[實用新型]一種對置靶座磁控濺射裝置有效
| 申請號： | 201721899340.8 | 申請日： | 2017-12-29 |
| 公開（公告）號： | CN207727140U | 公開（公告）日： | 2018-08-14 |
| 發明（設計）人： | 顧駿;顧為民;任高潮;金浩;王德苗;馮斌 | 申請（專利權）人： | 蘇州求是真空電子有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林;俞翠華 |
| 地址： | 215300 江蘇省蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 磁控濺射 基臺座 磁控濺射靶 擋板 靶座 磁控濺射裝置 本實用新型 擋板組件 真空室 對置 夾持 壓片 等離子清洗 基片材料 夾持固定 頂表面 夾角為 隔開 減小 濺射 銳角 轟擊 | ||
【權利要求書】：
1.一種對置靶座磁控濺射裝置，其特征在于：包括磁控濺射靶座、磁控濺射基臺座、夾持壓片和擋板組件；
所述磁控濺射靶座安裝在真空室上方；
所述磁控濺射基臺座安裝在真空室下方，其與所述磁控濺射靶座之間的具有夾角，所述夾角為銳角；
所述夾持壓片設于磁控濺射基臺座的頂表面，用于夾持固定待濺射基片；
所述擋板組件包括多個擋板，其中一個擋板設于磁控濺射基臺座的上方，其余的擋板分別設于對應的磁控濺射靶座下方，用于隔開磁控濺射靶座和磁控濺射基臺座。
2.根據權利要求1所述的一種對置靶座磁控濺射裝置，其特征在于：所述對置靶座磁控濺射裝置包括至少一個磁控濺射靶座，各磁控濺射靶座沿著圓周方向均勻排布。
3.根據權利要求1所述的一種對置靶座磁控濺射裝置，其特征在于：所述擋板組件中的各個擋板的結構和尺寸均相同。
4.根據權利要求1所述的一種對置靶座磁控濺射裝置，其特征在于：所述擋板組件中設于磁控濺射基臺座的上方的擋板的結構和尺寸與設于磁控濺射靶座下方的擋板的尺寸不同。
5.根據權利要求1所述的一種對置靶座磁控濺射裝置，其特征在于：所述擋板包括相互垂直的第一段和第二段，所述第一段的長度大于第二段的長度。
6.根據權利要求1所述的一種對置靶座磁控濺射裝置，其特征在于：所述夾持壓片由石墨材料制成。
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