[實用新型]線圈盤及電磁爐

有效

• 申請號: 201721895079.4
• 申請日: 2017-12-29
• 公開（公告）號: CN207638927U
• 公開（公告）日: 2018-07-20
• 發明（設計）人: 吳玉蘭;丁韓吉;王飛
• 申請（專利權）人: 浙江紹興蘇泊爾生活電器有限公司
• 主分類號: H05B6/44
• 分類號: H05B6/44;H05B6/40
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 文小莉;黃健

本實用新型提供一種線圈盤及電磁爐，線圈盤包括：包括：線圈(10)、支架(20)和多個磁條(30)，其中：所述線圈(10)包括外環線圈(11)和位于所述外環線圈(11)內的內環線圈(12)，且所述內環線圈(12)包括至少兩個線圈單元，且每個所述線圈單元的中心與所述外環線圈(11)的中心間隔分布，本實用新型提供的線圈盤解決了現有的線圈盤加熱不均勻的技術問題。

技術領域

本實用新型涉及一種電磁爐，特別涉及一種加熱均勻的線圈盤及電磁爐。

背景技術

電磁爐是應用電磁感應加熱原理，利用電流通過線圈產生磁場，該磁場的磁力線通過鐵質鍋底部的磁條形成閉合回路時會產生無數小渦流，使鐵質鍋體的鐵分子高速運動產生熱量，然后加熱鍋中的食物。

目前，專利(CN203823834U)公開一種具有多層線圈盤的電磁爐，具體公開(如圖1所示)：電磁線盤包括線盤架10和裝于線盤架上的多層線圈盤20，多層線圈盤20包括頂部線圈盤21和底部線圈盤22，頂部線圈盤21采用單層線圈且貼近面板設置，底部線圈盤22包括至少一層線圈，并且底部線圈盤22中任意一層的線圈圈數小于頂部線圈盤21的線圈圈數，使得距離面板較近的頂部線圈盤具有較多的圈數，提高頂部線圈盤上產生的電感量，實現頂部線圈盤上產生的電感量能夠占整個線圈盤電感量較大的比例，由于頂部線圈盤21距離鍋具較近，使得電感量的衰減也相對較多，能夠降低總電感量，從而降低IGBT的反壓，能夠起到保護IGBT的作用。

然而，上述專利中，頂部線圈盤21和底部線圈盤22中的線圈數量從上到下依次減少，但是由于線圈盤的中心同樣是每一圈繞組線的中心，這樣，線圈盤的中心區域的磁場疊加，磁場密度相對較集中，對應的加熱鍋具的中心區域產生的渦流發熱量很大，使得鍋具底部中心和外圈加熱不均勻，鍋底易出現糊底問題。

實用新型內容

為了解決背景技術中提到的涉及電磁爐加熱不均勻而導致易出現糊底的至少一個問題，本實用新型提供一種加熱均勻的線圈盤及電磁爐。

本實用新型提供一種線圈盤，包括：線圈、支架和多個磁條，其中：

所述線圈包括外環線圈和位于所述外環線圈內的內環線圈，且所述內環線圈包括至少兩個線圈單元，且每個所述線圈單元的中心與所述外環線圈的中心間隔分布。

通過所述線圈包括外環線圈和位于所述外環線圈內的內環線圈，且所述內環線圈包括至少兩個線圈單元，且每個所述線圈單元的中心與所述外環線圈的中心間隔分布，這樣外環線圈和內環線圈的中心不同，線圈盤上出現至少兩個磁場中心，這樣外環線圈與內環線圈的磁場在線圈盤中心不易出現疊加，從而降低了線圈盤中心區域的磁場密度，使得線圈盤的中心區域火力不易過大，線圈盤內外圈的加熱均勻，使用時，由于線圈盤加熱均勻，所以鍋具中心區域的渦流發熱量不會很大，鍋具底部中心和外圈受熱均勻，鍋底不易出現糊底問題，因此，本實施例提供的線圈盤解決了現有線圈盤中心區域火力較大而易造成鍋具出現糊底的問題。

可選的，所述支架上表面具有可供所述線圈繞設的繞線區域，且所述繞線區域劃分為外圍區域和位于所述外圍區域內的中心區域，其中，所述外環線圈繞設在所述外圍區域上，所述內環線圈繞設在所述中心區域上。

可選的，所述磁條包括外環磁條組和內環磁條組，其中，所述外環磁條組與所述外環線圈對應，所述內環磁條組與所述內環線圈對應。

可選的，所述線圈單元的數量為兩個，且兩個所述線圈單元的中心間隔分布。

可選的，所述兩個線圈單元在所述中心區域以所述外環線圈的中心對稱設置。

可選的，所述內環磁條組包括三個磁條，且所述三個磁條呈“工”字型。

可選的，所述線圈單元的數量為三個，且三個所述線圈單元繞著所述外環線圈的中心間隔設置。