[發(fā)明專利]硫化物類(lèi)聚合物、包含該聚合物的薄膜以及該薄膜的制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780002444.0
• 申請(qǐng)日: 2017-07-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107849251B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-03-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金相坤;崔炯三;張德訓(xùn)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社LG化學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): C08G75/0209
• 分類(lèi)號(hào): C08G75/0209;C08L81/02;C08G75/0245;C08J5/18
• 代理公司: 北京鴻元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327
• 代理人: 王楠楠;張?jiān)浦?/td>

1.一種聚合物，包含：

由下面的化學(xué)式1表示的第一單元；以及

由下面的化學(xué)式2表示的第二單元：

[化學(xué)式1]

[化學(xué)式2]

其中，在化學(xué)式1和化學(xué)式2中，

R1至R9彼此相同或不同，并且各自獨(dú)立地是氫、氘、鹵素基團(tuán)、被取代的或未被取代的烷基、被取代的或未被取代的環(huán)烷基、被取代的或未被取代的芳基、或者被取代的或未被取代的雜環(huán)基，或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成被取代的或未被取代的芳香族環(huán)狀基團(tuán)；

a至h各自是0至4的整數(shù)，i是0至8的整數(shù)；

當(dāng)a至i為2以上時(shí)，括號(hào)中的取代基彼此相同或不同；

m和n各自是1至1000的整數(shù)，

其中，在所述聚合物中，所述第一單元的含量大于或等于1重量％且小于或等于99重量％，所述第二單元的含量大于或等于1重量％且小于或等于99重量％。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚合物，該聚合物的重均分子量為10,000至200,000。

3.一種薄膜，該薄膜包含權(quán)利要求1或2所述的聚合物。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄膜，該薄膜通過(guò)將所述聚合物溶解在有機(jī)溶劑中并澆鑄所得物來(lái)制備。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的薄膜，其中，所述有機(jī)溶劑包括二甲基乙酰胺(DMAC)、二甲基甲酰胺(DMF)、二甲基亞砜(DMSO)、四氫呋喃(THF)和丙酮中的一種或多種類(lèi)型。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄膜，該薄膜的厚度為5μm至100μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄膜，該薄膜的折射率大于或等于1.7且小于或等于5。

8.一種薄膜的制備方法，包括：

通過(guò)將權(quán)利要求1或2所述的聚合物溶解在有機(jī)溶劑中來(lái)制備聚合物溶液；以及

通過(guò)澆鑄所述聚合物溶液來(lái)制備薄膜。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的薄膜的制備方法，其中，所述有機(jī)溶劑包括二甲基乙酰胺(DMAC)、二甲基甲酰胺(DMF)、二甲基亞砜(DMSO)、四氫呋喃(THF)和丙酮中的一種或多種類(lèi)型。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的薄膜的制備方法，其中，所述薄膜的厚度為5μm至100μm。