[發明專利]用于原子層沉積的裝置

在審

• 申請號: 201780005981.0
• 申請日: 2017-02-06
• 公開（公告）號: CN108495950A
• 公開（公告）日: 2018-09-04
• 發明（設計）人: P·索伊尼寧;M·索德蘭德;P·蒂莫寧
• 申請（專利權）人: 倍耐克有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/507;H01L21/02
• 代理公司: 北京市鑄成律師事務所 11313
• 代理人: 郗名悅;屈小春

1.一種用于根據原子層沉積原理使基底的表面經歷至少第一前體和第二前體的表面反應的裝置，所述裝置包括：

-反應腔室(1)，所述反應腔室形成反應空間(2)以用于接收在所述基底的所述表面上反應的前體氣體，

-基底支撐件(3)，所述基底支撐件用于固持所述基底，

-介電板(4)，以及

-電極(7)，所述電極耦合到電壓源(8)以在所述電極(7)上感應出電壓，從而向所述反應空間(2)產生放電，

-所述介電板(4)布置在所述基底支撐件(3)與所述電極(7)之間，使得所述反應空間(2)布置在所述基底支撐件(3)與所述介電板(4)之間，所述基底支撐件(3)能在豎直方向上移動，以使所述基底(1)在所述反應腔室(1)處于關閉狀態的處理位置與所述反應腔室(1)處于打開狀態的裝載位置之間移動，所述裝置的特征在于：所述介電板(4)能與所述基底支撐件(3)一起在所述處理位置與所述裝載位置之間移動。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中所述反應腔室(1)由彼此連接的表面形成，使得存在有底表面(1a)、頂表面(1b)和至少一個側表面(1c)，并且所述介電板(4)形成構成所述反應腔室(1)的所述表面(1a、1b、1c)之一的至少一部分。

3.根據權利要求2所述的裝置，其中所述介電板(4)形成所述反應腔室(1)的所述頂表面(1b)的至少一部分。

4.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中所述電極(7)布置成與所述介電板(4)操作性連接，以便通過所述介電板(4)向所述反應空間(2)產生放電，從而與供應到所述反應空間(2)中的前體一起產生等離子體。

5.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中所述介電板(4)由玻璃制成。

6.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中所述電極(7)布置在所述反應腔室(1)的外部。

7.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其中所述裝置還包括用于向所述反應空間(2)供應前體的至少一個前體進給通道(5)和用于從所述反應空間(2)排出前體的至少一個排出通道(6)。

8.根據權利要求7所述的裝置，其中所述至少一個前體進給通道(5)和所述至少一個排出通道(6)設置到所述側表面(1c)上。