[發(fā)明專利]光成像裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780001105.0
• 申請日: 2017-06-19
• 公開（公告）號: CN108027522A
• 公開（公告）日: 2018-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 繩田晃史;粟屋信義;田中覺
• 申請（專利權(quán)）人: SCIVAX株式會社
• 主分類號: G02B27/22
• 分類號: G02B27/22;G02B5/124;G02B5/30
• 代理公司: 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) 31219
• 代理人: 梁海蓮;余明偉

1.一種光成像裝置，其用于形成被投影物的實像，所述光成像裝置的特征在于，具備：

偏振鏡，其使P偏光透過而反射S偏光；

相位差元件，其將所述P偏光或所述S偏光變換成圓偏光或楕圓偏光；以及

回射板，其使通過所述相位差元件的光回射。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光成像裝置，其特征在于：

所述回射板是利用金屬的反射的部件。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光成像裝置，其特征在于：

所述偏振鏡具有第一面和第二面，使從第一面?zhèn)热肷涞墓獾腜偏光透過而反射S偏光。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光成像裝置，其特征在于：

所述偏振鏡具有第一面和第二面，使從第一面?zhèn)热肷涞墓獾腜偏光透過，反射從第二面?zhèn)热肷涞墓獾腟偏光。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光成像裝置，其特征在于：

所述偏振鏡具有第一面和第二面，使從第一面?zhèn)热肷涞墓獾腜偏光透過而反射S偏光，并且反射從第二面?zhèn)热肷涞墓獾腟偏光，

所述相位差元件包括：將在所述偏振鏡反射的S偏光變換成圓偏光或楕圓偏光的第一相位差元件、以及將透過所述偏振鏡的P偏光變換成圓偏光或楕圓偏光的第二相位差元件，

所述回射板包括：使通過所述第一相位差元件的光回射的第一回射板、以及使通過所述第二相位差元件的光回射的第二回射板。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項所述的光成像裝置，其特征在于：

所述回射板的所述偏振鏡側(cè)為凹狀的曲面。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項所述的光成像裝置，其特征在于：

所述相位差元件和所述回射板的組合配置有角度不同的多組。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光成像裝置，其特征在于：

所述偏振鏡在所述第二面具有用于抑制光的反射的反射抑制單元。

9.根據(jù)權(quán)利要求1～8中任一項所述的光成像裝置，其特征在于，具備：

將光投影到所述偏振鏡的光投影單元。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光成像裝置，其特征在于：

所述光投影單元投影的光是線偏光。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光成像裝置，其特征在于，具備：

偏振鏡角度調(diào)節(jié)單元，其使所述光投影單元與所述偏振鏡相對地旋轉(zhuǎn)，調(diào)節(jié)由所述偏振鏡透過或反射的光的偏振方向。

12.根據(jù)權(quán)利要求1～11中任一項所述的光成像裝置，其特征在于，具備：

相位差元件角度調(diào)節(jié)單元，其使所述偏振鏡與所述相位差元件相對地旋轉(zhuǎn)，調(diào)節(jié)從所述偏振鏡入射所述相位差元件的光的偏振方向。

13.根據(jù)權(quán)利要求1～12中任一項所述的光成像裝置，其特征在于：

所述相位差元件及所述回射板至少形成為大于等于所述偏振鏡的大小。

14.一種光成像裝置，其特征在于，具備：

權(quán)利要求1～8中任一項所述的光成像裝置，其用于形成被投影物的實像；以及

權(quán)利要求1～8中任一項所述的光成像裝置，其用于形成所述實像的實像。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光成像裝置，其特征在于：

具備向被投影物照射光的光照射單元。