[實(shí)用新型]一種單晶制絨清洗設(shè)備中的槽體有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201721885094.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN207852622U | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-09-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃日紅;郝寶才 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇浠吉爾裝備科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 215311 江蘇省蘇州*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 底部支撐 槽體 孔板 底板 壁板 單晶制絨 清洗設(shè)備 支撐板 支撐條 花籃 蓋板系統(tǒng) 一體設(shè)置 依次設(shè)置 溢流機(jī)構(gòu) 后壁板 前壁板 鼓泡 加熱 節(jié)約 | ||
1.一種單晶制絨清洗設(shè)備中的槽體,其特征在于:包括前壁板(1)、后壁板(14)和左右壁板(4),所述槽體底部設(shè)置有第一底部支撐(7)和第二底部支撐(8),所述第一底部支撐(7)和第二底部支撐(8)上部設(shè)置有安裝于所述左右壁板(4)上的底板(6),所述底板(6)上設(shè)置有孔板支撐條(9),所述孔板支撐條(9)上設(shè)置有孔板(16)和支撐板(5),所述支撐板(5)上放置花籃,所述花籃上方依次設(shè)置有溢流機(jī)構(gòu)和蓋板系統(tǒng)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種單晶制絨清洗設(shè)備中的槽體,其特征在于:所述溢流機(jī)構(gòu)包括溢流側(cè)板(2)、溢流底板(3)和排液管(10)。
3.如權(quán)利要求1所述的一種單晶制絨清洗設(shè)備中的槽體,其特征在于:所述蓋板系統(tǒng)包括蓋板支撐(13)以及蓋板支撐(13)所支撐的蓋板,所述蓋板用于封閉所述槽體的頂部開(kāi)口。
4.如權(quán)利要求1所述的一種單晶制絨清洗設(shè)備中的槽體,其特征在于:所述槽體還包括擋板鎖板(11)和上擋板(12)。
5.如權(quán)利要求1所述的一種單晶制絨清洗設(shè)備中的槽體,其特征在于:所述槽體還包括調(diào)節(jié)板(15),所述調(diào)節(jié)板(15)連接所述孔板支撐條(9),所述孔板支撐條(9)在所述調(diào)節(jié)板(15)上進(jìn)行調(diào)節(jié),可調(diào)節(jié)所述孔板(16)的安裝高度。
6.如權(quán)利要求1所述的一種單晶制絨清洗設(shè)備中的槽體,其特征在于:所述孔板(16)表面均布有多個(gè)用于鼓泡的小孔。
7.如權(quán)利要求1所述的一種單晶制絨清洗設(shè)備中的槽體,其特征在于:在所述底板(6)和所述孔板(16)之間設(shè)置有加熱裝置。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





