[發(fā)明專利]計(jì)算機(jī)斷層攝影X射線成像

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780003448.0
• 申請(qǐng)日: 2017-09-04
• 公開（公告）號(hào): CN108135557B
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: B·J·布倫德爾;T·克勒;R·普羅克紹
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號(hào): A61B6/00
• 分類號(hào): A61B6/00;A61B6/03
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 王英;劉炳勝

本發(fā)明涉及計(jì)算機(jī)斷層攝影X射線成像。為了提供用于重建的進(jìn)一步改進(jìn)的數(shù)據(jù)，提供了一種用于計(jì)算機(jī)斷層攝影X射線成像的系統(tǒng)(10)。所述系統(tǒng)包括數(shù)據(jù)接口(12)和處理單元(14)。所述數(shù)據(jù)接口被配置為提供針對(duì)至少第一X射線能量范圍和第二X射線能量范圍的至少第一CT X射線輻射投影數(shù)據(jù)和第二CT X射線輻射投影數(shù)據(jù)，所述第一X射線能量范圍與所述第二X射線能量范圍彼此不同。所述處理單元被配置為確定針對(duì)切片歸一化的校正，并且對(duì)所述第一CT X射線投影數(shù)據(jù)和所述第二CT X射線投影數(shù)據(jù)應(yīng)用均等切片歸一化，并且由此生成經(jīng)準(zhǔn)備的第一CT X射線投影數(shù)據(jù)和經(jīng)準(zhǔn)備的第二CT X射線投影數(shù)據(jù)。為了校正，均等切片歸一化基于外面的探測(cè)器元件的測(cè)得的數(shù)據(jù)。此外，數(shù)據(jù)接口被配置為提供經(jīng)準(zhǔn)備的第一CT X射線投影數(shù)據(jù)和經(jīng)準(zhǔn)備的第二CT X射線投影數(shù)據(jù)以供進(jìn)一步處理。在范例中，所述系統(tǒng)還包括計(jì)算機(jī)斷層攝影X射線成像采集裝置(20)，所述計(jì)算機(jī)斷層攝影X射線成像采集裝置具有被配置為生成X射線束的X射線源(22)和被配置為能量分辨X射線探測(cè)器的X射線探測(cè)器(26)以同時(shí)提供分別針對(duì)至少兩個(gè)不同的X射線能量范圍的X射線輻射投影數(shù)據(jù)。所述計(jì)算機(jī)斷層攝影X射線成像采集裝置被配置為采集針對(duì)所述至少第一X射線能量范圍和第二X射線能量范圍的所述對(duì)象的感興趣區(qū)域的至少第一CT X射線投影數(shù)據(jù)和第二CT X射線投影數(shù)據(jù)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及用于計(jì)算機(jī)斷層攝影X射線成像的系統(tǒng)和用于計(jì)算機(jī)斷層攝影X射線成像的方法，以及用于控制裝置的計(jì)算機(jī)程序單元，以及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。

背景技術(shù)

在譜計(jì)算機(jī)斷層攝影(CT)中，針對(duì)幾個(gè)能量水平或范圍探測(cè)X射線輻射，以提供增強(qiáng)的圖像投影數(shù)據(jù)用于重建圖像。在譜CT成像中，當(dāng)組合若干幅投影數(shù)據(jù)圖像時(shí)，作為預(yù)處理流程，可以提供調(diào)整。例如，US 2016/0225169描述了一種局部調(diào)整正則化參數(shù)的方法，用于完全3D迭代的CT重建中的圖像質(zhì)量?jī)?yōu)化。這可能基于圖像測(cè)量并具有補(bǔ)償差異的目的。但是，已經(jīng)表明這可能會(huì)受到噪聲的影響。

發(fā)明內(nèi)容

可能需要針對(duì)重建提供進(jìn)一步改進(jìn)的數(shù)據(jù)。

本發(fā)明的目的通過(guò)獨(dú)立權(quán)利要求的主題來(lái)解決；在從屬權(quán)利要求中并入了另外的實(shí)施例。應(yīng)該注意，本發(fā)明的以下描述的方面也適用于：用于計(jì)算機(jī)斷層攝影X射線成像的系統(tǒng)和用于計(jì)算機(jī)斷層攝影X射線成像的方法以及用于控制設(shè)備的計(jì)算機(jī)程序單元和計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)。

根據(jù)本發(fā)明，提供了一種用于計(jì)算機(jī)斷層攝影X射線成像的系統(tǒng)。所述系統(tǒng)包括數(shù)據(jù)接口和處理單元。所述數(shù)據(jù)接口被配置為提供對(duì)象的針對(duì)至少第一X射線能量范圍和第二X射線能量范圍的至少第一CT X射線輻射投影數(shù)據(jù)和第二CT X射線輻射投影數(shù)據(jù)，所述第一X射線能量范圍與所述第二X射線能量范圍彼此不同。所述對(duì)象的所述至少第一CT X射線輻射投影數(shù)據(jù)和第二CT X射線輻射投影數(shù)據(jù)包括來(lái)自不同角度的X射線測(cè)量結(jié)果的多個(gè)切片，以產(chǎn)生所述對(duì)象的截面圖像。所述處理單元被配置為確定針對(duì)X射線測(cè)量結(jié)果的多個(gè)切片的歸一化的校正，以關(guān)于所述第一CT X射線投影數(shù)據(jù)和所述第二CT X射線投影數(shù)據(jù)的像素強(qiáng)度值來(lái)對(duì)它們進(jìn)行改變。所述處理單元還被配置為應(yīng)用針對(duì)所述第一CT X射線投影數(shù)據(jù)和所述第二CT X射線投影數(shù)據(jù)的均等切片歸一化，其中，所述切片歸一化中的X射線測(cè)量結(jié)果中的所述多個(gè)切片的所述像素強(qiáng)度值是能改變的，使得提供對(duì)預(yù)定值的參考，并且由此生成經(jīng)準(zhǔn)備的第一CT X射線投影數(shù)據(jù)和經(jīng)準(zhǔn)備的第二CT X射線投影數(shù)據(jù)。為了校正，所述均等切片歸一化基于來(lái)自探測(cè)如下的X射線輻射的探測(cè)器區(qū)域的探測(cè)器測(cè)量的測(cè)得的數(shù)據(jù)，所述X射線輻射在成像期間未受被布置在X射線源與X射線探測(cè)器之間的輻射路徑中的所述對(duì)象影響。此外，所述數(shù)據(jù)接口被配置為提供經(jīng)準(zhǔn)備的第一CT X射線投影數(shù)據(jù)和經(jīng)準(zhǔn)備的第二CT X射線投影數(shù)據(jù)以供進(jìn)一步處理。

術(shù)語(yǔ)“未受影響”是指有意免于影響，即免于衰減。因此，X射線輻射不被對(duì)象(例如患者)衰減。X射線輻射也不被其他對(duì)象衰減，例如針對(duì)患者或設(shè)備的保持和支持裝置。

換句話說(shuō)，為了校正，均等切片歸一化基于在成像期間不受布置在輻射路徑中的對(duì)象影響的探測(cè)器測(cè)量結(jié)果的測(cè)得的數(shù)據(jù)。