[發明專利]微流體分析系統、微流體盒和進行分析的方法有效
| 申請號: | 201780009116.3 | 申請日: | 2017-01-31 |
| 公開(公告)號: | CN108698046B | 公開(公告)日: | 2021-10-22 |
| 發明(設計)人: | N·K·巴烏-馬德森;B·奧弗比 | 申請(專利權)人: | 碩騰丹麥公司 |
| 主分類號: | B01L3/00 | 分類號: | B01L3/00;G01N21/64;G01N33/52 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業知識產權代理有限公司 11280 | 代理人: | 郭廣迅;李渤 |
| 地址: | 丹麥*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 流體 分析 系統 進行 方法 | ||
1.一種微流體分析系統,其包括微流體盒和相關的微流體操作系統,所述微流體盒包括:基部,所述基部具有第一面和第二相對面并且在第一面中具有凹部;和箔,所述箔固定到基部以覆蓋凹部并且形成所述微流體盒的箔面,其中具有凹部的基部和箔形成流動通道和槽,流動通道具有長度并且包括反應部分以及上游端和下游端,其中槽與反應部分下游的流動通道流體連通,并且微流體盒包括進入反應部分上游的所述流動通道的入口開口,
所述操作系統包括活塞、溫度調節元件和致動器,其定位成使得所述微流體盒的所述箔面適于定位成與所述操作系統接觸,所述反應部分極接近于所述溫度調節元件,同時所述致動器與槽部分相關聯以壓下覆蓋所述槽部分的箔,并且所述活塞在上游閥部分處與流動通道相關聯以壓下箔以封閉反應部分上游的流動通道。
2.權利要求1所述的微流體分析系統,其中所述操作系統適于保持所述微流體盒,使得當保持極接近于所述溫度調節元件時,至少反應部分是傾斜的。
3.權利要求1所述的微流體分析系統,其中所述微流體盒的所述基部基本上是平面的,所述操作系統適于保持所述微流體盒,使得基部相對于水平面傾斜。
4.權利要求1所述的微流體分析系統,其中進入所述流動通道的所述入口開口布置在所述上游端。
5.權利要求1所述的微流體分析系統,其中緊鄰入口的所述流動通道具有從箔面俯視觀看到的寬度,其小于入口開口的寬度。
6.權利要求1所述的微流體分析系統,其中所述槽具有從箔面俯視觀看到的寬度,所述寬度大于流動通道的最大寬度。
7.權利要求1所述的微流體分析系統,其中所述槽的體積是流動通道的總體積的至少0.5倍。
8.權利要求1所述的微流體分析系統,其中所述流動通道的所述閥部分包括閥座。
9.權利要求8所述的微流體分析系統,其中所述閥座包括在基部的第一表面處的嵴結構,其中嵴結構從所述凹部中的基部的第一表面突出,并且跨過所述凹部的至少部分,并且其中所述嵴結構在基本垂直于所述流動通道的方向上延伸。
10.權利要求8或權利要求9所述的微流體分析系統,其中所述閥座包括密封件,用于當被所述活塞的所述活塞頭壓下時密封箔。
11.權利要求1所述的微流體分析系統,其中流動通道的所述閥部分的寬度大于流動通道的最小寬度。
12.權利要求1所述的微流體分析系統,其中所述活塞包括活塞頭,所述活塞頭被成形為在所述流動通道的所述閥部分處與所述凹部配合以封閉所述流動通道。
13.權利要求1所述的微流體分析系統,其中所述流動通道沒有任何穿過基部和/或上游閥部分的下游的箔的孔口。
14.權利要求1所述的微流體分析系統,其中當所述上游閥部分被所述活塞封閉時,上游閥部分的下游的流動通道和所述槽構成封閉的體積。
15.權利要求1所述的微流體分析系統,其中所述流動通道包括下游閥部分,并且所述操作系統包括用于下游閥部分的相關的活塞。
16.權利要求1所述的微流體分析系統,其中所述反應部分具有從箔面俯視觀看到的寬度,所述寬度大于緊鄰入口的通道。
17.權利要求1所述的微流體分析系統,其中所述反應部分包括用于靶標的捕獲探針。
18.權利要求17所述的微流體分析系統,其中所述捕獲探針被固定到箔和/或固定到所述基部的第一面。
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