡織品層壓體，其包括：

水蒸氣可滲透的朝外的第一保護(hù)膜，其包括內(nèi)表面和外表面；以及

附著于所述第一保護(hù)膜內(nèi)表面的第一紡織品，其中，所述第一紡織品具有擁有高區(qū)和低區(qū)圖案的表面，其中，所述第一紡織品包括織造材料，

其中，所述第一保護(hù)膜的外表面具有表面形貌，所述表面形貌與所述第一紡織品表面上的高區(qū)和低區(qū)圖案在尺寸上協(xié)調(diào)，并且

其中，所述尺寸協(xié)調(diào)以大于或等于0.5且等于或小于100的H/V比率發(fā)生，其中，H/V比率限定為在所述第一保護(hù)膜外表面上相鄰的高區(qū)和低區(qū)之間的水平位移H相對于高區(qū)中的峰和相鄰低區(qū)中的谷之間的垂直位移V的比率；

所述紡織品層壓體還包括第二可滲透膜，在包含高區(qū)和低區(qū)的表面的相反側(cè)上第二可滲透膜附著到所述第一紡織品, 所述第二可滲透膜是防水的，所述第一保護(hù)膜不是防水的;

第二紡織品附著到第二可滲透膜，從而使第二可滲透膜成為不曝露于環(huán)境的內(nèi)層, 第二可滲透膜不與第一紡織品或第二紡織品尺寸上協(xié)調(diào)。

2.如權(quán)利要求1所述的層壓體，其特征在于，所述第一紡織品包括針織材料。

3.如權(quán)利要求1所述的層壓體，其特征在于，所述尺寸協(xié)調(diào)還以1至100的H/V比率進(jìn)行。

4.如權(quán)利要求1所述的層壓體，其特征在于，來自第一保護(hù)膜外表面的單獨(dú)直線位移總數(shù)占第一紡織品表面上單獨(dú)直線位移總數(shù)的20%以內(nèi)。

5.如權(quán)利要求1所述的層壓體，其特征在于，在第一保護(hù)膜外表面上的高區(qū)與相鄰低區(qū)的垂直位移為10至600微米。

6.如權(quán)利要求1所述的層壓體，其特征在于，表面形貌包括重復(fù)圖案。

7.如權(quán)利要求1所述的層壓體，其特征在于，第一保護(hù)膜內(nèi)表面的至少一部分圍繞第一紡織品的高區(qū)或低區(qū)中的至少一個(gè)變形。

8.如權(quán)利要求1所述的層壓體，其特征在于，第一保護(hù)膜并未壓花。

9.如權(quán)利要求1所述的層壓體，其特征在于，第一保護(hù)膜具有基本均勻的厚度。

10.如權(quán)利要求1所述的層壓體，其特征在于，第一保護(hù)膜還包含著色劑。

11.如權(quán)利要求1所述的層壓體，其特征在于，第一保護(hù)膜還包括耐磨涂層。

12.如權(quán)利要求1所述的層壓體，其特征在于，第一保護(hù)膜外表面設(shè)置有在外表面上的額外整體式和/或疏水性涂層。

13.如權(quán)利要求1所述的層壓體，其特征在于，第一保護(hù)膜包括多孔膜。

14.如權(quán)利要求13所述的層壓體，其特征在于，所述多孔膜是聚四氟乙烯、聚氨酯、共聚醚酯、聚烯烴、聚酯、或它們的組合。

15.如權(quán)利要求13所述的層壓體，其特征在于，所述多孔膜是膨脹型聚四氟乙烯。

16.如權(quán)利要求1所述的層壓體，其特征在于，第一保護(hù)膜包括整體式膜。

17.如權(quán)利要求16所述的層壓體，其特征在于，整體式膜是聚氨酯、聚醚-聚酯、或它們的組合。

18.一種服裝，其包含如權(quán)利要求1至17中任一項(xiàng)所述的紡織品層壓體。

19.如權(quán)利要求18所述的服裝，其特征在于，所述服裝選自下組：襯衫、褲子、手套、鞋子、帽子、和夾克衫。

20.如權(quán)利要求19所述的服裝，其特征在于，外表面形成了服裝曝露于環(huán)境的最外側(cè)。