[實用新型]一種新型磁控濺射鍍膜遮罩板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201721907352.0 | 申請日: | 2017-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN207958487U | 公開(公告)日: | 2018-10-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王策;劉小雨;蔣卓睿;張寬翔;陳濤;王云飛 | 申請(專利權(quán))人: | 凱盛光伏材料有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 安徽省蚌埠博源專利商標(biāo)事務(wù)所 34113 | 代理人: | 楊晉弘 |
| 地址: | 233010 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 縱向板 橫向板 磁控濺射設(shè)備 濺射鍍膜 新型磁控 螺孔 本實用新型 螺栓 現(xiàn)有設(shè)備 制造成本 遮罩板 遮罩 改造 配合 | ||
本實用新型提供一種新型磁控濺射鍍膜遮罩板,它包括橫向板(1),在橫向板(1)一側(cè)設(shè)有第一縱向板(2),在第一縱向板(2)設(shè)有與磁控濺射設(shè)備的機(jī)架對應(yīng)配合的螺孔(2a)以及螺栓(2b),其特征在于:在所述的橫向板(1)另一側(cè)設(shè)有第二縱向板(3),在第二縱向板(3)設(shè)有與磁控濺射設(shè)備的機(jī)架對應(yīng)配合的螺孔(3a)。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單、使用方便、便于在現(xiàn)有設(shè)備上改造,且改造費用低廉,有效的降低了產(chǎn)品的制造成本,增強(qiáng)企業(yè)的競爭力。
技術(shù)領(lǐng)域:
本實用新型涉及磁控濺射設(shè)備領(lǐng)域,具體地說就是一種新型磁控濺射鍍膜遮罩板。
背景技術(shù):
磁控濺射是物理氣相沉積的(Physical Vapor Deposition, PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點,而上世紀(jì)70年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)高速、低溫、低損失。因為是在低溫下進(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對電子的束縛來提高等離子體密度以增加濺射率。
膜層的均勻性是一個相當(dāng)重要的性能指標(biāo),被氫離子濺射出的靶材原子,遵從一定的角分布。也就是所有飛出的原子并非是完全沿著靶面的法線方向,而是沿任何一個方向都存在一定的幾率。濺射出的原子的角分布所遵從的統(tǒng)計規(guī)律,按照濺射的蒸發(fā)理論所提出的余弦分布可以作為一種模型,而濺射鍍膜,更多的情況下濺射出的原子的角分布不完全遵從余弦規(guī)律,為了改善薄膜的均勻性,經(jīng)常使用遮罩板來控制。
如圖1所示,將陰極4與靶材5位于一對遮罩板的橫向板上側(cè),而基片6位于橫向板下側(cè),在靶材5與基片6之間設(shè)有等離子體7。在鍍膜過程中,膜層除了沉積在基片上以外,同時也沉積在遮罩板的上表面上,隨著膜層沉積越來越多,遮罩板上的膜層越來越厚,膜層的附著力會越來越差,這樣遮罩板需要及時去進(jìn)行表面處理,把其沉積膜層去掉,其處理過程也是一個比較復(fù)雜的過程,如常規(guī)的遮罩板處理過程:分解遮罩板--->硝酸浸泡--->超高壓洗--->純水浸泡--->預(yù)干燥--->噴砂--->去毛刺--->熔射(如客戶需要)---->檢查矯正--->檢測--->高壓水洗--->純水超聲波清洗---->無塵室干燥--->檢測--->真空包裝。因此,遮罩板的處理費用也較高,這也就增加了生產(chǎn)的成本。
因此,如何在現(xiàn)有的設(shè)備上,延長遮罩板的更換時間同時又不影響產(chǎn)品的質(zhì)量,從而實現(xiàn)降低產(chǎn)品成本,進(jìn)而提高企業(yè)的競爭力,成為了企業(yè)技術(shù)工作者所面臨的問題。
實用新型內(nèi)容:
本實用新型就是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足,提供一種新型磁控濺射鍍膜遮罩板。
本實用新型提供以下技術(shù)方案:
一種新型磁控濺射鍍膜遮罩板,它包括橫向板,在橫向板端部的一側(cè)設(shè)有第一縱向板,在第一縱向板設(shè)有第一螺孔,設(shè)置螺栓通過螺栓將第一縱向板與磁控濺射設(shè)備的機(jī)架連接在一起,其特征在于:在所述的橫向板端部的另一側(cè)設(shè)有第二縱向板,在第二縱向板設(shè)有與磁控濺射設(shè)備的機(jī)架對應(yīng)配合的第二螺孔。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,還可以有以下進(jìn)一步的技術(shù)方案:
所述的第一縱向板和第二縱向板為對稱分布,且均與橫向板板面垂直。
所述的第一縱向板和第二縱向板為分體制成或一體制成結(jié)構(gòu)。
實用新型優(yōu)點:
本實用新型結(jié)構(gòu)簡單、使用方便、便于在現(xiàn)有設(shè)備上改造,且改造費用低廉,
有效的降低了產(chǎn)品的制造成本,增強(qiáng)企業(yè)的競爭力。
附圖說明:
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





