[發(fā)明專利]圓筒形陶瓷濺射靶材及在背襯管上接合一個或多個圓筒形陶瓷濺射靶材構成的圓筒形陶瓷濺射靶在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780005879.0 | 申請日： | 2017-01-26 |
| 公開（公告）號： | CN108431293A | 公開（公告）日： | 2018-08-21 |
| 發(fā)明（設計）人： | 館野諭 | 申請（專利權）人： | JX金屬株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;C04B35/01;C04B37/02 |
| 代理公司： | 北京博雅睿泉專利代理事務所(特殊普通合伙) 11442 | 代理人： | 楊國權;李慧 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 圓筒形陶瓷 濺射靶材 色差 接合 背襯管 濺射靶 電導率 電弧 單獨設置 劃分區(qū)域 塊體特性 晶粒徑 結(jié)節(jié) 測量 | ||
1.一種圓筒形陶瓷濺射靶材，是軸向長度在210mm以下的圓筒形陶瓷濺射靶材，其特征在于：
將所述圓筒形靶材軸向等間隔分成四份，再將分成四份的區(qū)域每個在圓周方向上以0°、90°、180°和270°的間隔劃分成各個區(qū)域，在所述各個區(qū)域內(nèi)兩點的色差ΔE*ab均不到1.0。
2.一種圓筒形陶瓷濺射靶材，是軸向長度超過210mm的圓筒形陶瓷濺射靶材，其特征在于：
在從所述圓筒形陶瓷濺射靶材的一端到210mm之間，將所述圓筒形靶材軸向等間隔分成四份，再將分成四份的區(qū)域每個在圓周方向上以0°、90°、180°和270°的間隔劃分成各個區(qū)域，在所述各個區(qū)域內(nèi)兩點的色差ΔE*ab均不到1.0，
在從所述圓筒形陶瓷濺射靶材的一端超過210mm的區(qū)域內(nèi)，將所述圓筒形靶材在軸向每50mm分割一次，再將分割后的區(qū)域每個在圓周方向上以0°、90°、180°和270°的間隔劃分成各個區(qū)域，在所述各個區(qū)域內(nèi)兩點的色差ΔE*ab均不到1.0。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的圓筒形陶瓷濺射靶材，其特征在于：
在所述測量區(qū)域內(nèi)測量的相對密度均在99％以上。
4.根據(jù)權利要求1～3中任意一項所述的圓筒形陶瓷濺射靶材，其特征在于：
在所述測量區(qū)域內(nèi)測量的平均晶粒尺寸均在10μm以下。
5.根據(jù)權利要求1～4中任意一項所述的圓筒形陶瓷濺射靶材，其特征在于：
在所述測量區(qū)域內(nèi)測量的表面粗糙度均在0.5μm以下。
6.根據(jù)權利要求1～5中任意一項所述的圓筒形陶瓷濺射靶材，其特征在于：
所述圓筒形陶瓷濺射靶材由ITO、IGZO或IZO構成。
7.一種圓筒形陶瓷濺射靶，其特征在于：
將一個以上的權利要求1～6中任意一項所述的圓筒形陶瓷濺射靶材結(jié)合在背襯管上。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
