[實用新型]一種三溝水流同向Orbal氧化溝變速流態調節結構

有效

• 申請號: 201721922320.8
• 申請日: 2017-12-29
• 公開（公告）號: CN208684520U
• 公開（公告）日: 2019-04-02
• 發明（設計）人: 王先寶;張安龍
• 申請（專利權）人: 陜西科技大學
• 主分類號: C02F3/12
• 分類號: C02F3/12
• 代理公司: 西安智大知識產權代理事務所 61215
• 代理人: 段俊濤

一種三溝水流同向Orbal氧化溝變速流態調節結構，包括設置在氧化溝外側的氧化溝中溝與氧化溝外溝，在氧化溝中溝與氧化溝外溝上分別間隔設置有曝氣區與缺氧區，氧化溝中溝與氧化溝外溝之間設置有隔墻，在隔墻上的曝氣區與缺氧區交界處沿水流方向向下游開設一定寬度孔洞，原水首先進入氧化溝外溝缺氧區，水流流經外溝缺氧區與外溝曝氣區交界處，部分水流從孔洞中流出，缺氧區內導流墻將孔洞流出的水流順利導入下游中溝缺氧區，水流從外溝缺氧區不改變方向的流到中溝缺氧區，水流在中溝缺氧向下游流動，部分水流在孔洞與外導流墻、內分水墻的作用下再次進入外溝下一個外溝缺氧區，并繼續項下游流動，本實用新型具有實現氧化溝變速節能的特點。

技術領域

本實用新型涉及污水處理技術領域，尤其涉及一種三溝水流同向Orbal氧化溝變速流態調節結構。

背景技術

氧化溝工藝是一種常見的污水處理工藝，傳統氧化溝工藝采用表面曝氣設備，表面曝氣設備起到充氧、推流及攪拌的作用，為保證氧化溝系統活性污泥處于懸浮狀態，氧化溝工藝流速一般要控制在0.3m/s以上。為提高系統曝氣效率、降低運行能耗，近年來微孔曝氣系統逐漸在氧化溝工藝中推廣應用。由于布置在池底的微孔曝氣器的氣體混合提升作用，微孔曝氣區無需高流速來保持活性污泥的混合狀體，因此氧化溝微孔曝氣區高流速實際是一種能量的浪費。針對此問題，彭黨聰等人提出了變速氧化溝工藝技術，通過改變氧化溝曝氣區廊道寬度及深度，增加曝氣區過流面積，從而降低曝氣混合液流速，提出了等深變速與等寬變速氧化溝工藝。該工藝適用于新建的氧化溝污水處理工藝，而對于已建成的氧化溝工藝進行池形改造實施難度較大，成本較高。針對池形改造變速氧化溝存在的問題，金鵬康等人提出了一種不改變氧化溝池形的開孔與流態調節方法及結構及結構，通過在氧化溝缺氧區開設孔洞、設置導流墻等措施，實現混合液在缺氧區反復循環，增加缺氧區廊道流量從而改變流速。然而該工藝的實施要求氧化溝工藝必須具有獨立的缺氧區廊道，即該技術只適用于三廊道以上的Carrousel氧化溝工藝，且缺氧區廊道水流方向必須異向。對于Orbal氧化溝工藝而言，由于池形原因，Orbal氧化溝工藝不具備完全處于缺氧狀態的廊道，且一般Orbal氧化溝工藝三個廊道中水流方向相同，因此無法實現變速流態調節。

發明內容

為了克服現有技術的不足，本實用新型提供一種三溝水流同向Orbal氧化溝變速流態調節結構，實現了水流在外溝與中溝缺氧區內部的反復循環，增加缺氧區表觀流量、降低曝氣區流表觀流量，達到曝氣區低流速、缺氧區高流速的運行效果，實現氧化溝變速節能效果。

為了實現上述目的，本實用新型通過以下技術方案實現：

一種三溝水流同向Orbal氧化溝變速流態調節結構，包括設置在氧化溝外側的氧化溝中溝2與氧化溝外溝1，在氧化溝中溝2與氧化溝外溝1上分別間隔設置有曝氣區與缺氧區，所述的氧化溝中溝2與氧化溝外溝1之間設置有隔墻3，在隔墻3上的曝氣區與缺氧區交界處沿水流方向向下游開設一定寬度孔洞10。

所述的曝氣區分為外溝曝氣區5與中溝曝氣區7，所述的缺氧區分為外溝缺氧區 4與中溝缺氧區6；

所述的外溝曝氣區5與中溝缺氧區6在以同一點為圓心的扇形范圍內，所述的外溝缺氧區4與中溝曝氣區7在以同一點為圓心的扇形范圍內。

所述的孔洞10下邊緣曝氣區和孔洞上邊緣缺氧區側設置曲度異向的外分水墻8和內分水墻13、內導流墻9和外導流墻12。

所述的同一孔洞10下上邊緣設置的外分水墻8與內導流墻9分別位于孔洞10 兩側，且曲度異向。

所述的內導流墻9、內分水墻13與隔墻3曲度異向，外導流墻12、外分水墻8 與隔墻3曲度同向。

所述的外分水墻8與隔墻3上有包圍區域11，包圍區域11不設置底部曝氣盤。

所述的外溝缺氧區4與中溝缺氧區6之間的水流交替流動且不改變方向。