[實(shí)用新型]一種高透性復(fù)合鏡片

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201721908540.5
• 申請(qǐng)日: 2017-12-30
• 公開（公告）號(hào): CN207780403U
• 公開（公告）日: 2018-08-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張加富
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇優(yōu)立光學(xué)眼鏡有限公司
• 主分類號(hào): G02C7/12
• 分類號(hào): G02C7/12;G02B5/30;G02B1/14
• 代理公司: 鎮(zhèn)江京科專利商標(biāo)代理有限公司 32107
• 代理人: 夏哲華

本實(shí)用新型公開了一種鏡片結(jié)構(gòu)，具體地說(shuō)是一種高透性復(fù)合鏡片。它包括折射率為1.69?1.73的拱形結(jié)構(gòu)的基片，基片的上側(cè)表面從內(nèi)到外依次排布有上氧化硅層、上金屬氧化物凃?qū)印⑸戏榔馔繉印⑸掀衲右约吧霞佑矘渲瑢樱纳蟼?cè)表面的各個(gè)膜層的弧度依次逐漸減小，基片的下側(cè)表面從內(nèi)到外依次排布有下氧化硅層、下金屬氧化物凃?qū)印⑾路榔馔繉印⑾缕衲右约跋录佑矘渲瑢樱南聜?cè)表面的各個(gè)膜層的弧度依次逐漸減大。采用上述的結(jié)構(gòu)后，不但在高折射率大大降低了基片的厚度的基礎(chǔ)上，能夠使光線沿著各層之間的弧度減平，不但增加了高透性的效果，清晰度非常高，而且還避免了強(qiáng)光和偏光問(wèn)題，使佩戴者十分舒適。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種鏡片結(jié)構(gòu)，具體地說(shuō)是一種高透性復(fù)合鏡片。

背景技術(shù)

眼鏡逐漸成為人們生活中越來(lái)越重要的一種生活用品，現(xiàn)有的眼鏡也是多種多樣的，隨之功能也呈逐漸增多的趨勢(shì)，由此不得不增加眼鏡的厚度來(lái)具備各種功能，其厚度的增加以及功能的增多，光線透過(guò)眼鏡的層數(shù)增多必然會(huì)使其透光度降低，由此降低了佩戴的舒適度，甚至?xí)o人的眼睛帶來(lái)傷害。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種舒適度好、透光性強(qiáng)以及清晰度高的高透性復(fù)合鏡片。

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的高透性復(fù)合鏡片，包括折射率為1.69-1.73的拱形結(jié)構(gòu)的基片，基片的上側(cè)表面從內(nèi)到外依次排布有上氧化硅層、上金屬氧化物凃?qū)印⑸戏榔馔繉印⑸掀衲右约吧霞佑矘渲瑢樱涎趸鑼印⑸辖饘傺趸飪驅(qū)印⑸戏榔馔繉印⑸掀衲右约吧霞佑矘渲瑢拥幕《纫来沃饾u減小，基片的下側(cè)表面從內(nèi)到外依次排布有下氧化硅層、下金屬氧化物凃?qū)印⑾路榔馔繉印⑾缕衲右约跋录佑矘渲瑢樱卵趸鑼印⑾陆饘傺趸飪驅(qū)印⑾路榔馔繉印⑾缕衲右约跋录佑矘渲瑢拥幕《纫来沃饾u減大。

所述上氧化硅層、上金屬氧化物凃?qū)印⑸戏榔馔繉印⑸掀衲右约吧霞佑矘渲瑢拥倪吘壓穸染笥谥行暮穸龋鱿卵趸鑼印⑾陆饘傺趸飪驅(qū)印⑾路榔馔繉印⑾缕衲右约跋录佑矘渲瑢拥倪吘壓穸染∮谥行暮穸取?/p>

所述上加硬樹脂層的上表面以及下加硬樹脂層的下表面大致呈平面結(jié)構(gòu)。

采用上述的結(jié)構(gòu)后，由于設(shè)置的折射率為1.69-1.73的拱形結(jié)構(gòu)的基片以及基片兩側(cè)表面復(fù)合的氧化硅層、金屬氧化物凃?qū)印⒎榔馔繉印⑵衲右约凹佑矘渲瑢樱纱瞬坏诟哒凵渎蚀蟠蠼档土嘶暮穸鹊幕A(chǔ)上，能夠使光線沿著各層之間的弧度減平，不但增加了高透性的效果，清晰度非常高，而且還避免了強(qiáng)光和偏光問(wèn)題，使佩戴者十分舒適。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型高透性復(fù)合鏡片的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式，對(duì)本實(shí)用新型的高透性復(fù)合鏡片作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。

如圖所示，本實(shí)用新型的高透性復(fù)合鏡片，包括折射率為1.69-1.73的拱形結(jié)構(gòu)的基片1，基片1的上側(cè)表面從內(nèi)到外依次排布有上氧化硅層2、上金屬氧化物凃?qū)?、上防偏光涂層4、上偏振膜層5以及上加硬樹脂層6，上氧化硅層2、上金屬氧化物凃?qū)?、上防偏光涂層4、上偏振膜層5以及上加硬樹脂層6的弧度依次逐漸減小，基片1的下側(cè)表面從內(nèi)到外依次排布有下氧化硅層7、下金屬氧化物凃?qū)?、下防偏光涂層9、下偏振膜層10以及下加硬樹脂層11，下氧化硅層7、下金屬氧化物凃?qū)?、下防偏光涂層9、下偏振膜層10以及下加硬樹脂層11的弧度依次逐漸減大。

進(jìn)一步地，所說(shuō)的上氧化硅層2、上金屬氧化物凃?qū)?、上防偏光涂層4、上偏振膜層5以及上加硬樹脂層6的邊緣厚度均大于中心厚度，所述下氧化硅層7、下金屬氧化物凃?qū)?、下防偏光涂層9、下偏振膜層10以及下加硬樹脂層11的邊緣厚度均小于中心厚度，所說(shuō)的上加硬樹脂層6的上表面以及下加硬樹脂層11的下表面大致呈平面結(jié)構(gòu)。